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전체 조성물의 중량%를 기준으로, 아크릴레이트 올리고머 30 내지 85중량%;아크릴레이트 모노머 7 내지 25중량%;광개시제 2 내지 12중량%;광증감제 0
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제 1 항에 있어서, 상기 아크릴레이트 올리고머는 고형분 함량이 50 내지 80중량%인 폴리머 후막 저항체용 페이스트 조성물
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제 1 항에 있어서, 상기 아크릴레이트 올리고머는 에폭시 수지로부터 변성되는 에폭시 아크릴레이트 올리고머인 폴리머 후막 저항체용 페이스트 조성물
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4
제 1 항에 있어서, 상기 아크릴레이트 모노머는 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 에톡실레이티드 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트로 이루어진 3관능기 이상의 그룹에서 선택된 어느 하나를 함유하는 폴리머 후막 저항체용 페이스트 조성물
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제 1 항에 있어서, 상기 광개시제로는 α-아미노알킬페논 유도체 화합물, α-하이드록시알킬페논 고분자 화합물 및 아크릴포스핀옥사이드 화합물로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나를 사용하는 폴리머 후막 저항체용 페이스트 조성물
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6
제 1 항에 있어서, 상기 광증감제로는 티옥산톤 유도체 화합물을 사용하는 폴리머 후막 저항체용 페이스트 조성물
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7
제 1 항에 있어서, 상기 열개시제로는 케톤퍼옥사이드계, 퍼옥시케탈계, 하이드로퍼옥사이드계, 디알킬퍼옥사이드계, 디아실퍼옥사이드계, 퍼옥시에스테르계 및 퍼옥시디카보네이트계로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나의 유기 과산화물을 사용하는 폴리머 후막 저항체용 페이스트 조성물
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8
제 1 항에 있어서, 상기 전도성 필러로는 카본블랙, 그라파이트, 카본나노튜브 및 카본나노파이버로 이루어진 카본류 그룹에서 선택된 어느 하나 또는 두 가지 이상의 혼합물을 사용하는 폴리머 후막 저항체용 페이스트 조성물
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삭제
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10
도전패턴이 형성된 제1 기판을 준비하는 단계;상기 도전패턴을 덮도록 상기 제1 기판상에 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 폴리머 후막 저항체용 페이스트를 도포하는 단계;상기 폴리머 후막 저항체용 페이스트를 건조하는 단계;상기 폴리머 후막 저항체용 페이스트를 노광하는 단계;상기 폴리머 후막 저항체용 페이스트를 현상하는 단계; 및상기 폴리머 후막 저항체용 페이스트를 경화시키는 단계를 포함하는 후막 저항체 제조방법
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11
제 10 항에 있어서, 상기 경화시키는 단계 후, 상기 폴리머 후막 저항체용 페이스트를 상부에 제2 기판을 압착시키는 단계를 더 포함하는 후막 저항체 제조방법
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