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다층 나노 구조의 고투광율 광촉매 박막과 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015122140
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다층 나노 구조의 고투광율 광촉매 박막과 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 IV, V족 원소가 도핑된 나노 구조의 이산화티타늄을 중간층으로 하고 반사방지 특성을 가질 수 있도록 굴절율이 낮는 산화물이 상기 중간층의 상, 하부에 각각 적층되어 있는 다층 나노구조의 광촉매 박막과 이들 각 층을 기판상에 특정 조건으로 증착하여 제조함으로써, 투과도가 증가되고 친수성 및 유기물 분해 특성이 우수하여 태양전지, 디스플레이 등에 유용한 고투광율 광촉매 박막과 그 제조방법에 관한 것이다
Int. CL C23C 16/22 (2006.01) H01L 31/042 (2014.01) B82B 3/00 (2006.01) B01J 21/06 (2006.01)
CPC B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01)
출원번호/일자 1020120027776 (2012.03.19)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1401354-0000 (2014.05.23)
공개번호/일자 10-2013-0106121 (2013.09.27) 문서열기
공고번호/일자 (20140603) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.03.19)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최원국 대한민국 서울 양천구
2 박동희 대한민국 서울 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한라특허법인(유한) 대한민국 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2012-0220277-30
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.01.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.02.06 수리 (Accepted) 9-1-2013-0007711-57
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.08.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0597185-50
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0977136-90
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-1090212-81
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.12.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1208496-19
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-1208497-54
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
10 등록결정서
Decision to grant		 2014.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0343892-11
11 대리인선임신고서
Report on Appointment of Agent		 2015.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-5033520-42
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판과; 기판에 비해 저굴절율을 갖는 산화물 함유 제1 저굴절율 박막층의 하층; IV족 또는 V족 원소 또는 이들의 혼합 원소가 포함된 나노 구조의 이산화티타늄층의 중간층, 상기 하층과 동일 또는 다른 성분이면서 이산화티타늄층에 비해 저굴절율을 갖는 산화물 함유 제2 저굴절율 박막층의 상층을 포함하되, 상기 제1 저굴절율 박막층과 이산화티타늄 층 및 제2 저굴절율 박막층은 모두 기판 상에 형성되어 있고, 상기 제1 및 제2 저굴절율 박막층과 이산화티타늄 층과의 계면에서 굴절율 차이가 0
2 2
청구항 1에 있어서, 기판은 유리 기판 또는 폴리카보네이트(PC), 폴리 에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리 에틸렌 나프탈레이트 (PEN), 폴리 이소 설포네이트(PES) 중에서 선택된 고분자 기판인 것을 특징으로 하는 고투광율 광촉매 박막
3 3
청구항 1에 있어서, 하층과 상층은 이산화규소, 이산화 질화규소 또는 이산화탄화규소로 이루어진 것을 특징으로 하는 고투광율 광촉매 박막
4 4
청구항 1에 있어서, 하층, 중간층 및 상층은 각각 5 - 300nm의 두께인 것을 특징으로 하는 고투광율 광촉매 박막
5 5
삭제
6 6
청구항 1에 있어서, 투과율이 550nm 파장에서 유리기판 대비 3 - 5%, 고분자 기판 대비 2 - 4% 증가된 것을 특징으로 하는 고투광율 광촉매 박막
7 7
기판상에 하층의 제1 저굴절율 박막층과 중간층의 나노구조를 갖는 이산화티타늄층 및 상층의 제2 저굴절율 박막층을 스펏터링 방법으로 형성시키되,기판을 준비하는 단계;기판 상에 이산화규소, 이산화 질화규소 또는 이산화탄화규소를 증착하여 기판에 비해 저굴절율을 갖는 산화물 함유 제1 저굴절율 박막층을 형성하는 단계;티타늄 타겟을 이용하여 그 위에 IV, V족을 포함한 반응성 가스를 주입하면서 10 ~ 500nm 크기의 이산화티타늄을 증착시켜서 나노 구조의 이산화티타늄층을 형성하는 단계; 및그 위에 이산화규소, 이산화 질화규소 또는 이산화탄화규소를 증착하여 이산화티타늄층에 비해 저굴절율을 갖는 산화물 함유 제2 저굴절율 박막층을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 제1 및 제2 저굴절율 박막층과 이산화티타늄층의 형성은 상온 내지 80℃에서 증착시키는 것을 특징으로 하는 다층 나노 구조의 고투광율 광촉매 박막의 제조방법
8 8
삭제
9 9
청구항 7에 있어서, 기판은 유리 기판 또는 폴리카보네이트(PC), 폴리 에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리 에틸렌 나프탈레이트 (PEN), 폴리 이소 설포네이트(PES) 중에서 선택된 고분자 기판인 것을 특징으로 하는 고투광율 광촉매 박막의 제조방법
10 10
청구항 7에 있어서, 하층과 상층은 실리콘 타겟을 이용하여 증착되는 것을 특징으로 하는 고투광율 광촉매 박막의 제조방법
11 11
청구항 7에 있어서, 하층, 중간층 및 상층은 각각 5 - 300nm의 두께로 증착되는 것을 특징으로 하는 고투광율 광촉매 박막의 제조방법
12 12
청구항 1 내지 청구항 4 및 청구항 6 중에서 선택된 어느 하나의 항에 따른 다층 나노 구조의 고투광율 광촉매 박막을 포함하는 태양전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.