[KST2015158754][서울대학교] |
기판상에 양자점을 배열하는 방법 및 장치 |
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[KST2015160539][서울대학교] |
접착력이 우수한 다층 박막 및 이의 제조방법 |
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[KST2015159970][서울대학교] |
응력유도 저온결정화를 이용한 비정질 실리콘 박막의결정화 방법 및 이를 이용한 다결정 실리콘 박막트랜지스터의 제조방법 |
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[KST2015161055][서울대학교] |
단원자층 증착법을 이용한 양자점 형성 방법 |
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[KST2015160590][서울대학교] |
개선된 금속 전구체 공급 및 퍼지 단계를 갖는 박막 증착방법 |
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[KST2015135198][서울대학교] |
금속 산화물층의 제조 방법, 상기 방법을 이용하여 제조한 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 |
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[KST2015160045][서울대학교] |
박막 제조 방법 및 박막 제조 장치 |
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[KST2015160480][서울대학교] |
반도체 양자점의 대량 합성 방법 |
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[KST2015158828][서울대학교] |
덮개층 형성과정에 온도의 변화를 주는 방법을 이용한자발형성 양자점의 수직 적층방법 |
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[KST2014050247][서울대학교] |
반도체 박막 구조 및 그 형성 방법 |
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[KST2014058499][서울대학교] |
높은 전하 이동도를 갖는 산화물 반도체 제조 시스템 및 방법 |
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[KST2014036929][서울대학교] |
투명 도전막의 제조 방법 및 이에 의한 투명 도전막 |
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[KST2015158870][서울대학교] |
중간 질화물 반도체 에피층의 금속상 전환을 이용한질화물 반도체 에피층 성장 방법 |
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[KST2015159465][서울대학교] |
반도체 나노 구조체의 제조방법 |
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[KST2015159865][서울대학교] |
유도결합 플라즈마 화학기상 증착장치, 이를 이용한도핑공정 없는 p형 산화아연박막 제조 시스템 및 그 방법,광출력 화합물 반도체 |
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[KST2014053161][서울대학교] |
열플라즈마 화학기상증착법을 이용한 제어 가능한 그래핀 시트 제조방법 |
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[KST2015160757][서울대학교] |
얇은 이종 덮개층을 이용한 자발 형성 양자점 구조 형성방법 |
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[KST2015135367][서울대학교] |
양자점 제조 방법 |
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[KST2015135564][서울대학교] |
질화물 박막 구조 및 그 형성 방법 |
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[KST2015158855][서울대학교] |
고온 완충층을 이용한 질화물 반도체 에피층 성장 방법 |
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[KST2015219225][서울대학교] |
기판의접합형성방법및이에사용되는보트 |
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[KST2014037060][서울대학교] |
미세결정 실리콘 박막의 형성 방법 |
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[KST2015135300][서울대학교] |
칼코제나이드계 박막 증착방법 |
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[KST2015160274][서울대학교] |
바이어스를 이용한 막 증착 방법 |
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[KST2015158757][서울대학교] |
반도체 양자점 특성 조절을 위한 2단계 성장중지 방법 |
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[KST2015160188][서울대학교] |
전기장을 이용한 막 증착 장치 및 막 증착 방법 |
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[KST2015159016][서울대학교] |
격자 변형된 반도체 박막 형성 방법 |
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[KST2019011825][서울대학교] |
박막 물성측정 및 분석용 시료 제작 방법 및 이에 의해 제작된 시료 |
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[KST2014053220][서울대학교] |
반도체 박막 구조 및 그 형성 방법 |
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[KST2015228754][서울대학교] |
프로세스 챔버의 오염 방지 장치 및 이를 이용한 프로세스 챔버의 오염 방지 방법(Apparatus and method for preventing contamintion of process chamber) |
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