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유연성 고분자 기판;상기 유연성 고분자 기판 상에 형성된 전도성 회로 패턴부; 및상기 전도성 회로 패턴부 상에 형성된 고분자층;을 포함하는 연성회로기판에 있어서,상기 전도성 회로 패턴부는 유리질 탄소(glassy carbon)를 포함하는 것인,연성회로기판
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제 1 항에 있어서, 상기 전도성 회로 패턴부는 상기 유연성 고분자 기판의 일부가 탄화되어 상기 유리질 탄소로 변환되어 형성된 것인, 연성회로기판
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제 2 항에 있어서, 상기 전도성 회로 패턴부는 상기 유연성 고분자 기판의 일부가 적외선 레이저 조사에 의한 광열효과(Photothermal Effect)에 의해 탄화되어 상기 유리질 탄소로 변환되어 형성된 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서, 상기 고분자층은 전도성 고분자, 비전도성 고분자 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 포함하는 것인, 연성회로기판
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제 4 항에 있어서, 상기 전도성 고분자는 PEDOT : PSS, 폴리아닐린(polyaniline), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리아세틸렌(polyacetylene), 폴리에틸렌다이옥실티오펜(poly(3,4-ethylenedioxythiophene), PEDOT), 폴리페닐렌비닐렌(polyphenylenevinylene, PPV), 폴리플루오렌(polyfluorene), 폴리파라페닐렌(polyparaphenylene, PPP), 폴리알킬티오펜(polyalkylthiophene), 폴리피리딘(polypyridine, PPy), 폴리비닐카바졸(polyvinylcarbazole) 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서, 상기 고분자층은 상기 유리질 탄소의 나노 입자간 공극을 메꿔주는 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자는 방향족 탄화 수소를 포함하는 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자는 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리노르보넨, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐알콜, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리스타일렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리염화비닐, 폴리아미드, 폴리틸렌테레프탈레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리디메틸실록산, 폴리페닐설파이드, 폴리에테르에테르케톤, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 연성회로기판
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유연성 고분자 기판 상에 레이저를 조사하여 전도성 회로 패턴부를 형성하는 단계; 및상기 전도성 회로 패턴부 상에 고분자층을 형성하는 단계를 포함하는 연성회로기판의 제조 방법에 있어서,상기 레이저는 적외선 영역대의 파장을 가지는 것이고,상기 전도성 회로 패턴부는 상기 유연성 고분자 기판의 일부가 탄화되어 형성되는 것인,연성회로기판의 제조 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 유연성 고분자가 광열효과(Photothermal Effect)에 의해 탄화되어 유리질 탄소를 형성하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 레이저의 에너지 밀도에 따라 상기 유연성 고분자 기판 상에 형성되는 상기 전도성 회로 패턴부의 깊이가 조절되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 레이저를 이동시키며 조사하여 상기 전도성 회로 패턴부를 형성하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 탄화된 전도성 회로 패턴부는 면저항이 감소하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 13 항에 있어서,상기 레이저의 조사 시간에 따라 상기 면저항이 조절되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 고분자층은 스핀코팅(spin coating), 딥코팅(dip coating), 바코팅(bar coating), 자기조립(self assembly), 스프레이법(spary), 잉크젯 프린팅(inkjet printing), 그라비아(gravure), 그라비아 오프셋(gravure-offset), 플렉소 인쇄법(flexography), 스크린 프린팅(screen-printing), 직접 주입법 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 방법으로 형성되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,탄화되지 않은 일부 유연성 고분자 기판 표면 상의 상기 고분자층을 제거하기 위해 세척하는 단계를 추가 포함하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 연성회로기판을 포함하는, 전자 소자
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제 17 항에 있어서,상기 전자 소자는 온도에 따라 상이한 저항값을 가지는 것인, 전자 소자
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