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나노구조(nanostructure)를 정렬하기 위한 방법으로서,
적어도 일부분이 장-감응성(field-sensitive)을 갖는 나노구조를 제공하는 단계; 및
상기 나노구조의 장-감응성에 대응하는 전기장 또는 자기장을 상기 나노구조에 인가하는 단계
를 포함하는 나노구조 정렬 방법
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제1항에 있어서,
상기 장-감응성은 전기장-감응성 또는 자기장-감응성인 나노구조 정렬 방법
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3
제1항에 있어서,
상기 나노구조는
장-감응성을 갖는 부분; 및
상기 장-감응성을 갖는 부분에 연결되고, 장-감응성을 갖지 않는 부분
을 포함하는 나노구조 정렬 방법
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4
제3항에 있어서,
상기 장-감응성을 갖지 않는 부분은 탄소 나노튜브, 탄소 나노와이어, 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나를 포함하는 나노구조 정렬 방법
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5
제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 장-감응성을 갖는 부분은 구의 형태를 가지고,
상기 장-감응성을 갖지 않는 부분은 상기 장-감응성을 갖는 부분의 지름보다 짧은 폭의 막대 형태를 갖는 나노구조 정렬 방법
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6
나노구조를 정렬하기 위한 방법으로서,
홈을 갖는 기판을 제공하는 단계;
상기 기판 상에, 적어도 일부분이 장-감응성(field-sensitive)을 갖는 나노구조와 현탁액을 포함하는 현탁물질(suspension)을 공급하는 단계; 및
상기 나노구조의 장-감응성에 대응하는 전기장 또는 자기장을 상기 기판상에 인가하는 단계
를 포함하는 나노구조 정렬 방법
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7
제6항에 있어서,
상기 기판을 제공하는 단계는,
베이스 기판 상에 포토레지스트 막을 배치하는 단계; 및
상기 포토레지스트 막을 패터닝하여 상기 홈을 만드는 단계
를 포함하는 나노구조 정렬 방법
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8
제7항에 있어서,
상기 홈을 만드는 단계는, 광 리소그래피, 전자빔 리소그래피, X-선 리소그래피, 및 나노임프린트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나에 의해 상기 포토레지스트 막을 패터닝하는 단계를 포함하는 나노구조 정렬 방법
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9
제7항에 있어서,
상기 기판을 제공하는 단계는, 상기 홈 내에 존재하는 공기 또는 가스를 제거하는 단계를 더 포함하는 나노구조 정렬 방법
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10
제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 현탁물질을 공급하는 단계 후에,
상기 포토레지스트 막 위에 존재하는 나노구조를 상기 홈 안으로 위치시키고, 상기 포토레지스트 막 위에 존재하는 현탁액을 제거하기 위하여 가스 젯 스트림(gas jet stream)을 분사하는 단계를 더 포함하는 나노구조 정렬 방법
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11
제6항에 있어서,
상기 장-감응성은 전기장-감응성 또는 자기장-감응성인 나노구조 정렬 방법
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제6항에 있어서,
상기 나노구조는,
장-감응성을 갖는 부분과,
상기 장-감응성을 갖는 부분에 연결되고, 장-감응성을 갖지 않는 부분
을 포함하는 나노구조 정렬 방법
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13
제12항에 있어서,
상기 장-감응성을 갖지 않는 부분은, 탄소 나노튜브, 탄소 나노와이어, 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나를 포함하는 나노구조 정렬 방법
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14
제12항에 있어서,
상기 장-감응성을 갖는 부분은 구의 형태를 가지고,
상기 장-감응성을 갖지 않는 부분은 상기 장-감응성을 갖는 부분의 지름보다 짧은 폭의 막대 형태를 갖는 나노구조 정렬 방법
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15
제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 나노구조는 상기 홈의 깊이와 동일한 길이를 갖는 나노구조 정렬 방법
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16
나노구조를 정렬시키기 위한 장치로서,
홈을 갖는 기판;
나노구조와 현탁액을 포함하는 현탁물질을 상기 기판 상에 공급하는 공급 수단으로서, 상기 나노구조는 적어도 일부분이 장-감응성(field-sensitive)을 갖는 것인, 상기 공급 수단; 및
상기 나노구조의 장-감응성에 대응하는 전기장 또는 자기장을 상기 기판 상에 인가하는 인가 수단
을 포함하는 나노구조 정렬 장치
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17
제16항에 있어서,
상기 기판은 포토레지스트 막이 도포되어 있고,
상기 포토레지스트 막은 상기 홈을 갖도록 패터닝된 나노구조 정렬장치
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18
제16항에 있어서,
상기 나노구조를 기판 내의 상기 홈 안으로 위치시키고 상기 현탁액을 제거하기 위하여 가스 젯 스트림(gas jet stream)을 분사하는 분사 수단을 더 포함하는 나노구조 정렬 장치
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19
제16항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 장-감응성은 전기장-감응성 또는 자기장-감응성인 나노구조 정렬 장치
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20
제19항에 있어서,
상기 나노구조는,
장-감응성을 갖는 부분과,
상기 장-감응성을 갖는 부분에 연결되고, 장-감응성을 갖지 않는 부분을 포함하는 나노구조 정렬 장치
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21
제20항에 있어서,
상기 장-감응성을 갖지 않는 부분은 탄소 나노튜브, 탄소 나노와이어, 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나를 포함하는 나노구조 정렬 장치
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22
제20항에 있어서,
상기 장-감응성을 갖는 부분은 구의 형태를 가지고,
상기 장-감응성을 갖지 않는 부분은 상기 장-감응성을 갖는 부분의 지름보다 짧은 폭의 막대 형태를 갖는 나노구조 정렬 장치
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23
제20항에 있어서,
상기 나노구조는 상기 홈의 깊이와 동일한 길이를 갖는 나노구조 정렬 장치
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