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하기 화학식 1로 표시되는 구조 단위; 하기 화학식 2로 표시되는 구조 단위 및 하기 화학식 4로 표시되는 구조 단위를 포함하는 공중합체를 포함하는 감광성 매트 형성용 조성물:003c#화학식 1003e#(상기 화학식 1에서 R1은 수소(H), C1-5의 직쇄 알킬 또는 C3-5의 분지쇄 알킬이고, A는 또는 이고, p는 1-5이고, q는 1-5이고, r은 1-5이고, R6 및 R7는 각각 독립적으로 수소(H), C1-5의 직쇄 알킬 또는 C3-5의 분지쇄 알킬, C1-5의 알콕시이다)003c#화학식 2003e#(상기 화학식 2에서 R2는 수소(H), C1-5의 직쇄 알킬 또는 C3-5의 분지쇄 알킬이고, R3는 가교결합성기이다)003c#화학식 4003e#(상기 화학식 4에서 R4는 수소(H), C1-5의 직쇄 알킬 또는 C3-5의 분지쇄 알킬이고, R5는 스타이렌, 터셔리-부틸스타이렌, 트라이메틸실릴 스타이렌 및 메틸 4-바이닐벤조에이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종이다)
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제1항에 있어서,상기 가교결합성기는 알킨기를 포함하는 기능성기, 알카인기를 포함하는 기능성기, 아자이도기를 포함하는 기능성기 및 에폭시기를 포함하는 기능성기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 감광성 매트 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 공중합체는 하기 화학식 3으로 표시되는 구조 단위를 포함하는 것인 감광성 매트 형성용 조성물:003c#화학식 3003e#(상기 화학식 3에서 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소(H), C1-5의 직쇄 알킬 또는 C3-5의 분지쇄 알킬이고, A는 또는 이고, p는 1-5이고, q는 1-5이고, r은 1-5이고, R6 및 R7는 각각 독립적으로 수소(H), C1-5의 직쇄 알킬 또는 C3-5의 분지쇄 알킬, C1-5의 알콕시이고, x는 0
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제1항에 있어서,상기 공중합체는 하기 화학식 5로 표시되는 것인 감광성 매트 형성용 조성물:003c#화학식 5003e#(상기 화학식 5에서 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소(H), C1-5의 직쇄 알킬 또는 C3-5의 분지쇄 알킬이고, A는 또는 이고, p는 1-5이고, q는 1-5이고, r은 1-5이고, R4는 수소(H), C1-5의 직쇄 알킬 또는 C3-5의 분지쇄 알킬이고, R6 및 R7는 각각 독립적으로 수소(H), C1-5의 직쇄 알킬 또는 C3-5의 분지쇄 알킬, C1-5의 알콕시이고, x는 0
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제1항의 감광성 매트 형성용 조성물을 가교시켜 형성된 감광성 매트
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제1항의 감광성 매트 형성용 조성물을 기판 상에 도포하는 단계; 및도포된 감광성 매트 형성용 조성물을 가교시키는 단계;를 포함하는 감광성 매트의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 가교는 100℃ 내지 200℃의 온도로 가열하여 수행되는 감광성 매트의 제조방법
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기판 상부에 형성된 제6항의 감광성 매트; 및상기 감광성 매트 상부에 형성된 블록공중합체 박막;을 포함하고,상기 감광성 매트의 적어도 일부 표면은 광으로 조사되어 표면개질되어 상기 블록공중합체 박막이 자기조립되는 것을 특징으로 하는 자기조립 기판
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제1항의 감광성 매트 형성용 조성물을 기판 상에 도포하는 단계; 도포된 감광성 매트 형성용 조성물을 가교시켜 감광성 매트를 형성하는 단계;상기 감광성 매트의 적어도 일부 표면을 광으로 조사하는 단계; 및상기 감광성 매트 상에 블록공중합체 박막을 형성하는 단계;를 포함하는 자기조립 기판의 제조방법
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