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기판(substrate); 및상기 기판 위에 형성되며, 복수의 나노(nano) 기둥들을 포함하는 미세유체 채널이 형성되는 멤브레인 층(membrane layer)을 포함하는 바이오센서
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제1항에 있어서,상기 기판과 상기 멤브레인 층 사이에 형성되며, 공동(cavity)을 포함하는 절연층(insulator)를 더 포함하는 바이오센서
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제2항에 있어서,상기 공동은 기체 매질(gas medium)로 채워지는바이오센서
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제1항에 있어서,상기 미세유체 채널은 상기 멤브레인 층의 상부에 개방형으로 형성된바이오센서
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제4항에 있어서,상기 미세유체 채널이 상기 멤브레인 층에 일체형으로 형성되는바이오센서
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제1항에 있어서,상기 복수의 나노 기둥들은,상기 복수의 나노 기둥들 사이의 간격이 일정하게 형성되는바이오센서
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제1항에 있어서,상기 복수의 나노 기둥들은,기둥의 높이, 기둥 사이의 너비, 및 기둥의 물성 중에서 적어도 하나를 변화하여 형성되는바이오센서
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제1항에 있어서,상기 멤브레인 층의 상부는,상기 복수의 나노 기둥의 상부에 친수성으로 코팅되는 제1 코팅층; 및상기 멤브레인 층의 상부에서 상기 복수의 나노 기둥의 상부를 제외한 나머지 영역에 소수성으로 코팅되는 제2 코팅층을 포함하는 바이오센서
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제7항에 있어서,상기 제1 코팅층 및 상기 제2 코팅층은,상기 멤브레인 층의 상부에 iCVD(initiated chemical vapor deposition) 방법으로 코팅되는바이오센서
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기판(substrate)을 형성하는 단계; 및상기 기판 위에 복수의 나노(nano) 기둥들을 포함하는 미세유체 채널이 형성되는 멤브레인 층(membrane layer)을 형성하는 단계;를 포함하는 바이오센서 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 기판과 상기 멤브레인 층 사이에 공동(cavity)을 포함하는 절연층(insulator)을 형성하는 단계를 더 포함하는 바이오센서 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 공동은 기체 매질(gas medium)로 채워지는바이오센서 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 멤브레인 층을 형성하는 단계는,상기 절연층 위에 실리콘 막을 형성하는 단계; 및상기 실리콘 막을 식각하여 상기 미세유체 채널을 형성하는 단계를 포함하는 바이오센서 제조 방법
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제13항에 있어서,상기 미세유체 채널을 형성하는 단계는,상기 실리콘 막 위에 순차적으로 형성되는 코팅 입자, 감광액 층, 및 마스크 층을 이용하여 소정의 형태 및 소정의 패턴으로 상기 실리콘 막을 식각하여 상기 미세유체 채널을 형성하는 단계를 포함하는 바이오센서 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 미세유체 채널을 형성하는 단계는,상기 실리콘 막 위에 코팅 입자를 소정의 형태로 형성하는 단계;상기 코팅 입자를 포함하는 상기 실리콘 막 위에 감광액(photoresist) 층을 코팅하는 단계;상기 감광액 층 위에 소정의 패턴으로 마스크 층을 적층하는 단계;상기 소정의 패턴으로 상기 감광액 층을 식각하는 단계;상기 마스크 층을 제거하는 단계;상기 소정의 형태로 상기 실리콘 막을 식각하여 상기 미세유체 채널을 형성하는 단계; 및상기 감광액 층 및 상기 코팅 입자를 제거하는 단계를 포함하는 바이오센서 제조 방법
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제15항에 있어서,상기 감광액 층을 식각하는 단계는,노광(light exposure) 공정으로 상기 감광액 층을 상기 소정의 패턴으로 식각하는 단계를 포함하는 바이오센서 제조 방법
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제16항에 있어서,상기 소정의 형태로 상기 실리콘 막을 식각하여 상기 미세유체 채널을 형성하는 단계는,RIE(reactive ion etching) 공정으로 상기 실리콘 막을 상기 소정의 형태로 식각하는 단계를 포함하는 바이오센서 제조 방법
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제15항에 있어서,상기 코팅 입자를 소정의 형태로 형성하는 단계는,상기 코팅 입자를 소정의 온도로 어닐링(annealing)하여 소정의 형태로 형성하는 단계를 포함하는 바이오센서 제조 방법
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제15항에 있어서,상기 복수의 나노 기둥의 상부에 친수성의 제1 코팅층을 코팅하는 단계; 및상기 멤브레인 층의 상부에서 상기 복수의 나노 기둥의 상부를 제외한 나머지 영역에 소수성의 제2 코팅층을 코팅하는 단계를 더 포함하는 바이오센서 제조 방법
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제19항에 있어서,상기 제1 코팅층을 코팅하는 단계는,상기 멤브레인 층의 상부에 제1 코팅층을 iCVD(initiated chemical vapor deposition) 방법으로 코팅하는 단계를 포함하고,상기 제2 코팅층을 코팅하는 단계는,상기 멤브레인 층의 상부에 제1 코팅층을 iCVD(initiated chemical vapor deposition) 방법으로 코팅하는 단계를 포함하는바이오센서 제조 방법
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