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(A) 이산화티타늄 나노입자, 에탄올, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 (MPTS), 수산화 암모늄 용액을 혼합하여 이산화티타늄 표면에 MPTS를 처리 하는 단계;(B) 상기 MPTS가 처리된 이산화티타늄을 에틸렌 글리콜, 질산은, 유기염기물과 혼합하여 이산화티타늄 나노입자의 표면에 은나노입자를 흡착하는 단계;(C) 상기 은나노입자가 흡착된 이산화티타늄 나노입자를 물로 분산한 후, 그래핀 양자점과 수열합성반응 (hydrothermal reaction) 을 이용하여 그래핀 양자점을 상기 입자 표면에 결합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 이산화티타늄 나노입자의 크기가 20 에서 500 나노미터인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 에탄올의 부가량은 이산화티타늄 1 중량부 대비 100 에서 400 중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 MPTS의 부가량은 이산화티타늄 100 중량부 대비 20 에서 50 중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 수산화암모늄의 부가량은 이산화티타늄 100 중량부 대비 50 에서 100 중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 MPTS가 이산화티타늄 입자 표면에 처리 되는 교반시간을 12 에서 24 시간으로 하는 것이 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 은나노입자 전구체중 질산은의 부가량은 상기 MPTS가 처리된 이산화티타늄 100 중량부 대비 10 에서 50 중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 에틸렌글리콜의 부가량은 상기 MPTS가 처리된 이산화티타늄 1 중량부 대비 500 에서 1000 중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 은나노입자 전구체 부가시, 교반 시간이 1 에서 12 시간인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 유기염기물의 종류는 프로필아민, 뷰틸아민, 옥틸아민, 에탄올아민, 트리에탄올아민 중 하나인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 유기염기물의 부가량은 상기 은나노입자가 흡착된 이산화티타늄 100 중량부 대비 10 에서 50 중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 수열합성반응 온도가 150 에서 200 ℃ 인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 수열합성반응 시간이 1 에서 24 시간인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 그래핀 양자점의 부가량은 이산화티타늄 100 중량부 대비 100 에서 500 중량부인 것을 특징으로 하는 그래핀 양자점, 은나노입자가 도입된 가시광 활성 이산화티타늄 광촉매 제조방법
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