| 1 |
1
이미지 센서 모듈에 적용되는 마이크로 렌즈 어레이로서,투명한 기판과;상기 기판의 표면에 패터닝된 홀이 형성되고, 금속으로 형성되는 제 1 흡수층과;상기 제 1 흡수층에 형성된 홀을 채우면서 상기 제 1 흡수층의 표면에 형성되고, 투명한 폴리머로 형성되는 제 1 투과층과;상기 제 1 흡수층에 형성된 홀의 패턴에 대응되는 패턴으로 패터닝된 홀을 형성하면서 상기 제 1 투과층의 표면에 형성되고, 불투명한 폴리머로 형성되는 제 2 흡수층과;상기 제 2 흡수층에 형성된 홀을 채우면서 상기 제 2 흡수층의 표면에 형성되고, 투명한 폴리머로 형성되는 제 2 투과층과;상기 제 2 흡수층에 형성된 홀의 패턴에 대응되는 패턴으로 상기 제 2 투과층의 표면에 형성되는 마이크로 렌즈를 포함하는 마이크로 렌즈 어레이
|
| 2 |
2
청구항 1에 있어서,상기 제 2 흡수층과 제 2 투과층은 복수 회수로 반복되어 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이
|
| 3 |
3
청구항 1에 있어서,상기 제 1 흡수층과 제 2 흡수층은 가시광 및 적외선(IR)의 투과를 차단하는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이
|
| 4 |
4
투명한 기판과; 상기 기판의 표면에 패터닝된 홀이 형성되고, 금속으로 형성되는 제 1 흡수층과; 상기 제 1 흡수층에 형성된 홀을 채우면서 상기 제 1 흡수층의 표면에 형성되고, 투명한 폴리머로 형성되는 제 1 투과층과; 상기 제 1 흡수층에 형성된 홀의 패턴에 대응되는 패턴으로 패터닝된 홀을 형성하면서 상기 제 1 투과층의 표면에 형성되고, 불투명한 폴리머로 형성되는 제 2 흡수층과; 상기 제 2 흡수층에 형성된 홀을 채우면서 상기 제 2 흡수층의 표면에 형성되고, 투명한 폴리머로 형성되는 제 2 투과층과; 상기 제 2 흡수층에 형성된 홀의 패턴에 대응되는 패턴으로 상기 제 2 투과층의 표면에 형성되는 마이크로 렌즈를 포함하는 마이크로 렌즈 어레이와;상기 마이크로 렌즈와 소정 간격 이격되어 배치되는 이미지 센서를 포함하는 이미지 센서모듈
|
| 5 |
5
청구항 4에 있어서,상기 마이크로 렌즈와 이미지 센서가 이격된 공간은 빈 공간으로 형성되는 것을 특징으로 하는 이미지 센서모듈
|
| 6 |
6
청구항 5에 있어서,상기 마이크로 렌즈와 이미지 센서가 이격된 거리는 상기 마이크로 렌즈의 초점거리에 대응되는 것을 특징으로 하는 이미지 센서모듈
|
| 7 |
7
청구항 4에 있어서,상기 마이크로 레즈 어레이의 제 2 흡수층과 제 2 투과층은 복수 회수로 반복되어 형성되는 것을 특징으로 하는 이미지 센서모듈
|
| 8 |
8
이미지 센서 모듈을 제조하는 방법으로서,마이크로 렌즈가 형성되는 마이크로 렌즈 어레이를 준비하는 과정과;이미지 센서를 준비하는 과정과;상기 마이크로 렌즈 어레이의 마이크로 렌즈가 이미지 센서의 센싱면을 향하도록 배치하고, 상기 마이크로 렌즈와 이미지 센서의 센싱면을 소정 간격 이격시켜 결합하는 과정을 포함하는 이미지 센서모듈의 제조방법
|
| 9 |
9
청구항 8에 있어서,상기 마이크로 렌즈 어레이를 준비하는 과정은,투명한 기판을 준비하는 단계와;상기 기판의 표면에 금속소재를 이용하여 패터닝된 홀이 형성된 제 1 흡수층을 형성하는 단계와;투명한 폴리머를 이용하여 상기 제 1 흡수층에 형성된 홀을 채우면서 상기 제 1 흡수층의 표면에 제 1 투과층을 형성하는 단계와;불투명한 폴리머를 이용하여 상기 제 1 흡수층에 형성된 홀의 패턴에 대응되는 패턴으로 패터닝된 홀을 형성하면서 상기 제 1 투과층의 표면에 제 2 흡수층을 형성하는 단계와;투명한 폴리머를 이용하여 상기 제 2 흡수층에 형성된 홀을 채우면서 상기 제 2 흡수층의 표면에 제 2 투과층을 형성하는 단계와;상기 제 2 흡수층에 형성된 홀의 패턴에 대응되는 패턴으로 상기 제 2 투과층의 표면에 마이크로 렌즈를 형성하는 단계를 포함하는 이미지 센서모듈의 제조방법
|
| 10 |
10
청구항 9에 있어서,상기 제 2 흡수층을 형성하는 단계와 제 2 투과층을 형성하는 단계는 보수 회수로 반복되어 실시되는 것을 특징으로 하는 이미지 센서모듈의 제조방법
|
| 11 |
11
청구항 9에 있어서,상기 제 1 흡수층을 형성하는 단계는, 상기 기판의 표면에 LOR 및 GXR 물질을 코팅한 후 홀패턴이 형성된 마스크를 이용한 포토리소그래피(Photolithography) 공정으로 상기 홀패턴에 대응되는 패턴으로 더미 제 1 흡수층패턴을 형성하는 과정과;상기 제 1 흡수층패턴이 형성된 기판의 표면 전체에 금속을 증착시키는 과정과;상기 제 1 흡수층패턴을 제거하여 상기 홀패턴에 대응되는 패턴을 갖는 제 1 흡수층을 기판의 표면에 잔류시키는 과정을 포함하는 이미지 센서모듈의 제조방법
|
| 12 |
12
청구항 9에 있어서,상기 제 1 투과층을 형성하는 단계에서,상기 투명한 폴리머는 열경화성 감광액인 것을 특징으로 하는 이미지 센서모듈의 제조방법
|
| 13 |
13
청구항 9에 있어서,상기 마이크로 렌즈를 형성하는 단계는,상기 제 2 흡수층에 형성된 홀의 패턴에 대응되는 패턴으로 상기 제 2 투과층의 표면에 마이크로 렌즈패턴을 형성하는 과정과;상기 마이크로 렌즈패턴을 열처리하여 반구 형상을 갖는 복수개의 마이크로 렌즈를 형성하는 과정을 포함하는 이미지 센서모듈의 제조방법
|
| 14 |
14
청구항 13에 있어서,상기 마이크로 렌즈패턴은 열가소성 감광액을 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 이미지 센서모듈의 제조방법
|
| 15 |
15
청구항 8에 있어서,상기 마이크로 렌즈와 이미지 센서의 센싱면을 소정 간격 이격시켜 결합하는 과정은,상기 마이크로 렌즈와 이미지 센서의 센싱면을 상기 마이크로 렌즈의 초점거리에 대응되는 거리만큼 이격시켜 결합하는 것을 특징으로 하는 이미지 센서모듈의 제조방법
|
