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파동원으로부터 기판 상에 일정한 패턴을 가지는 구조물이 형성된 패턴영역을 포함하는 샘플로 파동을 조사하는 단계;정보수집부를 이용하여 상기 패턴영역에서의 다중 산란에 의해 형성된 스펙클(speckle)에 대한 정보를 수집하는 단계; 및상기 수집된 정보를 기준 정보와 비교하여 상기 패턴영역에 형성된 구조물 형태의 이상 여부를 분석하는 단계;를 포함하고, 상기 정보를 수집하는 단계는,상기 샘플로부터 다중산란되어 출사되는 파동의 적어도 일부를 상기 샘플로 반사시켜 상기 샘플에서의 다중산란의 횟수를 증폭시키는 단계를 더 포함하는,패턴 구조물 검사 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 정보를 수집하는 단계는, 상기 샘플과 상기 정보수집부의 사이 또는 상기 정보수집부 내부의 일 영역에서 수행되는, 패턴 구조물 검사 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 정보를 수집하는 단계는, 상기 샘플의 표면으로부터 제 1 거리 이격된 제 1 지점을 포함하는 제 1 면과, 상기 샘플의 표면으로부터 상기 제 1 거리보다 먼 제 2 거리 이격된 제 2 지점을 포함하는 제 2 면 사이의 영역에서 이루어지는, 패턴 구조물 검사 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 정보수집부를 2개 이상 포함하는 경우, 상기 복수의 정보수집부들로부터 검출된 복수의 스펙클을 이용하여 3차원 스펙클 이미지를 생성하는 단계를 더 포함하는, 패턴 구조물 검사 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 파동원에서 조사되는 파동은 레이저를 포함하는, 패턴 구조물 검사 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 샘플은 기판 상에 복수의 패턴이 상기 기판에 수직한 방향으로 순차적으로 적층된 구조를 가지는, 패턴 구조물 검사 방법
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8
제 1 항에 있어서, 상기 샘플의 구조물은 금속으로 이루어진 패턴 영역 및 절연체로 이루어진 패턴 영역을 포함하는, 패턴 구조물 검사 방법
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9
기판 상에 동일한 형태를 가지는 복수의 패턴영역이 일정한 이격 거리를 두고 주기적으로 반복되도록 형성되는 패턴 구조물에 대한 검사 방법으로서, 파동원으로부터 상기 복수의 패턴영역 중 임의의 하나인 제 1 패턴영역을 선택하여 상기 제 1 패턴영역에 파동을 조사하고, 상기 제 1 패턴영역에서의 다중 산란에 의해 형성된 스펙클(speckle)에 대한 정보를 수집하여 DB에 저장하는 제 1 단계; 상기 제 1 단계와 동일한 단계를 상기 제 1 패턴영역으로터 이격된 적어도 하나의 다른 패턴영역에 반복적으로 수행하여 상기 다른 패턴영역에서의 스펙클 정보를 DB에 저장하는 제 2 단계;상기 제 1 단계 및 제 2 단계에서 수집된 스펙클 정보를 분석하여 상기 패턴영역의 이상 유무를 판단하는 기준을 설정하는 단계; 및상기 DB에 저장된 상기 패턴영역의 스펙클 정보를 상기 기준과 비교하고 판단하는 단계:를 포함하는, 패턴 구조물 검사 방법
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10
기판 상에 일정한 패턴을 가지는 구조물이 형성된 패턴영역을 포함하는 샘플로 파동을 조사하는 파동원;상기 조사된 파동이 상기 샘플에 의해 다중 산란(multiple scattering)되어 발생된 스펙클(speckle)을 검출하는 정보수집부; 및상기 정보수집부로부터 수집된 스펙클 정보를 전송받아 분석하고, 이를 디스플레이로 출력하는 정보분석부를 포함하고, 상기 정보수집부는, 상기 샘플과 상기 정보수집부 사이 또는 상기 정보수집부 내부의 일영역에서 레이저 스펙클을 검출하며, 상기 샘플로부터 다중산란되어 출사되는 상기 파동의 적어도 일부를 상기 샘플로 반사시켜 상기 샘플에서의 다중 산란 횟수를 증폭시키는 다중산란증폭부;를 더 포함하는,패턴 구조물 검사 장치
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제 10 항에 있어서, 상기 정보수집부는 상기 샘플의 표면으로부터 일정 거리 이격된 제1 영역에서 상기 스펙클을 검출하는, 패턴 구조물 검사 장치
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제 11 항에 있어서, 상기 제 1 영역은 상기 샘플의 표면으로부터 제 1 거리 이격된 제1 지점을 포함하는 제 1 면과 상기 샘플의 표면으로부터 상기 제 1 거리보다 먼 제 2 거리 이격된 제2 지점을 포함하는 제 2 면 사이에 배치되는, 패턴 구조물 검사 장치
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제 10 항에 있어서, 상기 정보수집부를 둘 이상 포함하는 경우, 상기 복수의 정보수집부들로부터 검출된 복수의 상기 스펙클들을 이용하여 3차원 스펙클 이미지를 생성하는 3차원 이미지 생성부;를 더 포함하고, 제어부는 상기 3차원 스펙클 이미지를 이용하여 상기 샘플 특성을 탐지하는패턴 구조물 검사 장치
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삭제
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제 10 항에 있어서, 상기 다중산란증폭부는, 상기 샘플의 중심을 지나는 연장선 상에 배치되며, 상기 샘플로부터 다중산란되어 출사되는 상기 파동의 적어도 일부를 상기 샘플로 반사시키는 제1 다중산란증폭부; 및 상기 샘플을 기준으로 상기 제1 다중산란증폭부와 대향되게 배치되며, 상기 샘플로부터 다중산란되어 출사되는 상기 파동의 적어도 일부를 상기 샘플로 반사시키는 제2 다중산란증폭부;를 포함하는패턴 구조물 검사 장치
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샘플을 수용하는 샘플 홀더 및 기준 샘플을 수용하는 기준 샘플 홀더;상기 샘플 및 기준 샘플로 파동을 조사하는 파동원;상기 조사된 파동이 상기 샘플 및 기준 샘플에 의해 다중 산란(multiple scattering)되어 발생된 스펙클(speckle)을 검출하는 정보수집부; 및상기 정보수집부로부터 수집된 스펙클 정보를 전송받아 분석하고, 이를 디스플레이로 출력하는 정보분석부를 포함하고, 상기 샘플 및 기준 샘플은 기판 상에 일정한 패턴을 가지는 구조물이 형성된 패턴영역을 포함하는 패턴 구조물 검사 장치
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제 17 항에 있어서, 상기 정보수집부는, 상기 샘플과 상기 정보수집부 사이 또는 상기 정보수집부 내부의 일영역에서 레이저 스펙클을 검출하는, 패턴 구조물 검사 장치
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19
제 17 항에 있어서, 상기 파동원으로부터 입사된 파동을 분할시켜 복수의 파동 경로로 제공하는 다중 빔 리플렉터; 및 상기 다중 빔 리플렉터로부터 제공되는 상기 파동 경로들 상에 배치되고, 상기 샘플 및 상기 기준 샘플에서 반사되어 출사되는 상기 파동의 경로들을 변경하여 상기 정보수집부로 제공하는 빔 스플리터;를 더 포함하는, 패턴 구조물 검사 장치
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