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패턴이 형성된 표면을 포함하고,상기 패턴은 일직선 형상을 갖고 평행하게 얼라인 형성된 것인, 인공 보형물
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제1항에 있어서, 상기 패턴은 일직선 형상의 양각부와 음각부가 교대로 반복하여 평행하게 얼라인 형성된 것인, 인공 보형물
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3
제2항에 있어서, 상기 양각부는 5 내지 35 μm의 간격으로 얼라인 형성된 것이거나, 및/또는 상기 음각부는 5 내지 35 μm의 간격으로 얼라인 형성된 것인, 인공 보형물
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4
제2항에 있어서, 상기 양각부의 너비와 음각부의 너비는 동일한 길이를 갖거나 양각부의 너비가 음각부의 너비보다 더 큰 것인, 인공 보형물
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5
제2항에 있어서,상기 양각부의 너비는 음각부의 너비보다 1 내지 5 μm 더 큰 것인, 인공 보형물
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6
제2항에 있어서,상기 양각부의 최고 지점과 음각부의 최저 지점의 고도 차이는 0
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7
제1항에 있어서,상기 보형물은 실리콘으로 형성된 것인, 인공 보형물
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8
제1항에 있어서,상기 보형물은 유방 보형물인, 인공 보형물
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9
제1항에 있어서,상기 보형물은 구형구축 (capsular contracture) 억제용인, 인공 보형물
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10
제1항에 있어서,상기 보형물은 염증 반응 억제용인, 인공 보형물
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11
표면에 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,상기 패턴은 일직선 형상을 갖고 평행하게 얼라인 형성된 것인, 인공 보형물의 제조방법
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12
제11항에 있어서,상기 제조방법은 일직선 현상을 갖고 평행하게 얼라인 형성된 패턴을 갖는 기판을 제조하는 단계; 및 실리콘을 상기 기판에 주입한 후 경화시키는 단계를 포함하는 것인, 인공 보형물의 제조방법
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13
제11항에 있어서, 상기 패턴은 일직선 형상의 양각부와 음각부가 교대로 반복하여 평행하게 얼라인 형성된 것인, 인공 보형물의 제조방법
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14
제13항에 있어서, 상기 양각부는 5 내지 35 μm의 간격으로 얼라인 형성된 것이거나, 및/또는 상기 음각부는 5 내지 35 μm의 간격으로 얼라인 형성된 것인, 인공 보형물의 제조방법
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15
제13항에 있어서, 상기 양각부의 너비와 음각부의 너비는 동일한 길이를 갖거나 양각부의 너비가 음각부의 너비보다 더 큰 것인, 인공 보형물의 제조방법
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16
제13항에 있어서,상기 양각부의 너비는 음각부의 너비보다 1 내지 5 μm 더 큰 것인, 인공 보형물의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 양각부의 최고 지점과 음각부의 최저 지점의 고도 차이는 0
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