요약 | 본 발명에 따른 투명기판은 광 효율 및 명실 콘트라스트를 향상시킬 수 있도록 광원에 인접하게 배치되며 광투과성 소재로 이루어진 투명기판에 있어서, 상기 투명기판은 상기 광원과 대향 배치된 주 기판을 포함하고, 상기 주 기판은 광원을 향하는 제1면과 제1면과 대향 배치된 제2면을 포함하고, 상기 제1면 및 상기 제2면 위에는 빛의 반사를 방지하기 위한 나노패턴이 배치되며, 상기 나노패턴은 복수 개의 돌기들로 이루어질 수 있다. |
---|---|
Int. CL | G02F 1/13 (2011.01) B82Y 20/00 (2011.01) |
CPC | G02F 1/13471(2013.01) G02F 1/13471(2013.01) G02F 1/13471(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020080040865 (2008.04.30) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | 10-0928330-0000 (2009.11.17) |
공개번호/일자 | 10-2009-0114962 (2009.11.04) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20091126) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2008.04.30) |
심사청구항수 | 10 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 최대근 | 대한민국 | 대전 유성구 |
2 | 정준호 | 대한민국 | 대전 유성구 |
3 | 김기돈 | 대한민국 | 서울 송파구 |
4 | 이응숙 | 대한민국 | 대전 유성구 |
5 | 최준혁 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
6 | 이지혜 | 대한민국 | 대전 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 팬코리아특허법인 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 | 서울특별시 강남구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2008.04.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0314832-70 |
2 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2009.06.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0250442-79 |
3 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2009.08.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0493118-21 |
4 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2009.08.12 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2009-0493119-77 |
5 | 등록결정서 Decision to grant |
2009.11.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0466157-15 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069914-14 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069919-31 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 광원에 인접하게 배치되며 광투과성 소재로 이루어진 투명기판에 있어서, 상기 투명기판은 상기 광원과 대향 배치된 주 기판을 포함하고, 상기 주 기판은 광원을 향하는 제1면과 제1면과 대향 배치된 제2면을 포함하고, 상기 제1면 및 상기 제2면 위에는 빛의 반사를 방지하기 위한 나노패턴이 배치되며, 상기 나노패턴은 복수 개의 돌기들로 이루어지고, 상기 주 기판의 제1면에 부착되며 ITO로 이루어진 ITO 기판을 포함하는 투명기판 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 제1항에 있어서, 상기 ITO 기판은 상기 광원을 향하는 면에 빛의 반사를 방지하기 위한 반사방지 나노패턴을 갖는 투명기판 |
4 |
4 제1항에 있어서, 상기 나노패턴은 20nm 내지 500nm의 피치를 갖는 투명기판 |
5 |
5 제1항에 있어서, 상기 주 기판은 상기 제1면과 접하도록 배치된 반사방지 필름을 포함하고, 상기 나노패턴은 상기 반사방지 필름 상에 형성된 투명기판 |
6 |
6 제5항에 있어서, 상기 주 기판은 상기 제2면과 접하도록 배치된 반사방지 필름을 포함하고, 상기 나노패턴은 상기 반사방지 필름 상에 형성된 투명기판 |
7 |
7 광원에 인접하게 배치되며 광투과성 소재로 이루어진 투명기판의 제조 방법에 있어서, 상기 광원을 향하는 제1면과 상기 제1면과 대향하는 제2면을 갖는 주 기판을 준비하는 단계; 상기 제1면 상에 레지스트층을 도포하는 단계; 상기 제1면 상에 형성된 레지스트층에 나노패턴을 형성하는 단계; 상기 제1면을 에칭하여 반사방지 나노패턴을 형성하는 단계; 상기 제2면에 레지스트층을 도포하는 단계; 상기 제2면 상에 형성된 레지스트층에 나노패턴을 형성하는 단계; 상기 제2면을 에칭하여 반사방지 나노패턴을 형성하는 단계; 및 상기 제1면과 접하도록 배치되며 상기 광원을 향하는 면에 반사방지 나노패턴이 형성된 ITO 기판을 형성하는 단계; 를 포함하는 투명기판의 제조 방법 |
8 |
8 삭제 |
9 |
9 제7항에 있어서, 상기 제1면 상에 형성된 레지스트층에 나노패턴을 형성하는 단계에 있어서, 상기 나노패턴을 임프린트 리소그래피에 의하여 형성하는 투명기판의 제조 방법 |
10 |
10 제7항에 있어서, 상기 제2면 상에 형성된 레지스트층에 나노패턴을 형성하는 단계에 있어서, 상기 나노패턴을 임프린트 리소그래피에 의하여 형성하는 투명기판의 제조 방법 |
11 |
11 제7항에 있어서, 상기 제1면에 반사방지 나노패턴을 형성하는 단계와 상기 제2면에 반사방지 나노패턴을 형성하는 단계에 있어서, 상기 반사방지 나노패턴은 20nm 내지 500nm의 피치를 갖도록 형성하는 투명기판의 제조 방법 |
12 |
12 제7항에 있어서, 상기 제1면과 형성된 레지스트층에 나노패턴을 형성하는 단계와 제2면 상에 형성된 레지스트층에 나노패턴을 형성하는 단계에 있어서, 상기 나노패턴은 사출성형, 소프트 리소그래피, 건식 에칭, 습식 에칭, 증착, 레이저 간섭 리소그래피 중에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 형성되는 투명기판의 제조 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 과학기술부 | 한국기계연구원 | 21세기 프론티어-나노메카트로닉스 기술개발사업 | 대면적 나노임프린트 공정 및 응용기술 |
특허 등록번호 | 10-0928330-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20080430 출원 번호 : 1020080040865 공고 연월일 : 20091126 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20091112 청구범위의 항수 : 10 유별 : G02F 1/13 발명의 명칭 : 투명기판 및 이의 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : 20171118 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국기계연구원 대전광역시 유성구... |
2 |
(권리자) 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 서울특별시 강남구... |
2 |
(의무자) 한국기계연구원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 217,500 원 | 2009년 11월 17일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 260,000 원 | 2012년 10월 23일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 260,000 원 | 2013년 10월 30일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 260,000 원 | 2014년 09월 16일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 480,000 원 | 2015년 10월 14일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 336,000 원 | 2016년 10월 12일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2008.04.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0314832-70 |
2 | 의견제출통지서 | 2009.06.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0250442-79 |
3 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2009.08.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0493118-21 |
4 | [명세서등 보정]보정서 | 2009.08.12 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2009-0493119-77 |
5 | 등록결정서 | 2009.11.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0466157-15 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069914-14 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069919-31 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
기술번호 | KST2014039683 |
---|---|
자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 한국기계연구원 |
기술명 | 투명기판 |
기술개요 |
본 발명에 따른 투명기판은 광 효율 및 명실 콘트라스트를 향상시킬 수 있도록 광원에 인접하게 배치되며 광투과성 소재로 이루어진 투명기판에 있어서, 상기 투명기판은 상기 광원과 대향 배치된 주 기판을 포함하고, 상기 주 기판은 광원을 향하는 제1면과 제1면과 대향 배치된 제2면을 포함하고, 상기 제1면 및 상기 제2면 위에는 빛의 반사를 방지하기 위한 나노패턴이 배치되며, 상기 나노패턴은 복수 개의 돌기들로 이루어질 수 있다. |
개발상태 | 기타 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | - 플렉서블 디스플레이- 디스플레이, 반사방지 필름 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 | 개발기간 ()년 / 소요비용 ()억원 |
과제고유번호 | 1345098344 |
---|---|
세부과제번호 | 14-2008-01-001-00 |
연구과제명 | 나노임프린트공정기술개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200804~201203 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345086128 |
---|---|
세부과제번호 | 14-2008-01-001-00 |
연구과제명 | 나노임프린트공정기술개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200804~201203 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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