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전기장 벡터 측정 기구 및 방법, 그리고 이 측정 기구를포함하는 현미경

기술번호 : KST2015159577
담당센터 : 서울동부기술혁신센터
전화번호 : 02-2155-3662

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 나노미터 수준의 분해능으로 시료 주변의 전기장 벡터를 측정하기 위해, 시료 표면의 검사 영역내의 측정 위치에서 입사광에 의해 형성되는 광신호를 나노미터 수준의 공간 분해능으로 추출하는 광 추출 수단, 상기 추출된 광신호의 편광 특성을 분석하는 편광 특성 분석 수단; 상기 편광특성 분석된 광신호와 상기 입사광 사이의 간섭특성을 측정하여 위상차를 분석하는 위상차 분석 수단, 및 상기 분석된 편광 특성과 상기 위상차를 기초로 상기 측정 위치에서 크기, 방향축 및 방향을 갖는 전기장 벡터를 획득하는 전기장 벡터 획득 수단을 포함하는 전기장 벡터 측정 기구 등을 제공한다.현미경, 탐침, 전기장, 간섭계
Int. CL	B82Y 35/00 (2011.01) G01B 21/00 (2011.01)
CPC
출원번호/일자	1020060130091 (2006.12.19)
출원인	재단법인서울대학교산학협력재단, 삼성전자주식회사
등록번호/일자	10-0808753-0000 (2008.02.22)
공개번호/일자
공고번호/일자	(20080229) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	소멸
심사진행상태	수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2006.12.19)
심사청구항수	19

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	재단법인서울대학교산학협력재단	대한민국	서울특별시 관악구
2	삼성전자주식회사	대한민국	경기도 수원시 영통구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	김대식	대한민국	서울특별시 동작구
2	이광걸	대한민국	서울 관악구
3	김현우	대한민국	서울 종로구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	문혜정	대한민국	서울특별시 서초구 매헌로 , 하이브랜드빌딩 층 (양재동)(피닉스국제특허법률사무소)
2	김학제	대한민국	서울특별시 서초구 매헌로 하이브랜드빌딩 층 (양재동)(피닉스국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	삼성전자주식회사	대한민국	경기도 수원시 영통구
2	재단법인서울대학교산학협력재단	대한민국	서울특별시 관악구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서 Patent Application	2006.12.19	수리 (Accepted)	1-1-2006-0940645-20
2	명세서등보정서 Amendment to Description, etc.	2007.04.27	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2007-0320671-77
3	[출원인변경]권리관계변경신고서 [Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status	2007.07.04	수리 (Accepted)	1-1-2007-0488392-27
4	[대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)	2007.07.10	수리 (Accepted)	1-1-2007-0501702-40
5	등록결정서 Decision to grant	2008.01.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2008-0033142-63
6	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2008.01.29	수리 (Accepted)	4-1-2008-5015497-73
7	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2012.06.21	수리 (Accepted)	4-1-2012-5132663-40
8	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.08.22	수리 (Accepted)	4-1-2014-5100909-62
9	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.03.20	수리 (Accepted)	4-1-2015-5036045-28

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 시료 표면의 검사 영역내의 측정 위치에서 입사광에 의해 형성되는 광신호를 나노미터 수준의 공간 분해능으로 추출하는 광 추출 수단;상기 추출된 광신호의 편광 특성을 분석하는 편광 특성 분석 수단;및상기 분석된 편광 특성을 기초로 상기 측정 위치에서 크기, 방향축을 갖는 전기장 벡터를 획득하는 전기장 벡터 획득 수단을 포함하는 전기장 벡터 측정 기구
2	2 시료 표면의 검사 영역내의 측정 위치에서 입사광에 의해 형성되는 광신호를 나노미터 수준의 공간 분해능으로 추출하는 광 추출 수단;상기 추출된 광신호의 편광 특성을 분석하는 편광 특성 분석 수단;상기 편광특성 분석된 광신호와 상기 입사광 사이의 간섭특성을 측정하여 위상차를 분석하는 위상차 분석 수단; 및상기 분석된 편광 특성과 상기 위상차를 기초로 상기 측정 위치에서 크기, 방향축 및 방향을 갖는 전기장 벡터를 획득하는 전기장 벡터 획득 수단을 포함하는 전기장 벡터 측정 기구
3	3 제 2항에 있어서, 상기 위상차 분석 수단은,상기 입사광으로부터 제 1분기광을 분기시키는 제 1광분기 부재;상기 편광특성이 분석된 광신호로부터 제 2분기광을 분기시키는 제 2광분기 부재; 및 상기 제 1분기광과 상기 제 2분기광의 간섭특성을 측정하여 상기 제 1분기광에 대한 상기 제 2분기광의 상대적 위상차를 분석하는 광학 간섭계를 포함하는 전기장 벡터 측정 기구
4	4 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 광 추출 수단은 나노미터 수준의 구경을 갖는 개구가 길이방향으로 형성된 탐침, 나노미터 수준의 직경을 갖는 팁이 형성된 탐침 및 나노미터 수준의 직경을 가지는 입자가 부착된 탐침으로 구성된 그룹에서 선택된 어느 하나인 전기장 벡터 측정 기구
5	5 제 1항에 또는 제 2항에 있어서, 상기 편광 특성 분석 수단은 상기 추출된 광신호를 편광 특성에 따라 선택적으로 통과시키는 편광판인 전기장 벡터 측정 기구
6	6 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 전기장 벡터 획득 수단은 광검출기인 전기장 벡터 측정 기구
7	7 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 추출된 광신호를 집속하는 광 집속 수단;및상기 집속된 광신호를 다른 광신호로부터 걸러내는 광 필터링 수단을 더 포함하는 전기장 벡터 측정 기구
8	8 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 검사 영역 내의 전기장 벡터의 분포를 2차원 또는 3차원으로 도면화 하기 위하여, 상기 검사 영역 내에서 상기 측정위치를 달리함에 따른 상기 획득된 전기장 벡터를 연속적으로 기록하는 기록 수단을 더 포함하는 전기장 벡터 측정 기구
9	9 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 편광 특성 분석 수단은 2개의 편광판으로 구성되며, 상기 추출된 광신호에 대한 상기 2개의 편광판 각각의 상대적 위치 및 방향을 조절함에 따라 상기 추출된 광신호의 3차원적 편광 특성을 분석하는 전기장 벡터 측정 기구
10	10 시료 표면의 검사 영역내의 측정 위치에서 입사광에 의해 형성되는 광신호를 나노미터 수준의 공간 분해능으로 추출하는 광 추출 단계;상기 추출된 광신호의 편광 특성을 분석하는 편광 특성 분석 단계;및상기 분석된 편광 특성을 기초로 상기 측정 위치에서 크기, 방향축을 갖는 전기장 벡터를 획득하는 전기장 벡터 획득 단계를 포함하는 전기장 벡터 측정 방법
11	11 시료 표면의 검사 영역내의 측정 위치에서 입사광에 의해 형성되는 광신호를 나노미터 수준의 공간 분해능으로 추출하는 광 추출 단계;상기 추출된 광신호의 편광 특성을 분석하는 편광 특성 분석 단계;상기 편광특성 분석된 광신호와 상기 입사광 사이의 간섭특성을 측정하여 위상차를 분석하는 위상차 특성 분석 단계;및상기 분석된 편광 특성과 상기 위상차를 기초로 상기 측정 위치에서 크기, 방향축 및 방향을 갖는 전기장 벡터를 획득하는 전기장 벡터 획득 단계를 포함하는 전기장 벡터 측정 방법
12	12 제 11항에 있어서, 상기 위상차 특성 분석 단계는,상기 입사광으로부터 제 1분기광을 분기시키는 단계;상기 편광특성이 분석된 광신호로부터 제 2분기광을 분기시키는 단계;및 상기 제 1분기광과 상기 제 2분기광의 간섭특성을 측정하여 상기 제 1분기광에 대한 상기 제 2분기광의 상대적 위상차를 분석하는 단계를 포함하는 전기장 벡터 측정 방법
13	13 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 광 추출 단계는 나노미터 수준의 구경을 갖는 개구가 길이방향으로 형성된 탐침, 나노미터 수준의 직경을 갖는 팁이 형성된 탐침 및 나노미터 수준의 직경을 가지는 입자가 부착된 탐침으로 구성된 그룹에서 선택된 어느 하나에 의해서 수행되는 전기장 벡터 측정 방법
14	14 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 편광 특성 분석 단계는 상기 추출된 광신호를 편광 특성에 따라 선택적으로 통과시키는 편광판에 의해서 수행되는 전기장 벡터 측정 방법
15	15 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 전기장 벡터 획득 단계는 광검출기에 의해서 수행되는 전기장 벡터 측정 방법
16	16 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 추출된 광신호를 집속하는 단계;및상기 집속된 광신호를 다른 광신호로부터 걸러내는 단계를 더 포함하는 전기장 벡터 측정 방법
17	17 제 10항 또는 제 11항에 있어서,상기 검사 영역 내의 전기장 벡터의 분포를 2차원 또는 3차원으로 도면화 하기 위하여, 상기 검사 영역 내에서 상기 측정위치를 달리함에 따른 상기 획득된 전기장 벡터를 연속적으로 기록하는 단계를 더 포함하는 전기장 벡터 측정 방법
18	18 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 편광 특성 분석 단계는 2개의 편광판을 이용하여 상기 추출된 광신호에 대하여 상기 2개의 편광판 각각의 상대적 위치 및 방향을 조절함에 따라 상기 추출된 광신호의 3차원적 편광 특성을 분석하는 전기장 벡터 측정 기구
19	19 제 1항 또는 제 2항에 따른 전기장 벡터 측정 기구를 포함한 전기장 벡터 측정 현미경

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	US20100091294	US	미국	FAMILY
2	WO2008075819	WO	세계지적재산권기구(WIPO)	FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	US2010091294	US	미국	DOCDBFAMILY
2	WO2008075819	WO	세계지적재산권기구(WIPO)	DOCDBFAMILY

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특허 등록번호	10-0808753-0000

권리란

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표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20061219 출원 번호 : 1020060130091 공고 연월일 : 20080229 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080123 청구범위의 항수 : 19 유별 : G01B 21/00 발명의 명칭 : 전기장 벡터 측정 기구 및 방법, 그리고 이 측정 기구를포함하는 현미경 존속기간(예정)만료일 : 20140223

특허권자란

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순위번호	사항
1	(권리자) 삼성전자주식회사 경기도 수원시 영통구...
1	(권리자) 재단법인서울대학교산학협력재단 서울특별시 관악구...

등록료란

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제 1 - 3 년분	금 액	921,000 원	2008년 02월 22일	납입
제 4 년분	금 액	458,000 원	2011년 01월 03일	납입
제 5 년분	금 액	687,000 원	2012년 08월 23일	납입
제 6 년분	금 액	595,400 원	2013년 05월 21일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서	2006.12.19	수리 (Accepted)	1-1-2006-0940645-20
2	명세서등보정서	2007.04.27	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2007-0320671-77
3	[출원인변경]권리관계변경신고서	2007.07.04	수리 (Accepted)	1-1-2007-0488392-27
4	[대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서	2007.07.10	수리 (Accepted)	1-1-2007-0501702-40
5	등록결정서	2008.01.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2008-0033142-63
6	출원인정보변경(경정)신고서	2008.01.29	수리 (Accepted)	4-1-2008-5015497-73
7	출원인정보변경(경정)신고서	2012.06.21	수리 (Accepted)	4-1-2012-5132663-40
8	출원인정보변경(경정)신고서	2014.08.22	수리 (Accepted)	4-1-2014-5100909-62
9	출원인정보변경(경정)신고서	2015.03.20	수리 (Accepted)	4-1-2015-5036045-28


과제고유번호	1345071064
세부과제번호	과06A1102
연구과제명	프런티어물리인력양성사업단
성과구분	등록
부처명	교육과학기술부
연구관리전문기관명	한국학술진흥재단
연구주관기관명	서울대학교
성과제출연도	2008
연구기간	200603~201302
기여율	1
연구개발단계명	기초연구
6T분류명	기타

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