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하기 식 1로 표시되는 모서리 첨예도 지수(corner sharpness index; CSI)가 조절된 금속 나노큐브의 제조방법에 있어서,최종 제조하고자 하는 금속 나노큐브의 표면적 및 CSI 지수를 기초로 하기의 혼합 수용액 제조 단계에서 첨가할 표면보호제(surface-protecting agent)의 양을 결정하는, 표면보호제 양 결정 단계;제1계면활성제(surfactant), 상기 표면보호제 양 결정 단계에 따라 결정된 양의 표면보호제, 및 평균 직경 3 내지 30 nm의 금속 나노입자를 혼합하여 혼합 수용액을 제조하는, 혼합 수용액 제조 단계; 및상기 혼합 수용액에 환원제, 및 금속 이온을 함유하는 전구체 용액을 첨가하여 반응시키는, 금속 이온 전구체 첨가 단계;를 포함하고,상기 금속은 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 납(Pb), 또는 이들의 조합인 것인, 금속 나노큐브의 제조방법:[식 1]상기 식 1에서,EL은, 금속 나노큐브의 편평한 일면 상의 한 점으로부터 이에 평행한 타면까지의 최단거리로 정의되는, 모서리 길이(edge length)를,CR은, 모서리 곡률(corner curvature)과 완벽히 일치하는 원의 반경으로 정의되는, 모서리 반경(corner radius)을 나타냄
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제1항에 있어서,상기 금속 이온 전구체 첨가 단계에 따른 반응 용액을 원심분리하고 침전물을 회수하여 용액에 재분산시키는, 원심분리 및 재분산 단계; 및 상기 재분산된 반응 용액에 제2계면활성제를 첨가하여 원심분리하는, 제2계면활성제 첨가 및 원심분리 단계를 추가로 포함하는, 금속 나노큐브의 제조방법
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제2항에 있어서,CSI 값이 ±10% 이내의 편차로 조절된 금속 나노큐브를 95% 이상의 순도로 제공하는 것인, 금속 나노큐브의 제조방법
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제2항에 있어서,모서리 길이가 ±10% 이내의 편차로 조절된 금속 나노큐브를 95% 이상의 순도로 제공하는 것인, 금속 나노큐브의 제조방법
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제1항에 있어서,최종 제조하고자 하는 금속 나노큐브의 CR 값이 5 nm 미만이거나, CSI 값이 0
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제1항에 있어서,최종 제조하고자 하는 금속 나노큐브의 CR 값이 5 nm 이상이거나, CSI 값이 0
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제1항에 있어서,상기 금속 나노큐브는 평균 15 내지 300 nm의 모서리 길이를 갖는 것인, 금속 나노큐브의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1계면활성제는 사용되는 전체 용액의 부피에 대해 30 내지 70 mM의 농도로 사용하는 것인, 금속 나노큐브의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 환원제는 사용되는 전체 용액의 부피에 대해 0
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제1항에 있어서,상기 금속 이온을 함유하는 전구체 용액은 사용되는 전체 용액의 부피에 대해 0
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제1항에 있어서,상기 표면보호제는 NaBr이며, 상기 환원제는 아스코르브산인 것인, 금속 나노큐브의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 이온 전구체 첨가 단계는, 상기 혼합 수용액에 환원제, 및 금속 이온을 함유하는 전구체 용액을 동시에, 순차적으로, 또는 이시에 첨가하여 반응시키는 것인, 금속 나노큐브의 제조방법
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제1항의 방법으로 금속 나노큐브를 제조하는 단계; 금속 나노큐브를 포함하는 용액을 원심분리하고 침전물을 회수하여 용액에 재분산시키는 단계; 및 제2계면활성제를 첨가하여 원심분리하는 단계를 포함하는, 95% 내지 99
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제13항에 있어서,95% 내지 99
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제13항에 있어서,95% 내지 99
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제1항 내지 제12항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 금속 나노큐브; 또는 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 금속 나노큐브 집합체를 포함하는, 탐침 조성물
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제16항에 있어서,광학적으로 검출 가능한 것인, 탐침 조성물
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제16항에 있어서,흡광, 형광, 또는 산란 신호를 나타내는 것인, 탐침 조성물
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제16항에 있어서,센서용, 바이오이미징용, 또는 치료용인 것인, 탐침 조성물
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제16항에 있어서,정성분석, 다중분석, 정량분석 또는 이들 중 둘 이상을 동시에 수행 가능한 것인, 탐침 조성물
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제16항에 있어서,상기 금속 나노큐브 또는 금속 나노큐브 집합체는 표면 개질된 것인, 탐침 조성물
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모서리 길이의 평균이 20 nm 이하인, 금(Au) 나노큐브
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제22항에 있어서, 모서리의 CSI 값이 ±10% 이내의 편차로 조절되거나, 모서리 길이가 ±10% 이내의 편차로 조절된 것인, 금 나노큐브
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제22항에 있어서, 모서리 길이의 평균이 10 nm 내지 20 nm인, 금 나노큐브
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