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복수의 리드(lead)를 갖는 리드형(lead-type) 구조물의 리드 간 동일평면성 계측 장치에 있어서,광투과성 재질의 격자 무늬 형태의 평판;일면에 상기 복수의 리드 중 적어도 하나의 리드가 밀착된 상기 평판에 광원을 조사(照射)하되, 상기 평판의 타면 방향에서 광원을 조사하는 조명 수단;상기 광원의 조사 시 상기 평판의 상기 타면 방향에서 상기 복수의 리드의 이미지를 센싱하는 이미지 센서; 및상기 센싱된 이미지에 기초하여 상기 복수의 리드 간 동일평면성을 계측하는 계측 처리 모듈을 포함하며,상기 조명 수단은 연결된 구동 부재의 구동에 따라 수평 방향으로 이동하여 둘 이상의 각도로 광원을 조사하고,상기 계측 처리 모듈은,상기 센싱된 이미지로부터 상기 복수의 리드 중 단부면에 간섭 무늬가 검출된 적어도 하나의 리드의 평편도 오차를 산출하되, 상기 평편도 오차는 하기 수학식 1을 이용하여 산출되는 것인, 리드 간 동일평면성 계측 장치
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제 4 항에 있어서,상기 계측 처리 모듈은,상기 조명 수단의 이동 방향, 이동 거리, 및 조사 각도 중 적어도 하나를 설정하고, 상기 설정에 따라 상기 조명 수단과 연결된 구동 부재의 구동을 제어하는 광원 이동 제어부;상기 이미지 센서로부터 센싱된 이미지를 수신하여 상기 이미지로부터 상기 복수의 리드 중 적어도 하나에 발생된 간섭 무늬를 검출하고, 상기 검출에 따라 상기 평판과 밀착되지 않은 적어도 하나의 리드를 판단하여 상기 리드 간 동일평면성을 계측하는 동일평면성 계측부; 및상기 계측된 리드 간 동일평면성 결과에 기초하여 상기 평판과 밀착되지 않은 리드에 대한 평편도 오차 값을 산출하는 평편도 오차 산출부를 포함하는, 리드 간 동일평면성 계측 장치
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복수의 리드(lead)를 갖는 리드형(lead-type) 구조물의 리드 간 동일평면성 계측 방법에 있어서,상기 리드형 구조물의 복수의 리드와 광투과성 재질의 격자 무늬 형태의 평판의 일면이 밀착되도록 위치시키는 단계,상기 평판의 타면 방향에서 상기 평판에 광원을 조사(照射)하되, 상기 광원을 수평 방향으로 이동시켜 상기 평판 상에 둘 이상의 각도로 상기 광원이 조사되도록 하는 단계,상기 평판의 상기 타면 방향에서 상기 광원이 조사된 상태의 상기 복수의 리드의 이미지를 센싱하는 단계; 및상기 센싱된 이미지에 기초하여 상기 복수의 리드 간 동일평면성을 계측하는 단계를 포함하되,상기 리드 간 동일 평면성을 계측하는 단계는,상기 센싱된 이미지로부터 적어도 하나의 리드의 단부면에 간섭 무늬가 검출될 경우, 상기 간섭 무늬가 검출된 리드를 상기 평판과 밀착되지 않은 리드로 판단하는 단계와,상기 평판의 격자 간 간격, 상기 광원의 입사각도, 상기 이미지가 센싱된 측정각도, 및 상기 광원의 이동 시 상기 리드 상의 간섭 무늬 발생 횟수에 기초하여 상기 판단된 리드에 대한 평편도 오차를 산출하는 단계를 포함하며,상기 리드 간 동일 평면성은,상기 센싱된 이미지로부터 상기 복수의 리드 중 적어도 하나의 리드의 단부면에 발생된 간섭 무늬를 검출하여 계측되는, 리드 간 동일 평면성 계측 방법
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