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금속 산화물을 준비하는 단계; 및비활성 가스 분위기에서 상기 금속 산화물의 표면에 마이크로파를 조사하여, 상기 금속 산화물의 표면을 환원시켜, 표면부터 내부를 향한 산소 농도 구배로 표면에서 내부로 연속적인 밴드갭을 갖는 금속/세라믹 복합체를 제조하는 단계를 포함하는 금속/세라믹 복합체의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 금속 산화물의 표면에 마이크로파를 조사하는 단계는, 3분 초과 7분 미만의 시간동안 수행되는 것을 포함하는 금속/세라믹 복합체의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 금속 산화물은, 나노와이어의 형태를 갖는 것을 포함하고, 상기 금속 산화물을 준비하는 단계는, 실리콘 웨이퍼, 및 금속 분말을 로(furnace) 내부에 장입하는 단계; 및산소 가스 분위기 하에서 상기 금속 분말을 열처리하여, 상기 실리콘 웨이퍼 상에서 상기 금속 분말, 및 상기 산소 가스로부터 상기 금속 산화물을 형성하는 단계를 포함하는 금속/세라믹 복합체의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 금속 산화물은, 박막의 형태를 갖는 것을 포함하고, 상기 금속 산화물을 준비하는 단계는, 금속 전구체, 및 산소 전구체를 이용하여 원자층 증착 공정으로 실리콘 기판 상에 상기 금속 산화물을 제조하는 단계를 포함하는 금속/세라믹 복합체의 제조 방법
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제4 항에 있어서,상기 금속 전구체는, 테트라키스-디메틸아미노 주석(TDMASn)인 것을 포함하고, 상기 산소 전구체는, 물(H2O)인 것을 포함하는 금속/세라믹 복합체의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 비활성 가스는, 질소 가스 또는 아르곤 가스 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 금속/세라믹 복합체의 제조 방법
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금속 산화물을 포함하는 코어;상기 코어의 표면을 덮는 중간부; 및상기 중간부의 표면을 덮고, 금속을 포함하는 쉘을 포함하되,상기 중간부는, 상기 코어의 표면, 및 상기 쉘의 표면과 직접적으로 맞닿고, 상기 코어로부터 상기 쉘까지 연속적인 산소 농도의 구배를 갖는 것을 포함하고,상기 코어, 상기 중간부, 및 상기 쉘은, 결정 구조가 동일한 것을 포함하는 금속/세라믹 복합체
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제7 항에 있어서,상기 중간부는, 상기 코어로부터 상기 쉘까지 연속적인 밴드갭을 갖는 것을 포함하는 금속/세라믹 복합체
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제7 항에 있어서,상기 코어는, SnO2로 형성되고,상기 쉘은, Sn으로 형성되고,상기 중간부는, SnO2-x로 형성되되, 상기 x는, 0 초과 2 미만의 값을 갖고, 상기 코어로부터 상기 쉘까지 연속적으로 증가하는 것을 포함하는 금속/세라믹 복합체
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제7 항에 있어서,상기 금속 산화물은, 나노와이어, 입자 또는 박막 중에서 적어도 어느 하나의 형태를 갖는 것을 포함하는 금속/세라믹 복합체
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제1 전극;제2 전극; 및상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비되는 가스감지층을 포함하되,상기 가스감지층은, 제7 항에 따른 금속/세라믹 복합체를 포함하는 가스센서
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제11 항에 있어서,0℃ 내지 250℃의 온도 범위에 대해서, 100℃ 초과 200℃ 미만의 온도 범위에서 높은 가스감응성을 나타내는 것을 포함하는 가스센서
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제11 항에 있어서,상기 금속/세라믹 복합체는, 주석산화물을 포함하고,이산화질소를 검출하는 것을 포함하는 가스센서
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