맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

나노구조의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015160052
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 나노구조를 제조하는 방법이 제공된다. 본 개시에 따르면, 미세 유체(microfluidic) 채널로 수지를 공급하여 수지가 미세 유체 채널을 통해 흐르는 동안, 이광자 흡수(two-photon absorption; TPA)를 발생시키기 위하여 광에 노출시켜 나노구조(nanostructure)를 제조한다.
Int. CL B82B 1/00 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01)
출원번호/일자 1020080084363 (2008.08.28)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0025705 (2010.03.10) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.08.28)
심사청구항수 26

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 권성훈 대한민국 서울특별시 관악구
2 정수은 대한민국 서울특별시 강남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
대리인 정보가 없습니다

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.08.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0613738-66
2 보정요구서
Request for Amendment		 2008.09.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0111075-56
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2008.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2008-0691806-80
4 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2009.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2009-0802984-04
5 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2009.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2009-0803088-88
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.04.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.05.13 수리 (Accepted) 9-1-2010-0027499-15
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0385239-52
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2010.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0550335-64
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
나노구조(nanostructure)를 제조하는 방법으로서, 미세 유체(microfluidic) 채널로 수지를 공급하는 단계; 및 상기 수지가 상기 미세 유체 채널을 통해 흐르는 동안, 상기 수지를 광에 노출시켜, 상기 수지로부터 이광자 흡수(two-photon absorption; TPA)에 의해 중합된 나노구조를 제조하는 단계 를 포함하는, 나노구조 제조 방법
2 2
제1항에 있어서, 원하는 길이를 갖는 상기 나노구조를 얻기 위하여 상기 광의 노출 시간 및 노출 간격을 제어하는 단계를 더 포함하는, 나노구조 제조 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 나노구조를 제조하는 단계는, 소정의 시간 동안 상기 수지를 광에 노출시키는 단계; 및 원하는 길이를 갖는 수지를 얻기 위하여 상기 수지를 광에 노출시키는 단계를 반복하는 단계 를 포함하는, 나노구조 제조 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 나노구조를 제조하는 단계는 상기 수지를 소정의 노출 패턴을 갖는 광에 노출시키는 단계를 포함하는, 나노구조 제조 방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 소정의 노출 패턴은 점 모양의 노출 패턴을 포함하는, 나노구조 제조 방법
6 6
제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 수지는 소정의 시간 간격으로 상기 소정의 노출 패턴을 갖는 광에 노출되는, 나노구조 제조 방법
7 7
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지는 열경화성 수지를 포함하는, 나노구조 제조 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 수지는, 우레탄 아크릴산 모노머, 우레탄 아크릴산 올리고머, 및 이들의 조합 중에서 선택된 하나를 광 개시제(photo-initiator)와 함께 포함하는, 나노구조 제조 방법
9 9
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미세 유체 채널은 폴리디메틸실록산(PDMS)으로 구성되는, 나노구조 제조 방법
10 10
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미세 유체 채널을 흐르는 상기 수지의 속도를 제어하는 단계를 더 포함하는, 나노구조 제조 방법
11 11
제4항에 있어서, 상기 나노구조를 제조하는 단계는 상기 미세 유체 채널 폭 내에서 상기 소정의 노출 패턴을 상하로 이동시키는 단계를 더 포함하는, 나노구조 제조 방법
12 12
나노구조를 제조하는 방법으로서, 수지를 미세 유체 채널을 통하여 계속적으로 흘려주는 단계; 상기 수지의 적어도 일부를 이광자 흡수(two-photon absorption; TPA)에 의해 경화시켜서 나노구조를 얻기 위하여, 상기 수지를 광으로 조사하는 단계; 및 원하는 나노구조를 얻기 위해 상기 조사를 제어하는 단계 를 포함하는, 나노구조 제조 방법
13 13
제12항에 있어서, 상기 조사를 제어하는 단계는, 상기 광의 온 상태 및 오프 상태를 설정하는 단계를 포함하는, 나노구조 제조 방법
14 14
제13항에 있어서, 상기 조사를 제어하는 단계는, 나노점(nanodot)을 얻기 위하여 상기 광의 온 상태 및 오프 상태를 번갈아 반복하는 단계를 포함하는, 나노구조 제조 방법
15 15
제13항에 있어서, 상기 조사를 제어하는 단계는, 나노와이어(nanowire)를 얻기 위하여 미리 설정된 시간 동안 상기 광의 온 상태를 지속하는 단계를 포함하는, 나노구조 제조 방법
16 16
제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지는 우레탄 아크릴산 모노머, 우레탄 아크릴산 올리고머, 및 이들의 조합 중에서 선택된 하나를 광 개시제(photo-initiator)와 함께 포함하는, 나노구조 제조 방법
17 17
제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미세 유체 채널은 폴리디메틸실록산(PDMS)으로 구성되는, 나노구조 제조 방법
18 18
나노구조를 제조하기 위한 장치로서, 수지가 입력되는 유체 입력 제어부; 상기 유체 입력 제어부에 연결되며 미세 유체 채널을 포함하는 채널부; 및 상기 미세 유체 채널에 광을 공급하는 광원 을 포함하고, 상기 유체 입력 제어부를 통하여 입력된 수지가 상기 미세 유체 채널 내에서 흐르며, 상기 수지가 상기 미세 유체 채널 내에서 흐르는 동안, 상기 수지는 상기 광원으로부터의 광에 노출되어 이광자 흡수(TPA)에 의해 중합되어 나노구조로 제조되는, 나노구조 제조 장치
19 19
제18항에 있어서, 원하는 모양 또는 길이를 갖는 나노구조를 얻기 위하여 상기 광의 노출 시간 및 노출 간격이 제어되는, 나노구조 제조 장치
20 20
제18항에 있어서, 소정의 시간 동안 상기 수지를 광으로 조사하고, 원하는 길이를 갖는 수지를 얻기 위하여 상기 소정의 시간 동안의 조사를 반복하는, 나노구조 제조 장치
21 21
제18항에 있어서, 상기 광원은 소정의 노출 패턴을 갖는 광으로 상기 수지를 조사하는, 나노구조 제조 장치
22 22
제21항에 있어서, 상기 소정의 노출 패턴은 점 모양의 노출 패턴을 포함하는, 나노구조 제조 장치
23 23
제21항 또는 제22항에 있어서, 상기 광원은 소정의 시간 간격을 가지고 상기 소정의 노출 패턴의 광으로 상기 수지를 조사하는, 나노구조 제조 장치
24 24
제18항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미세 유체 채널은 폴리디메틸실록산(PDMS)으로 구성되는, 나노구조 제조 장치
25 25
제18항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 입력 제어부는 상기 미세 유체 채널에서 흐르는 상기 수지의 속도를 제어하는, 나노구조 제조 장치
26 26
제21항에 있어서, 상기 광원은 상기 미세 유체 채널의 폭 내에서 상기 소정의 노출 패턴이 상하로 이동되도록 제어되는, 나노구조 제조 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.