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샘플에 대한 홀로그램 패턴을 검출하는 홀로그램 패턴 검출 장치에 있어서,상기 샘플에 간섭성 빛을 조사하는 빛 소스;상기 샘플로부터 산란되는 빛으로부터 홀로그램 패턴을 검출하는 검출기;상기 샘플에 대한 빛의 조사 각도 및 파면 패턴 중 적어도 하나를 변경시키는 파면 제어기; 및복수 개의 변경된 조사 각도 각각에서 검출되는 복수 개의 홀로그램 패턴을 합성하는 프로세서를 포함하는 홀로그램 패턴 검출 장치
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제 1 항에 있어서,상기 파면 제어기는, 상기 빛 소스 및 상기 샘플 사이에 배치되며, 상기 샘플에 조사되는 빛의 조사 각도를 변경하는 파면 제어기인 홀로그램 패턴 검출 장치
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제 1 항에 있어서,상기 프로세서는, 상기 복수 개의 홀로그램 패턴 중 서로 중첩된 영역의 홀로그램 패턴의 복소 산란 정보 중 적어도 하나에 대하여 산술 평균을 적용하는 홀로그램 패턴 검출 장치
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제 1 항에 있어서,상기 파면 제어기는, 상기 빛 소스 및 상기 샘플 사이에 배치되며, 상기 샘플에 조사되는 빛의 파면 패턴을 변경하는 파면 제어기인 홀로그램 패턴 검출 장치
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제 4 항에 있어서,상기 파면 제어기는, 빛의 파면 패턴을 랜덤하게 또는 기설정된 방식으로 변경하는 홀로그램 패턴 검출 장치
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제 4 항에 있어서,상기 프로세서는, 복수 개의 변경된 파면 패턴에 의하여 산란된 복수 개의 홀로그램 패턴을 합성하는 홀로그램 패턴 검출 장치
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제 1 항에 있어서,상기 홀로그램 패턴 검출 장치는 위상 변이 간섭계로,상기 빛 소스로부터 조사되는 상기 빛을 확장하는 빔 확장기(beam expander);상기 빔 확장기로부터 확장된 빛을 제 1 스플리트 빔 및 제 2 스플리트 빔으로 스플리팅(spliting)하여, 상기 제 1 스플리트 빔을 상기 빛의 조사 각도 및 파면 패턴 중 적어도 하나를 변경시키는 수단으로 전달하는 빔 스플리터(beam splitter);상기 빔 스플리터로부터 전달되는 상기 제 2 스플리트 빔을 반사시키는 거울; 및상기 제 1 스플리트 빔 및 상기 샘플 사이에 배치되는 적어도 하나의 렌즈를 더 포함하는 홀로그램 패턴 검출 장치
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제 1 항에 있어서,상기 홀로그램 패턴 검출 장치는 마하-젠더 간섭계로,상기 빛 소스로부터 조사되는 상기 빛을 확장하여 샘플로 전달하는 빔 확장기(beam expander);상기 빔 확장기로부터 확장된 빛을 제 1 스플리트 빔 및 제 2 스플리트 빔으로 스플리팅(spliting)하여, 상기 제 1 스플리트 빔을 상기 샘플로 전달하는 제 1 빔 스플리터(beam splitter);상기 제 1 빔 스플리터로부터 전달되는 상기 제 1 스플리트 빔을 반사시키는 적어도 하나의 거울;상기 적어도 하나의 거울에 의하여 반사되는 제 1 스플리트 빔을 전달받아 상기 검출기로 전달하는 제 2 빔 스플리터; 및상기 샘플 및 상기 제 2 빔 스플리터 사이에 배치되는 적어도 하나의 렌즈를 더 포함하는 홀로그램 패턴 검출 장치
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샘플에 대한 홀로그램 패턴을 검출하는 홀로그램 패턴 검출 장치에 있어서,상기 샘플에 각각 상이한 조사 각도로 간섭성 빛을 조사하는 복수 개의 빛 소스;상기 샘플로부터 산란되는 빛으로부터 홀로그램 패턴을 검출하는 검출기; 및복수 개의 조사 각도에서 검출되는 복수 개의 홀로그램 패턴을 합성하는 프로세서를 포함하는 홀로그램 패턴 검출 장치
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제 9 항에 있어서,상기 홀로그램 패턴 검출 장치는 인-라인 홀로그래피로,상기 빛 소스로부터 조사되는 상기 빛을 확장하여 샘플로 전달하는 빔 확장기(beam expander)를 더 포함하는 홀로그램 패턴 검출 장치
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