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다공성 구조체의 탄소나노튜브 필름을 포함하는 열전재료 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015121461
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다공성 구조체의 탄소나노튜브 필름을 포함하는 열전재료 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 상기 열전재료는 탄소나노튜브가 3차원 망상 구조로 연결되어 형성된 다공성 구조체의 탄소나노튜브 필름을 포함하여, 높은 전기전도도와 함께 낮은 열전도도를 나타낸다. 열전재료, 탄소나노튜브 필름, 탄소나노튜브 전극, 열전소자, 다공성 구조, 다공성 구조체
Int. CL H01B 1/12 (2006.01) B82B 1/00 (2006.01) H01B 1/04 (2006.01)
CPC H01L 35/14(2013.01) H01L 35/14(2013.01) H01L 35/14(2013.01) H01L 35/14(2013.01)
출원번호/일자 1020090105550 (2009.11.03)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1092327-0000 (2011.12.05)
공개번호/일자 10-2011-0048821 (2011.05.12) 문서열기
공고번호/일자 (20111209) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.11.03)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이현정 대한민국 서울특별시 성북구
2 오경아 대한민국 서울특별시 관악구
3 김준경 대한민국 서울특별시 동대문구
4 박민 대한민국 서울특별시 노원구
5 이상수 대한민국 서울특별시 서초구
6 임순호 대한민국 서울특별시 송파구
7 김희숙 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 제일특허법인(유) 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)
2 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.11.03 수리 (Accepted) 1-1-2009-0676136-35
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
3 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2010.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2010-0007621-89
4 [복대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2010.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2010-0007601-76
5 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2011.01.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0004583-44
6 서류반려통지서
Notice for Return of Document		 2011.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0006178-13
7 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2011.01.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0007106-15
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.03.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.04.15 수리 (Accepted) 9-1-2011-0033787-91
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.07.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0365290-47
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0677784-27
12 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2011-0764843-42
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.11.01 수리 (Accepted) 1-1-2011-0859349-04
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.11.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0859447-70
15 등록결정서
Decision to grant		 2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0705204-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
탄소나노튜브가 3차원 망상 구조로 연결되어 형성된 다공성 구조체의 탄소나노튜브 필름을 포함하는 열전재료
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 3차원 망상 구조가 10 nm 내지 10 μm의 기공직경을 갖는 기공을 포함하는 것을 특징으로 하는 열전재료
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 탄소나노튜브 필름이 5 내지 95 %의 기공도를 갖는 것을 특징으로 하는 열전재료
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 탄소나노튜브 필름이 20 nm 내지 1 cm의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 열전재료
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 탄소나노튜브가 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브, 얇은 다중벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 열전재료
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 열전재료가 10 W·K/m 이하의 열전도도를 갖는 것을 특징으로 하는 열전재료
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 열전재료가 1000 Ω/□ 이하의 면저항을 갖는 것을 특징으로 하는 열전재료
8 8
(a) 탄소나노튜브를 산처리 또는 초음파 처리하거나, 또는 산과 초음파 처리를 동시에 실시하여 전처리된 탄소나노튜브를 제조하는 단계; (b) 상기 전처리된 탄소나노튜브를 분산매 중에서 기공형성용 입자와 혼합하여 기공형성용 입자·탄소나노튜브의 혼합 분산액을 제조하는 단계; (c) 상기 제조된 기공형성용 입자·탄소나노튜브의 혼합 분산액을 기판 위에 도포하여 기공형성용 입자·탄소나노튜브층을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 제조된 기공형성용 입자·탄소나노튜브층을 가열, 광 조사, 용매 처리 또는 플라즈마 처리하여 기공형성용 입자를 제거함으로써 다공성 구조체의 탄소나노튜브 필름을 제조하는 단계 를 포함하는 제1항에 따른 다공성 구조체의 탄소나노튜브 필름을 포함하는 열전재료의 제조 방법
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 단계 (a)에서 탄소나노튜브가 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브, 얇은 다중벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
10 10
제 8 항에 있어서, 상기 단계 (a)에서 탄소나노튜브가 100 nm 내지 10 μm의 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 방법
11 11
제 8 항에 있어서, 상기 단계 (b)의 기공형성용 입자가 폴리스티렌, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리라이신, 폴리디비닐벤젠, 폴리에틸렌옥사이드-폴리프로필렌옥사이드-폴리에틸렌옥사이드의 공중합체 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 유기 콜로이드 입자; 또는 실리카, 티타니아, 금, 은, 금 또는 은을 포함하는 합금, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 무기 콜로이드 입자인 것을 특징으로 하는 방법
12 12
제 8 항에 있어서, 상기 단계 (b)에서 분산액이 폴리 3,4-에틸렌디옥시티오펜, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리(2-에틸헥실옥시-5-메톡시-1,4-페닐)비닐렌 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 전도성 고분자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
13 13
제 8 항에 있어서, 상기 단계 (c)에서의 기판이 피라나 처리 또는 산소 플라즈마 처리된 친수성 기판인 것을 특징으로 하는 방법
14 14
제 8 항에 있어서, 상기 단계 (d)에서 가열 처리가 300 내지 550 ℃에서 실시되는 것을 특징으로 하는 방법
15 15
제 8 항에 있어서, 상기 단계 (d)에서 용매 처리가 기공형성용 입자·탄소나노튜브층이 형성된 기판을 HF 또는 톨루엔에 함침시켜 실시되는 것을 특징으로 하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.