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나노컴플렉스로서,
길이 방향으로 연장되며 나노 물질들을 포함하는 몸체부, 및
상기 몸체부의 적어도 일부를 감싸며 전기장 또는 자기장에 영향을 받는 물질을 포함하는 가이드
를 포함하는 나노컴플렉스 구조체
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제1항에 있어서,
상기 전기장 또는 자기장에 영향을 받는 물질은 극성 물질 또는 자성 물질을 포함하는, 나노컴플렉스 구조체
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제1항에 있어서,
상기 나노 물질들은 탄소 나노튜브 또는 탄소 나노 와이어인, 나노컴플렉스 구조체
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제1항에 있어서,
상기 가이드는 상기 몸체부의 일 단부를 감싸는 제1 가이드부를 포함하며, 상기 몸체부는 상기 제1 가이드부의 내부로부터 돌출되어 길이 방향으로 연장되는, 나노컴플렉스 구조체
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제4항에 있어서,
상기 가이드는 상기 몸체부의 다른 한 단부를 감싸는 제2 가이드부를 더 포함하며,
상기 제1 및 제2 가이드부는 선정된 거리 만큼 이격 배치되어 있으며,
상기 몸체부는 상기 제1 가이드부의 내부로부터 돌출되어 길이 방향으로 연장되다가 상기 제2 가이드부의 내부로 삽입되는, 나노컴플렉스 구조체
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6
제4항에 있어서,
상기 제1 가이드부에 의해 감싸진 상기 몸체부의 체적은 상기 몸체부의 전체 체적의 절반을 넘지 않는, 나노컴플렉스 구조체
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제5항에 있어서,
상기 제1 가이드부 및 제2 가이드부는 서로 다른 물질로 구성된, 나노컴플렉스 구조체
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8
제5항에 있어서,
상기 제1 가이드부에 의해 감싸진 상기 몸체부의 체적은 상기 제2 가이드부에 의해 감싸진 상기 몸체부의 체적과 다른, 나노컴플렉스 구조체
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9
제1항에 있어서,
상기 몸체부 위에 배치되어 상기 몸체부의 상기 나노 물질들 간의 결합을 돕는 커플러를 더 포함하는 나노컴플렉스 구조체
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10
제9항에 있어서,
상기 가이드는 상기 몸체부의 일 단부와 상기 몸체부의 상기 일 단부에 대응되는 상기 커플러의 제1 부분을 감싸는 제1 가이드부를 포함하며, 상기 몸체부와 상기 몸체부 위에 배치된 상기 커플러는 상기 제1 가이드부의 내부로부터 돌출되어 길이 방향으로 연장되는, 나노컴플렉스 구조체
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11
제10항에 있어서,
상기 가이드는 상기 몸체부의 다른 한 단부와 상기 몸체부의 상기 다른 한 단부에 대응되는 상기 커플러의 제2 부분을 감싸는 제2 가이드부를 더 포함하며,
상기 제1 및 제2 가이드부는 선정된 거리 만큼 이격 배치되어 있으며,
상기 몸체부와 상기 몸체부 위에 배치된 상기 커플러는 상기 제1 가이드부의 내부로부터 돌출되어 길이 방향으로 연장되다가 상기 제2 가이드부의 내부로 삽입되는, 나노컴플렉스 구조체
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제1항에 있어서,
상기 나노컴플렉스는 기판 위에 제공되는, 나노컴플렉스 구조체
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13
나노컴플렉스 구조체를 제조하는 방법으로서,
기판을 제공하는 단계,
상기 기판 상에 제1 막을 제공하는 단계,
상기 제1 막에 길이 방향으로 연장되는 하나 이상의 제1 홈을 형성하는 단계,
상기 제1 홈에 나노 물질들을 제공하는 단계,
상기 제1 홈에 상기 나노 물질들이 제공된 상기 제1 막 위에 제2 막을 제공하는 단계,
상기 제2 막에 그리고 상기 제1 막의 선정된 깊이까지 하나 이상의 제2 홈 ? 상기 제2 막에서 상기 제2 홈은 상기 나노 물질들이 제공된 상기 제1 홈의 적어도 일부에 수직으로 대응되며, 상기 제2 홈의 폭은 상기 제1 홈의 상기 적어도 일부에서의 폭 보다 큼 - 을 형성하는 단계,
상기 제2 홈에 가이드용 물질을 제공하는 단계, 및
상기 제1 및 제2 막을 제거하는 단계
를 포함하는 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제13항에 있어서,
상기 가이드용 물질은 전기장 또는 자기장에 영향을 받는 물질을 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제13항에 있어서,
상기 제1 막은 포토레지스트인, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제15항에 있어서,
상기 제1 홈을 형성하는 단계는 포토리소그래피 공정을 이용하여 상기 제1 막을 패터닝하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제13항에 있어서,
상기 제1 홈을 형성하는 단계는 상기 제1 막에 길이 방향으로 연장되는 복수의 제1 홈을 서로 나란하게 형성하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제17항에 있어서,
상기 제1 홈을 형성하는 단계는 상기 복수의 제1 홈을 서로 등간격을 이루도록 형성하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제13항에 있어서,
상기 제1 홈의 깊이는 상기 제1 막의 두께보다 작거나 같은, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제13항에 있어서,
상기 제2 막은 포토레지스트인, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제20항에 있어서,
상기 제2 홈을 형성하는 단계는 포토리소그래피 공정을 이용하여 상기 제2 막을 패터닝하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제13항에 있어서,
상기 선정된 깊이는 상기 제1 홈의 깊이와 동일하거나 그보다 작은, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제17항에 있어서,
상기 제2 홈을 형성하는 단계는 복수의 제2 홈을 형성하되 상기 복수의 제2 홈 각각이 상기 복수의 제1 홈들 각각에 수직으로 대응되도록 하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제13항에 있어서,
상기 제2 홈을 형성하는 단계는 상기 제2 홈을 상기 제1 홈의 한쪽 단부를 포괄하는 관계로 상기 제1홈의 상기 한쪽 단부에 수직으로 대응하도록 형성하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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25
제13항에 있어서,
상기 제2 홈을 형성하는 단계는 상기 제2 홈을 상기 제1 홈의 양쪽 단부를 각각 포괄하는 관계로 상기 제1 홈의 상기 양쪽 단부 각각에 수직으로 대응하도록 형성하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제13항에 있어서,
상기 제1 홈에 나노 물질들을 제공하는 단계는, 가스 분사 장치를 이용하여 상기 제1 막에 제공된 상기 나노 물질들을 상기 제1 홈에 주입시키고 상기 제1 홈에 들어가지 않고 제1 막 위에 남은 나노 물질들은 제거하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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27
제13항에 있어서,
상기 제2 막을 제공하는 단계에 앞서,
제3 막을 상기 제1 막 위에 제공하는 단계,
상기 제3 막 위에 하나 이상의 제3 홈을 형성하는 단계,
상기 제3 홈에 커플러를 제공하는 단계, 및
상기 제3 막을 제거하는 단계를 더 포함하는 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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28
제27항에 있어서,
상기 제3 홈을 형성하는 단계는 상기 제3 홈을 상기 제1 홈과 서로 통하도록 형성하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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제13항에 있어서,
상기 제2 홈에 가이드용 물질을 제공하는 단계는 상기 가이드용 물질이 극성 또는 자성을 띠도록 처리하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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30
제13항에 있어서,
상기 제1 및 제2 막을 제거하는 단계는 상기 기판을 제거하는 단계를 포함하는, 나노컴플렉스 구조체 제조 방법
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