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적어도 하나의 직물로 구성되는 직물층;상기 직물층의 상부에 배치되어, 상기 직물층이 휘어짐에 따라 야기되는 물리적 변형률(strain) 및 스트레스(stress)의 발생을 최소화하는 스트레스 버퍼층; 및상기 스트레스 버퍼층의 상부에 배치되어, 발광소자의 동작이 가능하도록 평탄한 표면을 제공하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판
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제1항에 있어서,상기 스트레스 버퍼층은, 신축성 및 접착성을 갖는 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 직물 기판
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제1항에 있어서,상기 스트레스 버퍼층은, 직물 기판의 유연성 확보를 위해, 500MPa 이하의 영률(Young’s modulus)을 갖는 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 직물 기판
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제1항에 있어서,상기 스트레스 버퍼층은, 0
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제1항에 있어서,상기 스트레스 버퍼층은, 실온에서 경화가 가능한 실리콘 계열의 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 직물 기판
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제1항에 있어서,상기 평탄화층은, 수 나노미터(㎚) 이하의 표면 거칠기와 박막 형성에 적합한 계면 특성을 갖는 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 직물 기판
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제1항에 있어서,상기 평탄화층은, 0
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제1항에 있어서,상기 평탄화층은, 30㎛ 이하의 두께를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 직물 기판
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제1항에 있어서,상기 평탄화층은, SU-8(광경화성 에폭시 수지), PEN(폴리에틸렌나프탈레이트), PI(폴리이미드), PET(폴리에틸렌 테레프타레이트), PVA(폴리비닐 알코올), 아크릴레이트, 폴리우레탄 및 폴리다이메틸실록산 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 직물 기판
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제1항에 있어서,상기 스트레스 버퍼층 및 평탄화층 중 적어도 하나는, UV 경화가 가능한 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 직물 기판
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제1항에 있어서,상기 스트레스 버퍼층 및 평탄화층 중 적어도 하나는, 유사 직물 패턴에 대응하는 복수의 개구들을 구비하는 것을 특징으로 하는 직물 기판
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지지기판 상에 희생층을 적층하고, 상기 희생층 상에 평탄화층을 적층하는 단계;상기 평탄화층 상에 스트레스 버퍼층을 적층하고, 상기 스트레스 버퍼층 상에 직물층을 배치한 후 미리 결정된 압력을 상기 직물층 방향으로 인가하는 단계; 및상기 지지 기판과 상기 평탄화층 사이에 배치된 희생층을 제거하여, 상기 평탄화층, 스트레스 버퍼층 및 직물층이 순차적으로 적층된 직물 기판을 생성하는 단계를 포함하는 직물 기판의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 지지기판의 표면에 존재하는 오염 물질을 세척하는 단계를 더 포함하는 직물 기판의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 희생층은, 용매에 잘 녹는 가용성 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 직물 기판의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 희생층을 적층하는 단계는,미리 결정된 코딩 공정을 이용하여 상기 희생층을 적층하고, 일정 온도의 열을 미리 결정된 시간 동안 인가하여 상기 희생층을 경화시키는 것을 특징으로 하는 직물 기판의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 평탄화층을 적층하는 단계는,미리 결정된 코팅 공정을 이용하여 상기 평탄화층을 적층하고, 일정 온도의 열을 미리 결정된 시간 동안 인가하거나 혹은 일정 파장의 자외선을 미리 결정된 시간 동안 조사하여 상기 평탄화층을 경화시키는 것을 특징으로 하는 직물 기판의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 스트레스 버퍼층을 실온에서 일정 시간 동안 경화시키는 단계를 더 포함하는 직물 기판의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 생성 단계는,미리 결정된 용매를 인가하여 상기 희생층을 제거하는 것을 특징으로 하는 직물 기판의 제조방법
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제12항에 있어서,포토리소그래피 공정을 이용하여, 상기 지지기판과 상기 희생층 사이에 유사 직물 패턴의 역상 패턴을 갖는 금속 패턴층을 형성하는 단계를 더 포함하는 직물 기판의 제조방법
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제19항에 있어서,상기 지지기판의 하면 방향으로 자외선(UV)을 조사하여 상기 평탄화층 및 스트레스 버퍼층의 일 부분을 경화시키는 단계; 및현상액을 이용하여 상기 평탄화층 및 스트레스 버퍼층에서 UV 경화가 일어나지 않은 부분들을 선택적으로 식각하는 단계를 더 포함하는 직물 기판의 제조방법
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