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레이저 광을 이용하여 광학적 터치스크린의 화면을 지시하는, 레이저 모듈로 구성된 물체의 위치 및 자세를 추정하는 방법에 있어서,물체의 위치 및 자세 추정 시스템이 상기 터치스크린의 화면 상에 지시되는 상기 레이저 광의 위치를 인식하는 단계; 및상기 물체의 위치 및 자세 추정 시스템이 상기 물체의 위치 및 자세에 따른 상기 레이저 광의 위치를 나타내는 모델을 이용하여 상기 인식된 레이저 광의 위치에 대응되는 상기 물체의 위치 및 자세를 추정하는 단계를 포함하는 물체의 위치 및 자세 추정 방법
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제1항에 있어서,상기 물체의 위치 및 자세를 추정하는 단계는,상기 물체의 위치 및 자세에 대한 임의 값을 상기 모델에 적용하여 결과로 나온 상기 레이저 광의 위치와 상기 인식된 레이저 광의 위치 간의 차이가 최소인 상기 물체의 위치 및 자세를 찾는 것을 특징으로 하는 물체의 위치 및 자세 추정 방법
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레이저 광을 이용하여 광학적 터치스크린의 화면을 지시하는, 레이저 모듈로 구성된 물체의 위치 및 자세를 추정하는 방법에 있어서,상기 물체는 상기 레이저 모듈에서 방출된 레이저 광을 일정 패턴으로 분산시키는 회절 필름을 포함하고,상기 물체의 위치 및 자세 추정 방법은,물체의 위치 및 자세 추정 시스템이 상기 터치스크린의 화면 상에 지시되는 상기 레이저 광의 회절 패턴을 통해 상기 물체 및 상기 레이저 광의 위치를 인식하는 단계; 및상기 물체의 위치 및 자세 추정 시스템이 상기 인식된 물체에 대하여 상기 물체의 위치 및 자세에 따른 상기 레이저 광의 위치를 나타내는 모델을 이용하여 상기 인식된 레이저 광의 위치에 대응되는 상기 물체의 위치 및 자세를 추정하는 단계를 포함하는 물체의 위치 및 자세 추정 방법
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제3항에 있어서,상기 물체가 복수 개 존재할 경우 상기 물체 각각은 상기 레이저 광의 회절 패턴을 변형하는 가림막을 더 포함하고,상기 물체 및 상기 레이저 광의 위치를 인식하는 단계는,상기 가림막에 의해 변형된 상기 레이저 광의 회절 패턴을 통해 상기 복수 개의 물체 중 어느 하나의 물체를 인식하는 것을 특징으로 하는 물체의 위치 및 자세 추정 방법
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제3항에 있어서,상기 물체의 위치 및 자세를 추정하는 단계는,상기 물체의 위치 및 자세에 대한 임의 값을 상기 모델에 적용하여 결과로 나온 상기 레이저 광의 위치와 상기 인식된 레이저 광의 위치 간의 차이가 최소인 상기 물체의 위치 및 자세를 찾는 것을 특징으로 하는 물체의 위치 및 자세 추정 방법
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레이저 모듈로 구성된 물체의 위치 및 자세를 추정하는 시스템에 있어서,상기 레이저 모듈로 구성된 물체로부터 레이저 광을 수신하는 광학적 터치스크린; 및상기 터치스크린의 화면 상에 지시되는 상기 레이저 광의 위치를 인식한 후, 상기 물체의 위치 및 자세에 따른 상기 레이저 광의 위치를 나타내는 모델을 이용하여 상기 인식된 레이저 광의 위치에 대응되는 상기 물체의 위치 및 자세를 추정하는 추정부를 포함하는 물체의 위치 및 자세 추정 시스템
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제6항에 있어서,상기 물체의 위치 및 자세 추정 시스템은,상기 물체의 위치 및 자세에 대한 임의 값을 상기 모델에 적용하여 결과로 나온 상기 레이저 광의 위치와 상기 인식된 레이저 광의 위치 간의 차이가 최소인 상기 물체의 위치 및 자세를 찾는 것을 특징으로 하는 물체의 위치 및 자세 추정 시스템
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레이저 모듈로 구성된 물체의 위치 및 자세를 추정하는 시스템에 있어서,레이저 모듈에서 방출된 레이저 광을 일정 패턴으로 분산시키는 회절 필름을 포함하는 레이저 모듈로 구성된 물체;상기 레이저 모듈로 구성된 물체로부터 레이저 광을 수신하는 광학적 터치스크린; 및상기 터치스크린의 화면 상에 지시되는 상기 레이저 광의 회절 패턴을 통해 상기 물체 및 상기 레이저 광의 위치를 인식한 후, 상기 인식된 물체에 대하여 상기 물체의 위치 및 자세에 따른 상기 레이저 광의 위치를 나타내는 모델을 이용하여 상기 인식된 레이저 광의 위치에 대응되는 상기 물체의 위치 및 자세를 추정하는 추정부를 포함하는 물체의 위치 및 자세 추정 시스템
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제8항에 있어서,상기 레이저 모듈로 구성된 물체는,상기 레이저 모듈로 구성된 물체가 복수 개 존재할 경우 상기 레이저 모듈로 구성된 물체 각각은 상기 레이저 광의 회절 패턴을 변형하는 가림막을 더 포함하고,상기 물체의 위치 및 자세 추정 시스템은,상기 가림막에 의해 변형된 상기 레이저 광의 회절 패턴을 통해 상기 복수 개의 레이저 모듈로 구성된 물체 중 어느 하나의 물체를 인식하는 것을 특징으로 하는 물체의 위치 및 자세 추정 시스템
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제8항에 있어서,상기 물체의 위치 및 자세 추정 시스템은,상기 레이저 모듈로 구성된 물체의 위치 및 자세에 대한 임의 값을 상기 모델에 적용하여 결과로 나온 상기 레이저 광의 위치와 상기 인식된 레이저 광의 위치 간의 차이가 최소인 상기 물체의 위치 및 자세를 찾는 것을 특징으로 하는 물체의 위치 및 자세 추정 시스템
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