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파장가변 광원

  • 기술번호 : KST2019019516
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 실시예에 따른 파장가변 광원은 외부 반사기, 상기 외부 반사기의 일측에 배치되고, 제1 방향을 따라 배열된 이득영역, 반사영역 및 변조영역을 포함하는 기판, 상기 이득영역, 상기 반사영역 및 상기 변조영역들의 기판 상에 연속적으로 배치된 광 도파로, 및 상기 반사영역의 기판 상에 상기 광 도파로와 인접하게 배치된 제1 회절격자 및 제2 회절격자를 포함하되, 상기 이득영역은 상기 외부 반사기 및 상기 반사영역의 사이에 배치되고, 상기 제1 회절격자 및 상기 제2 회절격자는 서로 다른 격자 주기를 가질 수 있다.
Int. CL G02B 6/12 (2006.01.01) G02B 6/02 (2006.01.01)
CPC G02B 6/12009(2013.01) G02B 6/12009(2013.01)
출원번호/일자 1020180038879 (2018.04.03)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0115778 (2019.10.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권오기 세종특별자치시 새롬중앙
2 김기수 서울 서초구
3 이철욱 대전광역시 유성구
4 오수환 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.04.03 수리 (Accepted) 1-1-2018-0332470-13
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
외부 반사기;상기 외부 반사기의 일측에 배치되고, 제1 방향을 따라 배열된 이득영역, 반사영역 및 변조영역을 포함하는 기판;상기 이득영역, 상기 반사영역 및 상기 변조영역들의 기판 상에 연속적으로 배치된 광 도파로; 및상기 반사영역의 기판 상에 상기 광 도파로와 인접하게 배치된 제1 회절격자 및 제2 회절격자를 포함하되,상기 이득영역은 상기 외부 반사기 및 상기 반사영역의 사이에 배치되고,상기 제1 회절격자 및 상기 제2 회절격자는 서로 다른 격자 주기를 갖는 파장 가변 광원
2 2
제 1 항에 있어서,상기 광 도파로 및 상기 기판 사이에 배치된 하부 클래딩층; 및상기 광 도파로 상에 배치된 상부 클래딩층을 더 포함하되,상기 제1 회절격자 및 상기 제2 회절격자는 상기 하부 클래딩층 또는 상기 상부 클래딩층 내에 배치되는 파장 가변 광원
3 3
제 2 항에 있어서,상기 하부 클래딩층은 제1 도전형의 도펀트로 도핑된 화합물 반도체를 포함하고, 상기 상부 클래딩층은 제2 도전형의 도펀트로 도핑된 화합물 반도체를 포함하는 파장 가변 광원
4 4
제 1 항에 있어서,상기 광 도파로는 상기 이득영역 내의 이득 도파로, 상기 반사영역 내의 수동 도파로 및 상기 변조영역 내의 변조 도파로를 포함하고, 상기 수동 도파로는 상기 이득 도파로 및 상기 변조 도파로와 맞대기 결합(buttcoupling)되는 파장 가변 광원
5 5
제 4 항에 있어서,상기 광 도파로와 상기 기판 사이에 배치되는 하부 전극, 상기 이득 도파로 상에 배치된 제1 상부 전극 및 상기 변조 도파로 상에 배치된 제2 상부전극을 더 포함하는 파장 가변 광원
6 6
제 1 항에 있어서,상기 제1 회절격자 및 상기 제2 회절격자는 상기 제1 방향을 따라 연속적으로 배치되는 파장 가변 광원
7 7
제 1 항에 있어서,상기 제1 회절격자 및 상기 제2 회절격자 사이의 제3 회절격자를 더 포함하고,상기 제3 회절격자의 격자 주기는 상기 제1 회절격자의 격자 주기보다 크고 상기 제2 회절격자의 격자 주기보다 작은 파장 가변 광원
8 8
제 7 항에 있어서,상기 제1 회절격자 및 상기 제2 회절격자의 격자 수는 실질적으로 동일한 파장 가변 광원
9 9
제 7 항에 있어서,상기 제3 회절격자의 격자 수는 상기 제1 회절격자의 격자 수 및 상기 제2 회절격자의 격자 수보다 작은 파장 가변 광원
10 10
제 1 항에 있어서,상기 외부 반사기는 외부 회절격자를 포함하는 파장 가변 광원
11 11
제 1 항에 있어서,상기 외부 반사기는 외부 회절격자 및 상기 외부 회절격자를 지지하는 지지대를 포함하고,상기 외부 회절격자는 상기 지지대에 회동 가능하게 결합되는 파장 가변 광원
12 12
제 1 항에 있어서, 상기 외부 반사기와 상기 이득영역의 사이에 배치되는 편향기 및 상기 편향기와 상기 이득영역 사이에 배치되는 렌즈를 더 포함하는 파장 가변 광원
13 13
제 1 항에 있어서,상기 광 도파로는 상기 이득영역 내의 이득 도파로 및 상기 반사영역의 내부로부터 상기 변조영역의 내부로 연장되는 수동 도파로를 포함하고,상기 이득 도파로 및 상기 수동 도파로는 맞대기 결합되는 파장 가변 광원
14 14
제 13 항에 있어서,상기 수동 도파로는 상기 변조영역 내에서 복수의 도파로들로 분기되고,상기 복수의 도파로들 중 적어도 어느 한 도파로 상에 배치되는 전극을 더 포함하는 파장 가변 광원
15 15
제 2 항에 있어서,상기 하부 클래딩층, 광도파로 및 상부 클래딩층은 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 적층되고,상기 외부 반사기는 상기 제2 방향을 따라 연장된 형상을 갖는 외부 회절격자를 포함하는 파장 가변 광원
16 16
제 15 항에 있어서,상기 외부 회절격자는 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 수직한 제3 방향을 따라 굴절률이 주기적으로 변화하는 브래그 격자를 포함하는 파장 가변 광원
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 오이솔루션 정보통신 방송연구개발사업 DBR 파장가변 레이저 집적 EAM 개발