맞춤기술찾기

이전대상기술

레이저를 이용한 박막 형성 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2014050370
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 레이저를 이용한 박막 형성 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 박막 형성 장치는, 고압의 이송가스를 이용하여 노즐을 통하여 적층 입자를 가속하여 기판에 적층시키는 박막 형성 장치에 있어서, 상기 노즐의 후단에서 상기 적층 입자가 이동하는 동축을 따라 상기 적층 입자에 레이저를 분사하는 레이저 분사부를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명의 레이저를 이용한 박막 형성 장치 및 방법에 따르면, 금속 또는 세라믹 입자를 기판에 적층함에 있어서 레이저를 이용하여 입자에 충분한 에너지를 공급하여 적층 효율을 향상시킬 수 있다. 아울러, 레이저가 노즐의 후단에서 적층 입자의 동축을 따라 분사되므로 적층 입자에 충분한 에너지를 공급하면서도 기판의 손상을 최소화할 수 있다.
Int. CL C23C 24/00 (2018.01.01) C23C 26/00 (2006.01.01) H01L 21/20 (2006.01.01) H01L 51/56 (2006.01.01) H01L 31/18 (2006.01.01)
CPC C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01)
출원번호/일자 1020110013703 (2011.02.16)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1235302-0000 (2013.02.14)
공개번호/일자 10-2012-0094294 (2012.08.24) 문서열기
공고번호/일자 (20130220) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.02.16)
심사청구항수 11

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 안성훈 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 이선영 대한민국 경기도 안산시 상록구
3 천두만 대한민국 서울특별시 관악구
4 김민생 대한민국 서울특별시 금천구
5 최정오 대한민국 경기도 고양시 일산서구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 노경규 대한민국 서울시 서초구 반포대로**길 ** 매강빌딩 *층(에이치앤에이치국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.02.16 수리 (Accepted) 1-1-2011-0110766-18
2 보정요구서
Request for Amendment
2011.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0016988-57
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.03.17 수리 (Accepted) 1-1-2011-0193919-86
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2011.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0723703-64
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.07.03 수리 (Accepted) 1-1-2012-0530642-30
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.08.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.10.04 수리 (Accepted) 9-1-2012-0075662-01
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.10.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0601313-14
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-1022357-29
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.12.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-1022358-75
12 등록결정서
Decision to grant
2013.01.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0014015-45
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
챔버; 상기 챔버와 연결되어 상기 챔버 내부에서 입자를 제거하기 위해 공기를 빨아들이거나 진공 환경으로 조성하는 흡입 또는 진공 펌프; 상기 챔버 내부에 형성되며, 기판 상에 적층 분말을 분사하도록 구성된 분사 노즐; 상기 분사 노즐에 연결되어 상기 적층 분말을 이송하는 이송관:상기 이송관에 연결되어 상기 이송관으로 상기 적층 분말을 공급하는 적층 분말 공급부;상기 이송관에 연결되어 상기 적층 분말을 이송시키는 이송 가스를 공급하는 이송 가스 주입부; 및 상기 분사 노즐의 후단에서 상기 적층 분말 입자가 이동하는 동축을 따라 상기 적층 분말에 레이저를 분사하는 레이저 분사부를 포함하며,상기 분사 노즐은 상기 적층 분말이 유입되는 제1개구부, 상기 적층 분말이 분사되는 제2개구부 및 상기 제1개구부와 제2개구부 사이에 형성된 노즐목을 포함하고, 상기 제1개구부에서 상기 노즐목까지는 구경이 점차로 감소하고, 상기 노즐목에서 제2개구부까지는 구경이 점차로 증가하거나 유지되는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
8 8
제7항에 있어서,상기 레이저 분사부는 레이저의 강도, 레이저 초점 위치 및 레이저의 목표 조사 위치를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
9 9
제7항에 있어서,상기 적층 분말 및 이송 가스를 포함하는 유동의 직진성을 증대시키는 유동 스트레이트너를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
10 10
제7항에 있어서,상기 챔버 내부에 형성되어 상기 기판을 지지하는 기판 지지부를 더 포함하며,상기 기판 지지부는 X축, Y축 및 Z축으로 이동 가능하게 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
11 11
제7항에 있어서,상기 적층 분말은 금속, 세라믹, 폴리머, 또는 복합재인 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
12 12
제7항에 있어서,상기 적층 분말의 크기는 0
13 13
제7항에 있어서,상기 적층 분말의 분사 속도는 200 내지 1500m/sec인 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
14 14
제7항에 있어서,상기 기판은 폴리머, 금속 또는 세라믹 기판인 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
15 15
제14항에 있어서,상기 기판은 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리에테르술폰(PES), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에스테르(PET) 폴리에틸렌(PE), 폴리카보네이트(PC) 및 폴리아릴레이트(PAR)로 이루어진 군에서 선택되는 가요성 기판인 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
16 16
제7항에 있어서,상기 이송 가스는 압축 공기, 산소 가스, 질소 가스, 아르곤 가스 또는 헬륨 가스인 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
17 17
제7항에 있어서,상기 기판에 패턴이 형성되도록 상기 기판과 상기 분사 노즐 사이에 마스크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치
18 18
삭제
19 19
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한양대학교 산학협력단 일반연구자지원사업 레이저 이용 나노입자적층 장치를 사용한 유연 태양전지 제작
2 교육과학기술부 서울대학교 산학협력단 도약과제 나노스케일 3차원 프린팅 시스템