| [KST2018004257][인하대학교] |
DMD를 이용한 노광시스템(System for exposure using DMD) |
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| [KST2021010308][인하대학교] |
산출 리소그래피를 위한 E-Beam 클러스터 구성 방법 및 장치 |
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| [KST2020005519][인하대학교] |
고불소화 공중합체 및 고불소계 용제를 이용한 안료 분산체 및 이를 이용한 포토패터닝 방법 |
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| [KST2023002589][인하대학교] |
아세탈계 화합물, 아세탈계 프리폴리머, 아세탈계 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
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| [KST2017017825][인하대학교] |
DMD를 이용한 노광시스템(System for exposure using DMD) |
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| [KST2015158129][인하대학교] |
노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법 |
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| [KST2023010714][인하대학교] |
주쇄 절단형 고불소화 고분자 포토레지스트 및 그 제조방법 |
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| [KST2022018932][인하대학교] |
반도체 장치의 제조 방법 |
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| [KST2020013397][인하대학교] |
우수한 분산 안정성을 갖는 안료 분산액, 이의 제조방법, 및 이를 이용한 포토패터닝 방법 |
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| [KST2023010715][인하대학교] |
포토리소그래피용 레지스트 화합물 및 언더레이어 화합물, 이를 이용하여 형성된 다층 구조 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법 |
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| [KST2022018936][인하대학교] |
신규 화합물 및 이를 포함하는 극자외선용 포토레지스트 조성물 |
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| [KST2019016420][인하대학교] |
첨가제를 포함하는 고불소화 포토레지스트용 불소계 현상 용매 및 이를 이용한 유기 발광 다이오드 디스플레이 제조방법 |
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| [KST2024000219][인하대학교] |
다양한 기판에 코팅이 가능한 광가교/광패터닝 가능 고분자 및 그 응용 |
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| [KST2022002596][인하대학교] |
고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법 |
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| [KST2018004216][인하대학교] |
노광 장치(APPARATUS FOR EXPOSURE) |
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| [KST2018004237][인하대학교] |
복수의 프리즘을 구비하는 노광장치(APPARATUS FOR EXPOSURE HAVING PLURAL PRISM) |
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| [KST2019022811][인하대학교] |
높은 유리전이온도를 가지고 고불소계 용제에 용해되는 고불소화 고분자 화합물 |
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| [KST2015157975][인하대학교] |
알루미늄 기판의 패터닝 방법 |
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| [KST2024000225][인하대학교] |
4개 이상의 불소 원자를 포함하는 리간드가 결합된 유기금속화합물, 이를 포함하는 레지스트 조성물 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
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| [KST2016005310][인하대학교] |
듀얼헤드 노광시스템 및 이를 이용한 노광방법(Dual head exposure system and exposure method using the same) |
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| [KST2020001057][인하대학교] |
고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 단분자 포토레지스트 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
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| [KST2019035880][인하대학교] |
고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 고분자를 포함하는 레지스트 재료 |
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| [KST2023010635][인하대학교] |
포토리소그래피용 언더레이어 화합물, 이를 이용하여 형성된 다층 구조 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법 |
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| [KST2019022869][인하대학교] |
기계적 물성 가변 자극감응형 액정 고분자-셀룰로오스 나노결정 다중층 복합소재 |
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| [KST2018004211][인하대학교] |
복수의 DMD를 구비하는 노광장치(APPARATUS FOR EXPOSURE HAVING PLURAL DMD) |
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| [KST2020011361][인하대학교] |
레지스트 화합물, 이를 사용한 패턴 형성 방법, 및 이를 사용한 반도체 소자 제조 방법 |
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| [KST2021005078][인하대학교] |
고불소화 공중합체와 고불소계 용제를 이용한 적색 안료 분산체 및 이를 이용한 포토패터닝 방법 |
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| [KST2019022764][인하대학교] |
노광 방법 |
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| [KST2021002874][인하대학교] |
레지스트 화합물, 이를 사용한 패턴 형성 방법, 및 이를 사용한 반도체 소자 제조 방법 |
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| [KST2022013904][인하대학교] |
스피로피란 구조를 포함하는 고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법 |
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