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스테레오 비전 장치에 있어서,레이저 광원;상기 레이저 광원을 입력받아 상기 레이저 광원과 동일한 특성을 갖는 광원을 복수개로 복사시키는 광 분파기; 및상기 광 분파기로부터 복사된 광원을 입력받아 광학적으로 패턴을 프로젝팅(projecting)하는 복수의 확산기를 포함하는 스테레오 비전 장치
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 확산기는 DOE(Diffraction Optical Element) 또는 스펙클(speckle) 패턴 소자인 것을 특징으로 하는 스테레오 비전 장치
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제 1 항에 있어서,상기 레이저 광원의 파장은 광통신용 모듈의 파장인 것을 특징으로 하는 스테레오 비전 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광 분파기에서 손실된 광원의 세기를 조정 또는 보상하는 패턴 매칭부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 스테레오 비전 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광 분파기의 출력 포트가 유리 섬유로 구성된 것을 특징으로 하는, 스테레오 비전 장치
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스테레오 비전 장치에서 패턴을 프로젝팅하는 방법에 있어서,레이저 광원을 입력받는 단계;상기 레이저 광원을 기초로 상기 레이저 광원과 동일한 특성을 갖는 광원을 복수개로 복사시키는 단계; 및상기 복사된 광원을 기초로 광학적으로 패턴을 프로젝팅하는 단계를 포함하는 패턴 프로젝팅 방법
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제 6 항에 있어서,상기 복사시키는 단계는 DOE(Diffraction Optical Element) 또는 스펙클(speckle) 패턴 소자를 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 패턴 프로젝팅 방법
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제 6 항에 있어서,상기 레이저 광원의 파장은 광통신용 모듈의 파장인 것을 특징으로 하는 패턴 프로젝팅 방법
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제 6 항에 있어서,상기 복사시키는 단계에서 손실된 광원의 세기를 조정 또는 보상하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 패턴 프로젝팅 방법
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제 6 항에 있어서,상기 패턴을 프로젝팅하는 단계는 유리 섬유로 구성된 출력 포트를 통해서 수행되는 것을 패턴 프로젝팅 방법
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스테레오 비전 매칭 장치에 있어서,레이저 광원, 상기 레이저 광원을 입력받아 상기 레이저 광원과 동일한 특성을 갖는 광원을 복수개로 복사시키는 광 분파기 및 상기 광 분파기로부터 복사된 광원을 입력받아 광학적으로 패턴을 피사체로 프로젝팅하는 복수의 확산기를 포함하는 패턴 프로젝터;상기 피사체에 프로젝팅된 패턴을 촬영하는 복수의 스테레오 카메라; 및상기 촬영된 결과를 기초로 스테레오 매칭을 수행하여 깊이 맵(depth map)을 생성하는 스테레오 매칭부를 포함하는 스테레오 비전 매칭 장치
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제 11 항에 있어서,상기 복수의 확산기는 DOE(Diffraction Optical Element) 또는 스펙클(speckle) 패턴 소자인 것을 특징으로 하는 스테레오 비전 매칭 장치
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제 11 항에 있어서,상기 레이저 광원의 파장은 광통신용 모듈의 파장인 것을 특징으로 하는 스테레오 비전 매칭 장치
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제 11 항에 있어서,상기 광 분파기에서 손실된 광원의 세기를 조정 또는 보상하는 패턴 매칭부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 스테레오 비전 매칭 장치
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제 11 항에 있어서,상기 광 분파기의 출력 포트가 유리 섬유로 구성된 것을 특징으로 하는, 스테레오 비전 매칭 장치
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스테레오 비전 매칭 방법에 있어서,레이저 광원을 입력받아 상기 레이저 광원과 동일한 특성을 갖는 광원을 복수개로 복사시키고, 상기 복사된 광원을 입력받아 광학적으로 패턴을 피사체로 프로젝팅하는 단계;상기 피사체에 프로젝팅된 패턴을 복수의 스테레오 카메라를 이용하여 촬영하는 단계; 및상기 촬영된 결과를 기초로 스테레오 매칭을 수행하여 깊이 맵(depth map)을 생성하는 단계를 포함하는 스테레오 비전 매칭 방법
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제 16 항에 있어서,상기 레이저 광원의 파장은 광통신용 모듈의 파장인 것을 특징으로 하는 스테레오 비전 매칭 방법
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제 16 항에 있어서,상기 복사시키는 단계에서 손실된 광원의 세기를 조정 또는 보상하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 스테레오 비전 매칭 방법
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제 16 항에 있어서,상기 패턴을 프로젝팅하는 단계는 유리 섬유로 구성된 출력 포트를 통해서 수행되는 것을 스테레오 비전 매칭 방법
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