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초발수 필름 시트 제조방법

  • 기술번호 : KST2016001408
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요약 본 발명은 초발수 필름 시트 제조방법에 관한 것으로서, 포토레지스트의 경화시간(baking time) 및 횟수를 조절함으로써, 실제 연잎과 같은 초발수 효과를 가지는 돌기가 형성된 구조물을 생성하고, 소수성을 가지는 투명한 재질의 폴리머인 PDMS를 코팅함으로써, 초발수성 표면을 가지는 초발수 필름 시트 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, (a) 실리콘 웨이퍼(Silicon wafer)의 표면을 클리닝하는 공정; (b) 실리콘 웨이퍼 상부에 스핀 코터(spin coater)를 이용하여 포토레지스트(photoresist: 감광제)(AZ4620)를 코팅하고, 오븐(oven)을 이용하여 소프트 베이킹(soft-baking)을 수행하는 공정; (c) 마스크 얼라이너(mask aligner)를 이용하여 상기 (b) 공정을 통해 제작된 구조물을 노광(expose)시키는 공정; (d) 포토레지스트 현상액(AZ400K)을 이용하여 현상(develop)하는 공정; (e) 상기 (d) 공정을 통해 제작된 구조물의 상부에 PDMS 몰딩(molding)을 수행하는 공정; 및 (f) 아세톤을 이용하여 포토레지스트(AZ4620)를 제거함으로써, 그 끝단에 돌기를 가지는 초발수 필름 시트를 완성하는 공정; 을 포함한다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020110072945 (2011.07.22)
출원인 전남대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1166152-0000 (2012.07.10)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20120718) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.07.22)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 전남대학교산학협력단 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이동원 대한민국 광주광역시 북구
2 고건 대한민국 전라남도 목포시
3 박승환 대한민국 광주광역시 북구
4 이사명 대한민국 광주광역시 북구
5 박종성 대한민국 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이은철 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, H비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전남대학교산학협력단 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.07.22 수리 (Accepted) 1-1-2011-0567326-38
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0823777-44
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2011.10.24 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2011.10.26 수리 (Accepted) 9-1-2011-0085599-66
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.12.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0772808-33
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0156389-10
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0244541-41
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0341628-12
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.05.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0422658-15
10 지정기간연장관련안내서
Notification for Extension of Designated Period
2012.06.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0067846-02
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.06.22 수리 (Accepted) 1-1-2012-0499268-94
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.06.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0499269-39
13 등록결정서
Decision to grant
2012.06.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0374638-88
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2012-5157698-67
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000058-61
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.06.08 수리 (Accepted) 4-1-2015-5076218-57
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.07.07 수리 (Accepted) 4-1-2016-5093177-51
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.30 수리 (Accepted) 4-1-2018-5056463-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 실리콘 웨이퍼(Silicon wafer)의 표면을 클리닝하는 공정;(b) 실리콘 웨이퍼 상부에 스핀 코터(spin coater)를 이용하여 포토레지스트(photoresist: 감광제)(AZ4620)를 코팅하고, 오븐(oven)을 이용하여 소프트 베이킹(soft-baking)을 수행하는 공정;(c) 마스크 얼라이너(mask aligner)를 이용하여 상기 (b) 공정을 통해 제작된 구조물을 노광(expose)시키는 공정;(d) 포토레지스트 현상액(AZ400K)을 이용하여 현상(develop)하는 공정; (e) 상기 (d) 공정을 통해 제작된 구조물의 상부에 PDMS 몰딩(molding)을 수행하는 공정; 및 (f) 아세톤을 이용하여 포토레지스트(AZ4620)를 제거함으로써, 그 끝단에 돌기를 가지는 초발수 필름 시트를 완성하는 공정; 을 포함하되,상기 (b) 공정에서, 상기 포토레지스트의 두께를 높이고, 포토레지스트의 끝단을 먼저 경화시킬 수 있도록, 상기 포토레지스트의 소프트 베이킹을 소정횟수 반복하고, 소프트 베이킹 시, 경화시간을 달리하는 것을 특징으로 하며,상기 (e) 공정에서, 상기 (d) 공정을 통해 제작된 구조물의 상부에 스핀 코터(spin coater)를 이용하여 PDMS를 코팅하며, 진공오븐(Vccuum oven)을 이용하여 상기 PDMS의 소프트 베이킹을 소정횟수 반복하고, 소프트 베이킹 시, 경화시간을 달리하는 것을 특징으로 하며,상기 포토레지스트는, 소정횟수의 베이킹 이후에도 내부가 완전히 경화되지 않아, 노광 및 현상 공정에 의해 끝단에 돌기형상이 나타나는 것을 특징으로 하는 초발수 필름 시트 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 (a) 공정에서, 피라냐(Pirana), RCA1, RCA2 중, 어느 하나를 이용하여 실리콘 웨이퍼(Silicon wafer)의 표면을 클리닝하는 것을 특징으로 하는 초발수 필름 시트 제조방법
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제 1 항에 있어서,상기 PDMS는,진공상태로 구조물 안으로 유입되는 것을 특징으로 하는 초발수 필름 시트 제조방법
7 7
삭제
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2 CN103814428 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 EP2736066 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
4 EP2736066 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
5 EP2736066 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
6 WO2013015562 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
7 WO2013015562 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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