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생체적합성 실리콘 나노입자의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014051316
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 생체적합성 실리콘 나노입자의 제조 방법에 관한 것으로서, 실리콘 나노입자 제조를 위한 전구체인 Si-함유 진틀염(Zintl salt)을 다이에틸렌글리콜 다이에틸에테르(DGDE) 중에서 초음파 처리하여 실리콘 나노입자 콜로이드를 형성한 후 이를 할로겐화수소 수용액으로 처리하여 그 표면에 하이드록시기를 도입하는 본 발명의 방법에 따르면, 수용액 내에서의 분산 안전성이 우수하고 생체 적합성이 뛰어난 실리콘 나노입자를 간단하면서도 고수율로 대량 생산할 수 있다.실리콘, 나노입자, 양자점, 수용성, 생체적합성
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82Y 5/00 (2011.01) A61L 31/02 (2011.01) A61L 24/02 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020050102333 (2005.10.28)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0644968-0000 (2006.11.03)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20061114) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.10.28)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조운조 대한민국 경기 의정부시
2 이수진 대한민국 경기 파주시
3 한일기 대한민국 서울 노원구
4 최원준 대한민국 서울 강북구
5 이정일 대한민국 서울 동대문구
6 박재관 대한민국 서울 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2005-0618428-75
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.07.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.08.10 수리 (Accepted) 9-1-2006-0050053-89
4 등록결정서
Decision to grant		 2006.10.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0623542-71
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1
i) Si-함유 진틀염(zintl salt)을 다이에틸렌글리콜 다이에틸에테르(diethylene glycol diethyl ether, DGDE) 중에서 초음파 처리하여 실리콘 나노입자 콜로이드를 얻는 단계, 및ii) 단계 i)에서 얻어진 실리콘 나노입자 콜로이드에 할로겐화수소 수용액을 가하여 교반하는 단계를 포함하는, 생체적합성 실리콘 나노입자의 제조 방법
2 2
제1항에 있어서, Si-함유 진틀염이, 리튬실리사이드(LiSi), 소듐실리사이드(NaSi), 포타슘실리사이드(KSi), 마그네슘실리사이드(MgxSi, 여기서 0
3 3
제1항에 있어서, 초음파 처리 공정이, 10 내지 2,000 W 범위의 전력 및 1 내지 100 kHZ 범위의 주파수를 갖는 초음파를 상온에서 1분 내지 10시간 동안 조사함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
4 4
제3항에 있어서, 초음파 처리 공정이, 1 내지 20 mm 범위의 직경을 갖는 초음파 탐침을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
5 5
제1항에 있어서, 할로겐화수소가 HF, HCl, HBr 및 HI로 이루어진 군 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법
6 6
제1항에 있어서, 할로겐화수소 수용액의 농도가 1 내지 35 중량% 범위인 것을 특징으로 하는 방법
7 7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법에 따라 제조된, 하이드록시기로 표면 개질된 생체적합성 실리콘 나노입자
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1 US20070098988 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2007098988 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.