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중공형 튜브의 금속산화물층을 포함하는 전기화학소자 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014028185
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 중공형의 금속산화물 튜브들을 포함하는 금속산화물층을 구비하는 전기화학소자 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명은 기판과; 상기 기판 상에 형성되며, 금속산화물을 포함하여 이루어지고 내경이 20 ㎚ - 3000 ㎚인 중공형 튜브들을 포함하는 금속산화물층;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 전기화학소자를 제공한다. 여기서, 상기 금속산화물층은 상기 기판 상에 형성되며 상기 금속산화물을 포함하여 이루어진 바닥층과, 상기 바닥층 상에 일체로 결합하도록 형성되며 상기 중공형 튜브들이 서로 뒤얽혀 형성하는 3차원의 다공성 웹층을 포함할 수 있다. 또한, 본 발명은 (1) 용매에 고분자가 용해된 고분자 용액을 준비하는 단계; (2) 기판 위에 상기 고분자 용액을 전기장 하에서 방사하여, 고분자 섬유들이 뒤얽힌 고분자 섬유 웹을 형성하는 단계; (3) 상기 고분자 섬유 웹이 형성된 기판 상에 금속산화물을 증착하는 단계;와 (4) 상기 (3)단계를 거쳐 금속산화물이 증착된 기판을 열처리하여, 상기 고분자 섬유들을 제거하는 단계;를 포함하는 전기화학소자 제조방법을 제공한다. 금속산화물, 중공형 튜브, 다공성 웹층, 전기화학소자
Int. CL B82B 1/00 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/31 (2011.01)
CPC H01L 21/02175(2013.01) H01L 21/02175(2013.01) H01L 21/02175(2013.01) H01L 21/02175(2013.01)
출원번호/일자 1020090035227 (2009.04.22)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1002946-0000 (2010.12.15)
공개번호/일자 10-2010-0116481 (2010.11.01) 문서열기
공고번호/일자 (20101222) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.04.22)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김일두 대한민국 서울특별시 동작구
2 홍재민 대한민국 서울 성북구
3 최승훈 대한민국 서울시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2009-0244415-14
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.08.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.09.14 수리 (Accepted) 9-1-2010-0058869-21
5 등록결정서
Decision to grant
2010.12.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0560194-02
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판과; 상기 기판 상에 형성되며, 금속산화물을 포함하여 이루어지고 내경이 20 ㎚ - 3000 ㎚인 중공형 튜브들을 포함하는 금속산화물층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 전기화학소자
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 금속산화물층은, 상기 기판 상에 형성되며 상기 금속산화물을 포함하여 이루어진 바닥층과; 상기 바닥층 상에 일체로 결합하도록 형성되며 상기 중공형 튜브들이 서로 뒤얽혀 형성하는 3차원의 다공성 웹층을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기화학소자
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 중공형 튜브는 상부의 두께가 측부 및 하부의 두께보다 두꺼운 비등방성 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 전기화학소자
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 중공형 튜브는 완전한 튜브형태이거나 단면이 말발굽 형태인 불완전한 튜브형태인 것을 특징으로 하는 전기화학소자
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 금속산화물은 RuO2, IrO2, TiO2, ZnO, MoO3, SnO2, Nb2O5, NiO, In2O3, WO3, LiMn2O4, LiCoO2, SrTiO3 및 SrTi0
6 6
제1항에 있어서, 상기 전기화학소자는 가스센서, 이차전지, 태양전지 또는 전기화학 캐패시터인 것을 특징으로 하는 전기화학소자
7 7
(1) 용매에 고분자가 용해된 고분자 용액을 준비하는 단계와; (2) 기판 위에 상기 고분자 용액을 전기장 하에서 방사하여, 고분자 섬유들이 뒤얽힌 고분자 섬유 웹을 형성하는 단계와; (3) 상기 고분자 섬유 웹이 형성된 기판 상에 금속산화물을 증착하는 단계와; (4) 상기 (3)단계를 거쳐 금속산화물이 증착된 기판을 열처리하여, 상기 고분자 섬유들을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기화학소자 제조방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 (3) 단계의 증착시간을 조절하여 상기 (4) 단계 후에 형성되는 중공형 튜브가 완전한 튜브형태이거나 단면이 말발굽 형태인 불완전한 튜브형태가 되도록 조절하는 것을 특징으로 하는 전기화학소자 제조방법
9 9
제 7 항에 있어서, 상기 금속산화물을 증착하는 단계는 스퍼터링 법 또는 pulsed laser deposition 법에 의하여 증착되는 것을 특징으로 하는 전기화학소자 제조방법
10 10
제 7 항에 있어서, 상기 고분자는 폴리비닐 아세테이트, 폴리우레탄 공중합체, 셀룰로오스 유도체, 폴리아크릴 공중합체, 폴리비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐알콜 (PVA), 폴리퍼퓨릴알콜 (PPFA), 폴리스티렌 공중합체, 폴리에틸렌옥사이드 (PEO), 폴리에틸렌옥사이드 공중합체, 폴리프로필렌옥사이드 (PPO), 폴리프로필렌옥사이드 공중합체, 폴리카보네이트 (PC), 폴리비닐클로라이드 (PVC), 폴리카프로락톤, 폴리비닐피롤리돈 (PVP), 폴리비닐풀루오라이드, 폴리비닐리덴풀루오라이드 공중합체 및 폴리아마이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전기화학소자 제조방법
11 11
제 7 항에 있어서, 상기 고분자 섬유들의 직경은 20 ㎚ - 3000 ㎚인 것을 특징으로 하는 전기화학소자 제조방법
12 12
제 7 항에 있어서, 상기 방사는 전기방사 (electro-spinning), 멜트블로운 (melt-blown), 플레쉬방사 (flash spinning) 또는 정전멜트블로운법 (electrostatic melt-blown)인 것을 특징으로 하는 전기화학소자 제조방법
13 13
제 7 항에 있어서, 상기 금속산화물은 RuO2, IrO2, TiO2, ZnO, MoO3, SnO2, Nb2O5, NiO, In2O3, WO3, LiMn2O4, LiCoO2, SrTiO3 및 SrTi0
14 14
제 7 항에 있어서, 상기 열처리는 300 - 800 ℃의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 전기화학소자 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.