요약 | 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 박막 패터닝 방법은: 기판의 소정의 박막 패턴을 형성하기 위한 영역을 제외한 영역에 결정질 고분자 재료를 패터닝하는 제 1 단계; 상기 결정질 고분재 재료가 형성된 기판 위에 박막 재료와 용매가 혼합된 용액을 드랍(drop)하는 제 2 단계; 상기 용매를 증발시키는 제 3 단계; 상기 박막 재료 및 고분자 재료가 형성된 기판을 열처리하는 제 4 단계; 상기 결정질 고분자 재료를 제거하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 박막 패터닝 방법을 이용하면 종래의 복잡한 포토 리소그래피 방법에 비하여 저렴한 비용으로 대량의 박막 패터닝이 가능하다. 또한, 본 발명에 따른 방법을 이용하면, 금속 재료 외에도 유기/무기 혼합물, 고분자 재료, 금속 산화물, 반도체 등 다양한 재료들을 기판에 패터닝 할 수 있다. |
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Int. CL | H01L 21/027 (2006.01) |
CPC | H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020110059427 (2011.06.20) |
출원인 | 연세대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2012-0139892 (2012.12.28) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 거절 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2011.06.20) |
심사청구항수 | 9 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 정운룡 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
2 | 박민우 | 대한민국 | 서울특별시 성동구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 김승욱 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 강남대로 ***, ***호(서초동, 두산베어스텔)(아이피마스터특허법률사무소) |
2 | 이채형 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 ** (대치동 동구빌딩 *층) Neo국제특허법률사무소 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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최종권리자 정보가 없습니다 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
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1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2011.06.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0463240-05 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
3 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2012.02.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2012.03.23 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0024589-81 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.08.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0467314-59 |
6 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2012.10.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0629658-05 |
7 | [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration) |
2012.11.22 | 수리 (Accepted) | 7-1-2012-0053498-35 |
8 | [명세서등 보정]보정서(재심사) Amendment to Description, etc(Reexamination) |
2012.12.24 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2012-1069012-28 |
9 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2013.01.04 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0008211-02 |
10 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2013.03.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0186794-70 |
11 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2013.04.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0292546-73 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
13 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2013.05.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0391657-87 |
14 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2013.06.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0497337-34 |
15 | 지정기간연장관련안내서 Notification for Extension of Designated Period |
2013.06.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2013-0062529-17 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
17 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2013.07.17 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0494071-16 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 기판에 소정의 박막 패턴을 형성하기 위한 영역을 제외한 영역에 결정질 고분자 재료를 패터닝하는 제 1 단계;상기 결정질 고분재 재료가 형성된 기판 위에 박막 재료와 용매가 혼합된 용액을 드랍(drop)하는 제 2 단계;상기 용매를 증발시키는 제 3 단계;상기 고분자 재료 및 박막 재료를 열처리하는 제 4 단계; 및상기 결정질 고분자 재료를 제거하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법 |
2 |
2 제 1항에 있어서, 상기 박막 재료는 금속 전구체, 고분자 재료, 금속 산화물, 반도체, 유기 혼합물 및 무기 혼합물 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법 |
3 |
3 제 2항에 있어서, 상기 박막 재료는 복합 재료인 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법 |
4 |
4 제 1항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 1 단계에 이어서, 상기 기판 표면을 친수성 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법 |
5 |
5 제 4항에 있어서, 상기 친수성 처리는 O2 플라즈마를 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법 |
6 |
6 제 2항에 있어서, 상기 박막 재료가 금속 전구체인 경우, 상기 방법은 상기 제 3 단계에 이어서 상기 박막 재료를 환원시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법 |
7 |
7 제 6항에 있어서, 상기 환원 반응은 N2H4 기체를 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법 |
8 |
8 제 1항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 5 단계에 이어서, PDMS를 도포하는 단계 및 상기 기판을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법 |
9 |
9 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 박막 패터닝 방법을 이용하여 형성된 박막이 패터닝된 기판 |
10 |
10 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 박막 패터닝 방법을 이용하여 형성된 박막 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 교육과학기술부 | 연세대학교 산학협력단 | 선도연구센터-이공학분야(SRC/ERC) | ERC/1-4세부/패턴집적형 능동폴리머 소재센터 |
등록사항 정보가 없습니다 |
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번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
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1 | [특허출원]특허출원서 | 2011.06.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0463240-05 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
3 | 선행기술조사의뢰서 | 2012.02.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 | 2012.03.23 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0024589-81 |
5 | 의견제출통지서 | 2012.08.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0467314-59 |
6 | 거절결정서 | 2012.10.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0629658-05 |
7 | [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2012.11.22 | 수리 (Accepted) | 7-1-2012-0053498-35 |
8 | [명세서등 보정]보정서(재심사) | 2012.12.24 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2012-1069012-28 |
9 | 의견제출통지서 | 2013.01.04 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0008211-02 |
10 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2013.03.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0186794-70 |
11 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2013.04.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0292546-73 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
13 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2013.05.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0391657-87 |
14 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2013.06.04 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0497337-34 |
15 | 지정기간연장관련안내서 | 2013.06.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2013-0062529-17 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
17 | 거절결정서 | 2013.07.17 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0494071-16 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
기술번호 | KST2014047363 |
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자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 연세대학교 |
기술명 | 점탄성 흐름을 이용한 박막 패터닝 방법 및 상기 방법에 따라 박막이 패터닝된 기판 |
기술개요 |
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 박막 패터닝 방법은: 기판의 소정의 박막 패턴을 형성하기 위한 영역을 제외한 영역에 결정질 고분자 재료를 패터닝하는 제 1 단계; 상기 결정질 고분재 재료가 형성된 기판 위에 박막 재료와 용매가 혼합된 용액을 드랍(drop)하는 제 2 단계; 상기 용매를 증발시키는 제 3 단계; 상기 박막 재료 및 고분자 재료가 형성된 기판을 열처리하는 제 4 단계; 상기 결정질 고분자 재료를 제거하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 박막 패터닝 방법을 이용하면 종래의 복잡한 포토 리소그래피 방법에 비하여 저렴한 비용으로 대량의 박막 패터닝이 가능하다. 또한, 본 발명에 따른 방법을 이용하면, 금속 재료 외에도 유기/무기 혼합물, 고분자 재료, 금속 산화물, 반도체 등 다양한 재료들을 기판에 패터닝 할 수 있다. |
개발상태 | 아이디어창안 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | 패터닝 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 라이센스, |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1345165039 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A2005 |
연구과제명 | 휴먼트로닉스정보소재사업단 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 연세대학교 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
[1020110123900] | CZTS 박막용 하이브리드 잉크 | 새창보기 |
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[1020110079715] | 신축가능한 전도성 나노섬유, 이를 포함하는 신축가능한 전극 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[1020110061805] | 신축 가능한 전도성 패턴 형성용 조성물, 이를 이용한 신축 가능한 전도성 패턴의 제조방법 및 신축 가능한 전도성 전극을 포함하는 전자 소자 | 새창보기 |
[1020110059427] | 점탄성 흐름을 이용한 박막 패터닝 방법 및 상기 방법에 따라 박막이 패터닝된 기판 | 새창보기 |
[1020110055497] | 결함이 적은 고유전율 터널 배리어 절연막을 이용한 플래쉬 메모리 소자 형성 방법 | 새창보기 |
[1020110037049] | 무촉매 나노와이어 제조 방법 및 이를 위한 장치 | 새창보기 |
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[1020110030287] | 신축가능한 전도성 나노섬유, 이를 이용한 신축가능한 섬유전극 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[1020110022061] | 냉간 압조성이 우수한 고강도 고망간 강선재와 그 제조방법 및 상기 강선재를 이용한 볼트의 제조방법 | 새창보기 |
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심판사항 정보가 없습니다 |
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