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나노 패턴 및 마이크로 패턴이 형성된 1층 이상의 계층적 미세구조물로서, 상기 마이크로 패턴층의 윗면 및 측면에 상기 나노 패턴이 형성되어 있으며, 상기 나노 패턴과 마이크로 패턴이 동일한 물질로 이루어져 있고 상기 나노패턴과 마이크로 패턴 사이에 경계면이 존재하지 않는 계층적 미세구조물
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제1항에 있어서,상기 계층적 미세구조물의 측면이 상기 마이크로 패턴층의 윗면에 수직한 축에 대해 1° 내지 45° 기울어진 경사면을 이루는 것인 계층적 미세구조물
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제1항 또는 제2항의 계층적 미세구조물에 형성된 나노 패턴 및 마이크로 패턴을 포함하는 미세입체패턴에 상응하는 음각 패턴이 형성되어 있는 계층적 미세구조물 형성용 몰드
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기판상에 고분자 막을 형성하는 단계;상기 고분자막 상에 나노 패턴이 형성된 제1몰드를 이용하여 제1압력과 제1가열온도로 가열 가압한 후 냉각하여 상기 나노 패턴에 상응하는 나노 패턴을 상기 고분자 막에 형성하는 단계; 및 상기 나노 패턴이 형성된 고분자막 상에 마이크로 패턴이 형성된 제2몰드를 이용하여 제2압력 및 제2가열온도로 가열 가압한 후 냉각하여 상기 마이크로 패턴에 상응하는 마이크로 패턴 및 상기 나노 패턴이 함께 형성된 고분자 막을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 제2압력의 크기가 제1압력의 크기보다 크고, 제2가열온도의 크기는 제1가열온도 보다 낮은 것인 계층적 미세구조물 형성용 몰드의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 제1압력은 3MPa 이하이고, 제2압력은 5MPa 이하의 압력이되, 제2압력은 제1압력보다 높고, 압력을 가하는 시간이 제1압력을 가하는 시간에 비해 2배 이상 길게 수행되는 것인 계층적 미세구조물 형성용 몰드의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 제1온도가 Tg-30 내지 Tg+20의 온도이고, 상기 제2온도가 Tg-70 내지 Tg-40의 온도인 계층적 미세 구조물 형성용 몰드의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 제2온도 및 제2압력에서 제2몰드로 가열 압착된 상기 고분자 막의 마이크로 패턴 부분이 상기 제2몰드의 제거 이후 상기 고분자 막의 탄성이 회복되어 고분자 막의 형태가 일부 복원되는 것인 계층적 미세 구조물 형성용 몰드의 제조방법
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8
제4항에 있어서,상기 제1몰드 및 제2몰드를,나노 또는 마이크로 패턴이 형성된 실리콘 마스터 상에 경화성 프리폴리머 조성물을 도포하는 단계;상기 도포된 경화성 프리폴리머 조성물을 경화시키는 단계; 및상기 경화된 폴리머를 상기 실리콘 마스터와 분리시키는 단계;를 포함하는 방법으로 제조하는 것을 더 포함하는 계층적 미세구조물 형성용 몰드의 제조방법
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9
제4항에 있어서,상기 고분자 막과의 분리를 촉진하기 위해 상기 제1몰드 및 제2몰드의 표면이 반응성 이온 에칭 공정으로 전처리된 것인 계층적 미세구조물 형성용 몰드의 제조방법
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10
제4항 내지 제9항중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 계층적 미세 구조물 형성용 몰드 상에 광경화성 프리폴리머 조성물을 도포하는 단계;상기 도포된 프리폴리머 조성물을 경화하는 단계; 및상기 경화된 고분자 조형물을 후 상기 고분자 막과 분리시키는 단계;를 포함하는 계층적 미세구조물의 제조방법
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11
제10항에 있어서,상기 광경화성 프리 폴리머 조성물이, 폴리디메틸실록산(PDMS) 또는 폴리우레탄아크릴레이트(PUA)를 포함하는 군으로부터 선택된 하나 이상의 폴리머의 프리 폴리머를 포함하는 것인 계층적 미세구조물의 제조방법
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12
제10항에 있어서,상기 도포된 프리 폴리머 조성물 상에 지지체로서 고분자 필름 또는 기판을 배치하여 경화됨으로써, 상기 고분자 필름 또는 기판을 백본으로 구비하는 계층적 미세구조물의 제조방법
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13
제10항에 따른 제조방법으로 제조되어, 나노 패턴과 마이크로 패턴이 동일한 물질로 이루어져 있고 상기 나노패턴과 마이크로 패턴 사이에 경계면이 존재하지 않는 계층적 미세구조물
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14
제13항의 계층적 미세구조물을 패턴을 형성하는 몰드로서 사용하여 제조된 멀티스케일 패턴이 형성된 고분자 막
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제14항의 상기 멀티스케일 패턴이 형성된 고분자 막을 막전극 접합 전해질(MEA)로서 포함하는 연료전지
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