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점탄성 흐름을 이용한 박막 패터닝 방법 및 상기 방법에 따라 박막이 패터닝된 기판

  • 기술번호 : KST2014047363
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 박막 패터닝 방법은: 기판의 소정의 박막 패턴을 형성하기 위한 영역을 제외한 영역에 결정질 고분자 재료를 패터닝하는 제 1 단계; 상기 결정질 고분재 재료가 형성된 기판 위에 박막 재료와 용매가 혼합된 용액을 드랍(drop)하는 제 2 단계; 상기 용매를 증발시키는 제 3 단계; 상기 박막 재료 및 고분자 재료가 형성된 기판을 열처리하는 제 4 단계; 상기 결정질 고분자 재료를 제거하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 박막 패터닝 방법을 이용하면 종래의 복잡한 포토 리소그래피 방법에 비하여 저렴한 비용으로 대량의 박막 패터닝이 가능하다. 또한, 본 발명에 따른 방법을 이용하면, 금속 재료 외에도 유기/무기 혼합물, 고분자 재료, 금속 산화물, 반도체 등 다양한 재료들을 기판에 패터닝 할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020110059427 (2011.06.20)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0139892 (2012.12.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.06.20)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정운룡 대한민국 서울특별시 서대문구
2 박민우 대한민국 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김승욱 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, ***호(서초동, 두산베어스텔)(아이피마스터특허법률사무소)
2 이채형 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 ** (대치동 동구빌딩 *층) Neo국제특허법률사무소

최종권리자

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.06.20 수리 (Accepted) 1-1-2011-0463240-05
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.02.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.03.23 수리 (Accepted) 9-1-2012-0024589-81
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.08.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0467314-59
6 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.10.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0629658-05
7 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2012.11.22 수리 (Accepted) 7-1-2012-0053498-35
8 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2012.12.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-1069012-28
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.01.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0008211-02
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.03.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-0186794-70
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-0292546-73
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.05.03 수리 (Accepted) 1-1-2013-0391657-87
14 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.06.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-0497337-34
15 지정기간연장관련안내서
Notification for Extension of Designated Period
2013.06.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0062529-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
17 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.07.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0494071-16
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판에 소정의 박막 패턴을 형성하기 위한 영역을 제외한 영역에 결정질 고분자 재료를 패터닝하는 제 1 단계;상기 결정질 고분재 재료가 형성된 기판 위에 박막 재료와 용매가 혼합된 용액을 드랍(drop)하는 제 2 단계;상기 용매를 증발시키는 제 3 단계;상기 고분자 재료 및 박막 재료를 열처리하는 제 4 단계; 및상기 결정질 고분자 재료를 제거하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 박막 재료는 금속 전구체, 고분자 재료, 금속 산화물, 반도체, 유기 혼합물 및 무기 혼합물 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법
3 3
제 2항에 있어서, 상기 박막 재료는 복합 재료인 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 1 단계에 이어서, 상기 기판 표면을 친수성 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 친수성 처리는 O2 플라즈마를 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법
6 6
제 2항에 있어서, 상기 박막 재료가 금속 전구체인 경우, 상기 방법은 상기 제 3 단계에 이어서 상기 박막 재료를 환원시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법
7 7
제 6항에 있어서, 상기 환원 반응은 N2H4 기체를 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법
8 8
제 1항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 5 단계에 이어서, PDMS를 도포하는 단계 및 상기 기판을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 방법
9 9
제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 박막 패터닝 방법을 이용하여 형성된 박막이 패터닝된 기판
10 10
제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 박막 패터닝 방법을 이용하여 형성된 박막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 연세대학교 산학협력단 선도연구센터-이공학분야(SRC/ERC) ERC/1-4세부/패턴집적형 능동폴리머 소재센터