요약 | 본 발명에 따른 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층 형성 방법은 모노머 용액을 중합하여 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층을 용이하게 형성할 수 있도록, 나노 패턴이 형성된 몰드를 준비하는 단계와, 상기 몰드 상에 도전성 폴리머층을 화학적 산화 중합법으로 중합하여 형성하는 도전성 폴리머층 형성 단계와 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 단계, 및 상기 몰드를 상기 도전성 폴리머층에서 분리하는 단계를 포함한다. 도전성 폴리머, 중합, 모노머, 기능화 |
---|---|
Int. CL | B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/027 (2006.01) |
CPC | G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020080086391 (2008.09.02) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | 10-1035694-0000 (2011.05.12) |
공개번호/일자 | 10-2010-0027458 (2010.03.11) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20110519) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2008.09.02) |
심사청구항수 | 12 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이지혜 | 대한민국 | 대전 유성구 |
2 | 정준호 | 대한민국 | 대전 유성구 |
3 | 김기돈 | 대한민국 | 서울 중구 |
4 | 최대근 | 대한민국 | 대전 유성구 |
5 | 최준혁 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
6 | 이응숙 | 대한민국 | 대전 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 팬코리아특허법인 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 | 서울특별시 강남구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2008.09.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0625158-10 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.03.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2010.04.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0022545-67 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2010.08.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0361342-06 |
5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2010.10.19 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0674937-67 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2010.10.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0674936-11 |
7 | 최후의견제출통지서 Notification of reason for final refusal |
2011.02.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0105268-11 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069919-31 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069914-14 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.04.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0307208-28 |
11 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.04.25 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2011-0307209-74 |
12 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.04.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0235234-30 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 나노 패턴이 형성된 몰드를 준비하는 단계; 상기 몰드 상에 도전성 폴리머층을 화학적 산화 중합법으로 중합하여 형성하는 도전성 폴리머층 형성 단계; 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 단계; 및 상기 몰드를 상기 도전성 폴리머층에서 분리하는 단계; 를 포함하고, 상기 도전성 폴리머층에 기능화 물질을 부착하는 기능화 단계를 더 포함하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 도전성 폴리머층 형성 단계는 상기 몰드를 모노머(monomer) 용액이 담긴 수조에 넣어서 상기 몰드의 나노 패턴 상에 도전성 폴리머층을 형성하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
3 |
3 제2항에 있어서, 상기 모노머 용액은 용매와 산화제, 및 모노머를 포함하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
4 |
4 제3항에 있어서, 상기 모노머 용액은 계면활성제와 도핑제를 더 포함하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
5 |
5 제1항에 있어서, 상기 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 단계는 상기 기판 상에 접착층을 형성하고 상기 접착층에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
6 |
6 제1항에 있어서, 상기 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 단계는 열과 압력을 가하여 상기 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 직접 부착하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
7 |
7 삭제 |
8 |
8 나노 패턴이 형성된 몰드를 준비하는 단계; 상기 몰드 상에 도전성 무기물층을 형성하는 단계 상기 도전성 무기물층 상에 도전성 폴리머층을 전기화학적 중합법으로 중합하여 형성하는 도전성 폴리머층 형성 단계; 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 단계; 및 상기 몰드를 상기 도전성 폴리머층에서 분리하는 단계; 를 포함하고 상기 도전성 폴리머층 형성 단계는 상기 몰드를 모노머 용액이 담긴 수조에 넣은 상태에서 상기 도전성 무기물층을 전극으로 사용하여 상기 도전성 무기물층 상에 도전성 폴리머층을 형성하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
9 |
9 삭제 |
10 |
10 나노 패턴이 형성된 몰드를 준비하는 단계; 상기 몰드 상에 도전성 무기물층을 형성하는 단계 상기 도전성 무기물층 상에 도전성 폴리머층을 전기화학적 중합법으로 중합하여 형성하는 도전성 폴리머층 형성 단계; 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 단계; 및 상기 몰드를 상기 도전성 폴리머층에서 분리하는 단계; 를 포함하고, 상기 도전성 폴리머층 형성 단계는 상기 몰드를 모노머 용액이 담긴 수조에 넣은 상태에서 상기 도전성 무기물층을 전극으로 사용하여 상기 도전성 무기물층 상에 도전성 폴리머층을 형성하며, 상기 모노머 용액에는 바이오 기능화 물질이 포함된 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
11 |
11 제10항에 있어서, 상기 바이오 기능화 물질은 바이오 마커의 항원으로 이루어진 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
12 |
12 나노 패턴이 형성된 몰드를 준비하는 단계; 상기 몰드 상에 도전성 무기물층을 형성하는 단계 상기 도전성 무기물층 상에 도전성 폴리머층을 전기화학적 중합법으로 중합하여 형성하는 도전성 폴리머층 형성 단계; 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 단계; 및 상기 몰드를 상기 도전성 폴리머층에서 분리하는 단계; 를 포함하고 상기 도전성 폴리머층에 기능화 물질을 부착하는 기능화 단계를 더 포함하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
13 |
13 제8항에 있어서, 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 단계는 상기 기판 상에 접착층을 형성하고 상기 접착층에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
14 |
14 제8항에 있어서, 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 부착하는 단계는 열과 압력을 가하여 상기 기판 상에 상기 도전성 폴리머층을 직접 부착하는 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 교육과학기술부 | 한국기계연구원 | 21세기 프론티어-나노메카트로닉스 기술개발사업 | 나노임프린트 공정 기술 개발 |
특허 등록번호 | 10-1035694-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20080902 출원 번호 : 1020080086391 공고 연월일 : 20110519 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110430 청구범위의 항수 : 12 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 나노 패턴을 갖는 도전성 폴리머층의 형성 방법 존속기간(예정)만료일 : 20150513 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국기계연구원 대전광역시 유성구... |
2 |
(의무자) 한국기계연구원 대전광역시 유성구... |
2 |
(권리자) 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 서울특별시 강남구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 256,500 원 | 2011년 05월 12일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 304,000 원 | 2014년 04월 21일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2008.09.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0625158-10 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.03.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2010.04.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0022545-67 |
4 | 의견제출통지서 | 2010.08.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0361342-06 |
5 | [명세서등 보정]보정서 | 2010.10.19 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0674937-67 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2010.10.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0674936-11 |
7 | 최후의견제출통지서 | 2011.02.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0105268-11 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069919-31 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069914-14 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.04.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0307208-28 |
11 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.04.25 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2011-0307209-74 |
12 | 등록결정서 | 2011.04.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0235234-30 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345162546 |
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세부과제번호 | 14-2008-01-001-00 |
연구과제명 | 나노임프린트 공정기술개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200804~201203 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345086128 |
---|---|
세부과제번호 | 14-2008-01-001-00 |
연구과제명 | 나노임프린트공정기술개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200804~201203 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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