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전도성 고분자 전극의 형성방법 및 이를 이용한 유기박막 트랜지스터의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015166805
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 잉크젯 프린팅 기술과 기상증착중합 기술을 접목한 성막 기술을 이용하여 전도성 고분자 전극을 형성할 수 있는 전도성 고분자 전극의 형성방법 및 이를 이용한 유기박막 트랜지스터의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 전도성 고분자 전극의 형성방법은, (a) 기판 위에 개시제 용액을 잉크젯 프린팅법으로 도포하여 기판 위에 개시제 패턴을 형성하는 단계, (b) 개시제 패턴이 형성된 기판을 감압 챔버에 넣고 감압 챔버에 전도성 고분자 단량체 증기를 공급하여, 개시제 패턴 위에 전도성 고분자 단량체를 응집 및 중합시키는 단계를 포함한다. 본 발명에 의한 전도성 고분자 전극의 형성방법은 저비용으로 전도성 고분자 전극을 형성할 수 있다.
Int. CL H05B 33/26 (2006.01) H01L 51/40 (2006.01) H01L 51/30 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110076008 (2011.07.29)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0014090 (2013.02.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 포기
심사진행상태 포기
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.07.29)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김성현 대한민국 서울특별시 서초구
2 송기국 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서재승 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***-*(논현동) ***호(스카이국제특허사무소)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.07.29 포기 (Abandonment) 1-1-2011-0589955-41
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.03.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.04.19 수리 (Accepted) 9-1-2012-0030521-84
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.02.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0137749-34
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0378487-61
6 [특허 등 절차 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Procedure such as Patent, etc.] Request for Withdrawal (Abandonment)
2013.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0465233-01
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 기판 위에 개시제 용액을 잉크젯 프린팅법으로 도포하여 상기 기판 위에 개시제 패턴을 형성하는 단계; 및(b) 상기 개시제 패턴이 형성된 상기 기판을 감압 챔버에 넣고 상기 감압 챔버에 전도성 고분자 단량체 증기를 공급하여, 상기 개시제 패턴 위에 상기 전도성 고분자 단량체를 응집 및 중합시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 전극의 형성방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계 이전에 상기 기판에 상기 개시제 용액이 원활하게 인쇄될 수 있도록 상기 기판 표면을 친수성이 향상되도록 표면 개질하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 전극의 형성방법
3 3
제 2 항에 있어서,상기 기판에 대한 친수성 표면 개질은 O2 플라즈마 표면처리를 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 전극의 형성방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 전도성 고분자는 PEDOT/PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/poly(4-styrene sulfonate), PANI(polyaniline), PPy(polypyrrole), PT(polythiophene), PA(polyacetylene), PPV(poly para-phenylene vinylene) 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 전극의 형성방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 개시제 용액은 APS(ammonium persulfate), CuCl2, FeCl3 중에서 선택된 개시제와 증류수를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 전극의 형성방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 개시제 용액은 PSS(poly(4-styrenesulfonate))를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 전극의 형성방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 개시제 용액 중에 상기 PSS의 함유량은 5wt% ~ 9wt%인 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 전극의 형성방법
8 8
(a) 기판 위에 게이트 전극을 형성하는 단계;(b) 상기 기판 위에 상기 게이트 전극을 덮도록 절연층을 형성하는 단계;(c) 상기 절연층 위에 반도체층을 형성하는 단계;(d) 상기 절연층 위에 개시제 용액을 잉크젯 프린팅법으로 도포하여 상기 절연층 위에 상기 반도체층과 접하는 제 1 개시제 패턴을 형성하는 단계;(e) 상기 절연층 위에 개시제 용액을 잉크젯 프린팅법으로 도포하여 상기 절연층 위에 상기 제 1 개시제 패턴과 이격되고 상기 반도체층과 접하는 제 2 개시제 패턴을 형성하는 단계; 및(f) 상기 게이트 전극, 상기 절연층, 상기 반도체층, 상기 제 1 개시제 패턴 및 상기 제 2 개시제 패턴이 형성된 상기 기판을 감압 챔버에 넣고 상기 감압 챔버에 전도성 고분자 단량체 증기를 공급하여, 상기 제 1 개시제 패턴 위에 상기 전도성 고분자 단량체를 응집 및 중합시킴으로써 상기 제 1 개시제 패턴 형상대로 소스 전극을 형성하고, 상기 제 2 개시제 패턴 위에 상기 전도성 고분자 단량체를 응집 및 중합시킴으로써 상기 제 2 개시제 패턴 형상대로 드레인 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 (c) 단계 이후 상기 (d) 단계 이전에, 상기 반도체층에 상기 개시제 용액이 원활하게 인쇄될 수 있도록 상기 반도체층의 표면을 친수성이 향상되도록 표면 개질하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
10 10
제 9 항에 있어서,상기 반도체층에 대한 친수성 표면 개질은 O2 플라즈마 표면처리를 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
11 11
제 8 항에 있어서,상기 전도성 고분자는 PEDOT/PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/poly(4-styrene sulfonate), PANI(polyaniline), PPy(polypyrrole), PT(polythiophene), PA(polyacetylene), PPV(poly para-phenylene vinylene) 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
12 12
제 8 항에 있어서,상기 개시제 용액은 APS(ammonium persulfate), CuCl2, FeCl3 중에서 선택된 개시제와 증류수를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
13 13
제 12 항에 있어서,상기 개시제 용액은 PSS(poly(4-styrenesulfonate))를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
14 14
제 13 항에 있어서,상기 개시제 용액 중에 상기 PSS의 함유량은 5wt% ~ 9wt%인 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
15 15
제 8 항에 있어서,상기 절연층은 PVP(polyvinylphenol), PVA(polyvinylalcohol), PMMA 중에서 선택된 소재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
16 16
제 8 항에 있어서,상기 반도체층은 펜타센(pentacene), TIPS-펜타센, P3HT(Poly(3-alkyl)thiophene), PBTTT(poly(2,5-bis(3-alkylthiophen-2-yl)thieno[3,2-b]thiophene) 중에서 선택된 소재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
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1 경기도 경희대학교 산학협력단 국제공동연구사업 차세대 Flexible Display 핵심 재료부품 연구