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나노입자의 집속 증착 패터닝 방법

  • 기술번호 : KST2015160612
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노입자의 집속 증착 패터닝 방법에 관한 것으로서, 1) 감광막 패턴에 의해 형성된 나노패턴을 갖는 기판을, 본체가 접지되고 내부에 전극이 장착된 반응기의 전극 위에 위치시킨 후 상기 전극에 전압을 인가하는 단계; 2) 전극 위에 위치된 기판 위의 감광막 패턴에 전하(charge)를 축적시키는 단계; 및 3) 하전된 나노입자 에어로졸(aerosol)을 상기 반응기에 도입하여, 나노입자를 전극 위에 위치된 기판의 나노패턴으로 유도하고 나노패턴에 집속적으로 부착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 이러한 본 발명의 방법에 의하면, 도체, 반도체 또는 부도체의 표면 위에 노이즈 패턴(noise pattern)을 생성하지 않으면서 나노 크기 구조체를 재현성 있게 집속된 형태로 균일하게 패터닝할 수 있다.
Int. CL B82B 1/00 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020050120469 (2005.12.09)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0740984-0000 (2007.07.12)
공개번호/일자 10-2006-0108202 (2006.10.17) 문서열기
공고번호/일자 (20070719) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020050030239   |   2005.04.12
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.12.09)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최만수 대한민국 서울 서초구
2 김재현 대한민국 서울 서초구
3 양홍주 대한민국 부산 사하구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.12.09 수리 (Accepted) 1-1-2005-0720332-17
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document		 2005.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2005-5148210-11
3 보정요구서
Request for Amendment		 2005.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2005-0129187-12
4 서지사항보정서
Amendment to Bibliographic items		 2005.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2005-0769534-14
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.08.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2006-0062285-90
7 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent		 2006.10.11 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2006-0733903-16
8 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent		 2006.10.17 수리 (Accepted) 1-1-2006-0747406-08
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0670893-72
10 의견서
Written Opinion		 2007.01.11 수리 (Accepted) 1-1-2007-0028437-27
11 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2007.01.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0028486-54
12 등록결정서
Decision to grant		 2007.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0205203-50
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
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번호 청구항
1 1
1) 감광막 패턴에 의해 형성된 나노패턴을 갖는 기판을, 본체가 접지되고 내부에 전극이 장착된 반응기의 전극 위에 위치시킨 후 상기 전극에 전압을 인가하는 단계; 2) 전극 위에 위치된 기판 위의 감광막 패턴 위에, 기체 이온을 이용하여 나노입자와 동일한 극의 전하(charge)를 축적시키는 단계; 및3) 하전된 나노입자 에어로졸(aerosol)을 상기 반응기에 도입하여, 나노입자를 전극 위에 위치된 기판의 나노패턴으로 유도하고 나노패턴에 집속적으로 부착시키는 단계를 포함하는, 나노입자의 패터닝 방법
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,기체 이온이 기체에 전압을 인가하여 제조된, 질소 이온, 헬륨 이온 또는 아르곤 이온임을 특징으로 하는 방법
4 4
제 3 항에 있어서,기체에 5 내지 6 kV 범위의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 방법
5 5
제 1 항에 있어서,하전된 나노입자 에어로졸이, 증발 및 응축법(evaporation and condensation method)을 이용하여 다분산 나노입자로 전환시킨 다음 이 나노입자를 방사성 물질을 이용해 양극 하전(bipolar charge) 상태로 만든 후 DMA(differential mobility analyzer)를 통과시켜 얻은 것임을 특징으로 하는 방법
6 6
제 1 항에 있어서,단계 1)에서, 전극에 -10 내지 +10 kV 범위의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 방법
7 7
제 1 항에 있어서,기체 이온과 하전된 나노입자 에어로졸을 순차적으로 반응기에 도입하거나 또는 기체 이온과 하전된 나노입자 에어로졸을 혼합하여 동시에 반응기에 도입하는 것을 특징으로 하는 방법
8 8
제 1 항에 있어서,단계 3)에서 나노입자를 나노패턴에 부착한 후에, 기판 위의 감광막 패턴을 제거하는 것을 특징으로 하는 방법
9 9
제 1 항에 있어서,기판의 표면이 도체, 반도체 또는 부도체인 것을 특징으로 하는 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US07579050 US 미국 FAMILY
2 US20060228491 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 US2006228491 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US7579050 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.