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스탬프 제조 기술
- 기술번호 : KST2015002383
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 임프린트 리소그래피(Imprint Lithography)를 이용한 롤 스탬프의 제조방법에 관한 것으로서, 일면에 패턴이 형성된 평판 스탬프와, 원주면에 수지층이 코팅된 롤 스탬프를 상호 접촉시키는 제1 단계, 평판 스탬프의 일면에서 롤 스탬프를 일 방향으로 회전 거동시켜서 상기 평판 스탬프의 패턴을 상기 롤 스탬프로 전사시키는 제2 단계, 상기 패턴이 전사된 상기 롤 스탬프의 수지층을 경화시키는 제3 단계, 및 롤 스탬프의 수지층을 식각 장벽으로 이용하여 롤 스탬프를 식각시키는 제4 단계를 포함한다. 이와 같은 제조 단계에 의해 본 발명은 패턴을 갖는 롤 스탬프를 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 저비용으로 롤 스탬프의 전면적에 패턴을 형성시킬 수 있다.임프린트, 식각, 경화, 롤 스탬프, 수지층 |
|---|---|
| Int. CL | H01L 21/027 (2006.01) |
| CPC | G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020070064308 (2007.06.28) |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
| 등록번호/일자 | 10-0842931-0000 (2008.06.25) |
| 공개번호/일자 | |
| 공고번호/일자 | (20080702) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2007.06.28) |
| 심사청구항수 | 24 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국기계연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김기돈 | 대한민국 | 서울 중구 |
| 2 | 정준호 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 3 | 최대근 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 4 | 최준혁 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 5 | 이응숙 | 대한민국 | 대전 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 팬코리아특허법인 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국기계연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허출원서 Patent Application |
2007.06.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0472843-09 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2008.04.07 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2008.05.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0027403-06 |
| 4 | 등록결정서 Decision to grant |
2008.06.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0335998-12 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069914-14 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069919-31 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 일면에 패턴이 형성된 평판 스탬프와, 원주면에 수지층이 코팅된 롤 스탬프를 상호 접촉시키는 제1 단계;상기 평판 스탬프의 일면에서 상기 롤 스탬프를 일 방향으로 회전 거동시켜서 상기 평판 스탬프의 패턴을 상기 롤 스탬프로 전사시키는 제2 단계;상기 패턴이 전사된 상기 롤 스탬프의 수지층을 경화시키는 제3 단계; 및상기 롤 스탬프의 수지층을 식각 장벽으로 이용하여 상기 롤 스탬프를 식각시키는 제4 단계;를 포함하는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 2 |
2 제 1 항에 있어서,상기 제1 단계에서 상기 롤 스탬프의 원주면에는 중간층과 상기 수지층이 순차적으로 적층되는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 3 |
3 제 2 항에 있어서,상기 중간층은 크롬(Cr)을 주 성분으로 포함하는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 4 |
4 제 2 항에 있어서,상기 수지층은 열경화성 수지이고, 상기 제3 단계에서 상기 수지층을 열경화시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 5 |
5 제 2 항에 있어서,상기 수지층은 광경화성 수지이고,상기 제3 단계에서 UV(ultra violet)광을 조사하여 상기 수지층을 경화시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 6 |
6 제 2 항에 있어서,상기 제4 단계는 상기 수지층을 식각 장벽으로 이용하여 상기 중간층을 식각시키는 제1 식각단계와, 상기 중간층을 식각 장벽으로 이용하여 상기 롤 스탬프를 식각시키는 제2 식각단계로 이루어지는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 7 |
7 제 6 항에 있어서,상기 제4 단계는 상기 중간층과 상기 롤 스탬프를 각각 건식 식각시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 8 |
8 제 6 항에 있어서,상기 제4 단계는 상기 중간층과 상기 롤 스탬프를 각각 습식 식각시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 9 |
9 제 6 항에 있어서,상기 제1 식각단계을 수행한 후에 상기 수지층을 용해시키고, 상기 제2 식각단계를 수행한 후에 상기 중간층을 용해시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 10 |
10 제 1 항에 있어서,상기 제1 단계에서 상기 평판 스탬프의 패턴 표면이 비점착(anti-adhesion) 처리가 된 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 11 |
11 제 1 항에 있어서,상기 제1 단계에서 상기 평판 스탬프는 극자외선(EUV) 조사 장비 또는 전자빔(E-Beam) 조사 장비 중 어느 하나에 의해 상기 패턴이 형성된 스탬프인 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 12 |
12 제 1 항에 있어서,상기 제2 단계에서 상기 롤 스탬프에 설정된 압력을 가하면서 상기 평면 스탬프에 밀착시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 13 |
13 패턴이 형성된 일면에 수지층이 적층된 평판 스탬프와, 원주면이 점착성 처리된 롤 스탬프를 상호 접촉시키는 제1 단계;상기 평판 스탬프의 수지층 상에 상기 롤 스탬프를 일 방향으로 회전 거동시켜서 상기 롤 스탬프의 원주면에 상기 수지층을 점착시키는 제2 단계;상기 롤 스탬프의 수지층을 경화시키는 제3 단계; 및상기 롤 스탬프의 수지층을 식각 장벽으로 이용하여 상기 롤 스탬프를 식각시키는 제4 단계;를 포함하는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 14 |
14 제 13 항에 있어서,상기 제1 단계에서 상기 평판 스탬프의 일면에는 상기 수지층과 중간층이 순차적으로 적층되는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 15 |
15 제 14 항에 있어서,상기 중간층은 크롬(Cr)을 주 성분으로 포함하는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 16 |
16 제 15 항에 있어서,상기 롤 스탬프의 원주면에는 이산화규소(SiO2)층이 증착되는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 17 |
17 제 14 항에 있어서,상기 수지층은 열경화성 수지이고, 상기 제3 단계에서 상기 수지층을 열경화시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 18 |
18 제 14 항에 있어서,상기 수지층은 광경화성 수지이고,상기 제3 단계에서 UV(ultra violet)광을 조사하여 상기 수지층을 경화시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 19 |
19 제 14 항에 있어서,상기 제4 단계는 상기 수지층을 식각 장벽으로 이용하여 상기 중간층을 식각시키는 제1 식각단계와, 상기 중간층을 식각 장벽으로 이용하여 상기 롤 스탬프를 식각시키는 제2 식각단계를 포함하는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 20 |
20 제 19 항에 있어서,상기 제4 단계는 상기 중간층과 상기 롤 스탬프를 각각 건식 식각시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 21 |
21 제 19 항에 있어서,상기 제4 단계는 상기 중간층과 상기 롤 스탬프를 각각 습식 식각시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 22 |
22 제 19 항에 있어서,상기 제1 식각단계를 수행한 후에 상기 수지층을 용해시키고, 상기 제2 식각단계를 수행한 후에 상기 중간층을 용해시키는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 23 |
23 제 13 항에 있어서,상기 제1 단계에서 상기 평판 스탬프의 패턴 표면이 비점착(anti-adhesion) 처리가 된 후에 상기 수지층이 적층되는 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 24 |
24 제 13 항에 있어서,상기 제1 단계에서 상기 평판 스탬프는 극자외선(EUV) 조사 장비 또는 전자빔(E-Beam) 조사 장비 중 어느 하나에 의해 상기 패턴이 형성된 스탬프인 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 과학기술부 | 한국기계연구원 | 21세기 프론티어 사업 | 대면적 나노임프린트 공정 및 응용 기술 |
| 공개전문 정보가 없습니다 |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
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| 특허 등록번호 | 10-0842931-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20070628 출원 번호 : 1020070064308 공고 연월일 : 20080702 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080624 청구범위의 항수 : 24 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 임프린트 리소그래피를 이용한 롤 스탬프의 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20160626 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국기계연구원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 573,000 원 | 2008년 06월 26일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 568,000 원 | 2011년 06월 21일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 568,000 원 | 2012년 06월 26일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 568,000 원 | 2013년 03월 27일 | 납입 |
| 제 7 년분 | 금 액 | 1,012,000 원 | 2014년 03월 10일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 1,012,000 원 | 2015년 03월 18일 | 납입 |
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- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허출원서 | 2007.06.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0472843-09 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2008.04.07 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2008.05.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0027403-06 |
| 4 | 등록결정서 | 2008.06.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0335998-12 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069914-14 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.04.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5069919-31 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
| 기술번호 | KST2015002383 |
|---|---|
| 자료제공기관 | NTB |
| 기술공급기관 | 한국기계연구원 |
| 기술명 | 스탬프 제조 기술 |
| 기술개요 |
본 발명은 임프린트 리소그래피(Imprint Lithography)를 이용한 롤 스탬프의 제조방법에 관한 것으로서, 일면에 패턴이 형성된 평판 스탬프와, 원주면에 수지층이 코팅된 롤 스탬프를 상호 접촉시키는 제1 단계, 평판 스탬프의 일면에서 롤 스탬프를 일 방향으로 회전 거동시켜서 상기 평판 스탬프의 패턴을 상기 롤 스탬프로 전사시키는 제2 단계, 상기 패턴이 전사된 상기 롤 스탬프의 수지층을 경화시키는 제3 단계, 및 롤 스탬프의 수지층을 식각 장벽으로 이용하여 롤 스탬프를 식각시키는 제4 단계를 포함한다. 이와 같은 제조 단계에 의해 본 발명은 패턴을 갖는 롤 스탬프를 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 저비용으로 롤 스탬프의 전면적에 패턴을 형성시킬 수 있다.임프린트, 식각, 경화, 롤 스탬프, 수지층 |
| 개발상태 | 기타 |
| 기술의 우수성 | |
| 응용분야 | - 대면적 패터닝 산업 - 디스플레이, 반도체, 조명 분야 |
| 시장규모 및 동향 | |
| 희망거래유형 | |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 | 개발기간 (-)년 / 소요비용 (-)억원 |
| 과제고유번호 | 1345086128 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 14-2008-01-001-00 |
| 연구과제명 | 나노임프린트공정기술개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
| 연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
| 성과제출연도 | 2008 |
| 연구기간 | 200804~201203 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
특허성과
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