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정렬 마크 검출 장치가 불변 모멘트를 이용하여 웨이퍼의 정렬 마크 위치를 검출하는 방법에 있어서,
웨이퍼의 특정 지점에 대한 이미지를 이용하여 특정 불변 모멘트를 산출하는 단계;
상기 특정 불변 모멘트를 정렬 마크의 이미지로부터 미리 산출되어 저장된 기준 불변 모멘트와 비교하는 단계-여기서, 상기 기준 불변 모멘트는 상기 정렬 마크의 이미지로부터 복수번 산출된 불변 모멘트의 평균값임-; 및
상기 비교 결과 상기 특정 불변 모멘트가 상기 기준 불변 모멘트와 소정의 오차 범위내에 있는 경우 상기 특정 불변 모멘트가 상기 기준 불변 모멘트와 동일하다고 판단하여, 상기 웨이퍼의 특정 지점을 상기 정렬 마크의 위치로 설정하는 단계를 포함하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 방법
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제1항에 있어서,
상기 특정 불변 모멘트는 다음 수식중 하나 또는 그 이상으로부터 산출되는 것을 특징으로 하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 방법
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삭제
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4
삭제
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제1항에 있어서,
상기 특정 불변 모멘트 산출 단계는,
상기 웨이퍼의 특정 지점에 대한 이미지에 이산 푸리에 변환을 적용하는 단계;
상기 웨이퍼의 특정 지점에 대한 이미지에 가우시안 하이 패스 필터를 적용하는 단계;
상기 이산 푸리에 변환과 상기 가우시안 하이 패스 필터의 결과값을 이용하여 필터링된 이미지를 산출하는 단계; 및
상기 필터링된 이미지를 이용하여 상기 특정 불변 모멘트를 산출하는 단계를 더 포함하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 방법
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제5항에 있어서,
상기 필터링된 이미지는 다음 수식에 의해 산출되는 것을 특징으로 하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 방법
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제1항에 있어서,
상기 정렬 마크는 나노 스케일인 것을 특징으로 하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 방법
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웨이퍼를 지지하며 상기 웨이퍼를 이동시키는 구동부;
상기 웨이퍼의 특정 지점에 대한 이미지를 촬상하는 촬상부;
상기 촬상된 상기 웨이퍼의 이미지를 이용하여 특정 불변 모멘트를 산출하는 불변 모멘트 산출부;
상기 특정 불변 모멘트를 정렬 마크의 이미지로부터 미리 산출되어 저장된 기준 불변 모멘트와 비교하는 불변 모멘트 비교부-여기서, 상기 기준 불변 모멘트는 상기 정렬 마크의 이미지로부터 복수번 산출된 불변 모멘트의 평균값임-; 및
상기 비교 결과 상기 특정 불변 모멘트가 상기 기준 불변 모멘트와 소정의 오차 범위내에 있는 경우 상기 특정 불변 모멘트가 상기 기준 불변 모멘트와 동일하다고 판단하여, 상기 웨이퍼의 특정 지점을 상기 정렬 마크의 위치로 설정하는 위치 제어부를 포함하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 장치
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제8항에 있어서,
상기 특정 불변 모멘트는 다음 수식중 하나 또는 그 이상으로부터 산출되는 것을 특징으로 하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 장치
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삭제
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11
삭제
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제8항에 있어서,
상기 불변 모멘트 산출부는,
상기 웨이퍼의 특정 지점에 대한 이미지에 이산 푸리에 변환과 가우시안 하이 패스 필터를 적용하고, 상기 이산 푸리에 변환과 상기 가우시안 하이 패스 필터의 결과값을 이용하여 필터링된 이미지를 산출한 후 상기 필터링된 이미지를 이용하여 상기 특정 불변 모멘트를 산출하는 것을 특징으로 하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 장치
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제12항에 있어서,
상기 필터링된 이미지는 다음 수식에 의해 산출되는 것을 특징으로 하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 장치
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제8항에 있어서,
상기 정렬 마크는 나노 스케일인 것을 특징으로 하는 불변 모멘트를 이용한 정렬 마크 검출 장치
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