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1
분산액이 생성되도록 탄소나노튜브를 용매에 분산시키는 단계;
상기 분산액을 기판의 일면에 코팅하여 탄소나노튜브층을 형성하는 단계; 및
금속 스퍼터링을 통하여 상기 탄소나노튜브층의 일면에 금속막을 증착하는 단계를 포함하는 전도성필름 제조방법
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2
제1항에 있어서,
절단 및 산과 화학반응 중 적어도 하나를 통하여 탄소나노튜브를 전처리하는 단계를 더 포함하는 전도성필름 제조방법
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3
제1항에 있어서,
상기 용매는 엔-메틸피롤리돈(NMP, N-methyl-2-pyrrolidone), 디메틸아세트아마이드(DMAc), 디메틸포름아마이드(DMF), 사이클로헥사논, 에틸알콜, 물 및 클로로벤젠 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법
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제1항에 있어서,
상기 금속은 금, 은, 구리, 팔라듐, 니켈 및 플라티늄 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법
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제1항에 있어서,
상기 금속막은 0
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6
제1항에 있어서,
상기 형성 단계는,
진공 여과(vacuum filtration)법, 자기조립(self-assembly)법, 랭뮤어-블로제트(Langmuir-Blodgett)법, 용액캐스팅(solution casting)법, 바코팅(bar coating)법, 침지코팅(dip coating)법, 스핀코팅(spin coating)법, 분사코팅(spray coating)법 및 롤투롤(roll-to-roll)법 중 어느 하나에 의하여 상기 탄소나노튜브층을 형성하는 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법
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7
제1항에 있어서,
상기 기판이 친수성 또는 소수성이 되도록 표면을 화학적으로 처리하는 단계를 더 포함하는 전도성필름 제조방법
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8
광투과성 기판;
상기 기판의 일면에 탄소나노튜브 분산액의 코팅에 의하여 형성되는 탄소나노튜브층; 및
상기 탄소나노튜브층의 일면을 덮도록 증착되는 금속막을 포함하는 전도성필름
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9
제8항에 있어서,
상기 탄소나노튜브는 단층벽(single wall), 이중층벽(double wall) 및 다층벽(multi wall) 탄소나노튜브 중 적어도 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 전도성필름
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10
제8항에 있어서,
상기 금속막은 금, 은, 구리, 팔라듐, 니켈 및 플라티늄 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 전도성필름
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11
제8항에 있어서,
상기 금속막은 0
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제8항에 있어서,
상기 광투과성 기판은 유리, 수정(quartz), 합성수지 및 고분자물질 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 전도성필름
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13
물리적으로 절단하거나 산화처리를 통하여 탄소나노튜브의 용매 친화도를 향상시키는 단계;
분산액이 생성되도록 상기 탄소나노튜브를 용매에 분산시키는 단계;
상기 분산액을 기판에 코팅하여 탄소나노튜브 필름을 형성하는 단계; 및
금속 스퍼터링을 통하여 상기 탄소나노튜브 필름의 일면에 금속막을 증착하는 단계를 포함하는 전도성필름 제조방법
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