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(A) 나노선, (B) 나노가지, (C) 나노튜브를 포함하는 나노선/나노튜브 이중구조로서,상기 나노선은 상기 나노튜브 내부에 위치하며,상기 나노선과 상기 나노튜브가 나노가지로 연결되고, 상기 나노선은 ZnSe이며, 상기 나노튜브 및 나노가지는 ZnxCd1-xSe인 것을 특징으로 하는 나노선/나노튜브 이중구조
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제1항에 있어서, 상기 나노선/나노튜브 이중구조는(a) 셀렌화아연을 코어로 하고 셀렌화카드뮴을 쉘로 하는 코어/쉘 구조의 나노와이어을 제조하는 단계;(b) 상기 나노와이어를 260-350 ℃에서 10-100 분간 반응하여 상기 코어의 셀렌화아연을 쉘 쪽으로 확산시켜 코어와 쉘을 연결하는 나노가지(nano-branch)를 형성시키기는 단계; 및(c) 상기 나노가지가 형성된 코어/쉘 구조의 나노와이어를 상온에서 냉각시켜 나노선/나노튜브 이중구조를 제조하는 단계를 포함하는 제조방법에 의해서 제조되는 것을 특징으로 하는 나노선/나노튜브 이중구조
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제2항에 있어서, 상기 코어의 직경은 10-20 nm이며, 상기 나노튜브의 두께는 10-20 nm인 것을 특징으로 하는 나노선/나노튜브 이중구조
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하부기판;상기 하부기판의 위로 형성되고 셀렌화아연으로 이루어진 시드층;상기 시드층의 상부에 형성되는 비스무트층;상기 비스무트층의 상부에 형성되는 폴리비닐알콜층;상기 폴리비닐알콜층으로 코팅된 비스무트층 아래로 성장된 나노선/나노튜브 이중구조;상기 나노선/나노튜브 이중구조 위로 형성되는 황화카드뮴코팅층; 상기 황화카드뮴코팅층 위로 형성되는 전해질 층; 및상기 전해질층 위로 형성되는 상부기판;을 포함하는 태양전지에 있어서,상기 하부기판은 일면이 불소가 도포된 산화주석(Fluorine doped Tin Oxide, FTO)층으로 코팅되며,상기 상부기판은 일면이 백금층으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 태양전지로서,상기 나노선/나노튜브 이중구조는 (a) 나노선, (b) 나노가지, (c) 나노튜브를 포함하고, 상기 나노선은 상기 나노튜브 내부에 위치하며, 상기 나노선과 상기 나노튜브가 나노가지로 연결되고, 상기 나노선은 ZnSe이며, 상기 나노튜브 및 나노가지는 ZnxCd1-xSe인 것을 특징으로 하는 태양전지
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제4항에 있어서, 상기 시드층의 두께는 20-40 nm이고, 상기 비스무트층의 두께는 3-10 nm이며, 상기 폴리비닐알콜층의 두께는 3-10 nm이고, 상기 황화카드뮴코팅층의 두께는 3-10 nm인 것을 특징으로 하는 태양전지
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제4항에 있어서, 상기 비스무트층은 시드층과 폴리비닐알콜층 사이의 계면에너지 차이로 구 형태를 형성하는 것을 특징으로 하는 태양전지
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제4항에 있어서, 상기 전해질은 리튬아이오다이드, I2, 4-tert-부틸피리딘 및 3-메톡시프로피오니트릴 중에서 선택되는 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 태양전지
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(1) FTO로 코팅된 하부기판 위로 셀렌화아연으로 이루어진 시드층을 형성시키는 단계;(2) 상기 시드층 위에 비스무트층을 형성시키는 단계;(3) 상기 비스무트층 위에 폴리비닐알콜층을 형성시키는 단계;(4) 상기 폴리비닐알콜층으로 코팅된 비스무트층 아래에 코어/쉘 구조의 셀렌화아연/셀렌화카드뮴 나노와이어를 성장시키고, 상기 나노와이어를 250-320 ℃에서 10-100 분간 반응시켜 나노선/나노튜브 이중구조를 제조하는 단계;(5) 상기 나노선/나노튜브 이중구조 위에 황화카드뮴코팅층을 형성하는 단계; 및(6) 상기 황화카드뮴이 코팅된 나노선/나노튜브 이중구조 위에 백금이 코팅된 상부기판을 형성시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 나노선/나노튜브 이중구조는, (a) 셀렌화아연/셀렌화카드뮴 코어/쉘 구조의 나노와이어을 제조하는 단계;(b) 상기 나노와이어를 250-320 ℃에서 10-100 분간 반응하여 상기 코어의 셀렌화아연을 쉘 쪽으로 확산시켜 코어와 쉘을 연결하는 나노가지(nano-branch)를 형성시키기는 단계; 및(c) 상기 나노가지가 형성된 코어/쉘 구조의 나노와이어를 상온에서 냉각시키는 단계;를 포함하여 수행하여 제조될 수 있으며,상기 나노선은 ZnSe이고, 상기 나노튜브 및 나노가지는 ZnxCd1-xSe인 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 시드층의 두께는 20-40 nm이고, 상기 비스무트층의 두께는 3-10 nm이며, 상기 폴리비닐알콜층의 두께는 3-10 nm이고, 상기 황화카드뮴코팅층의 두께는 3-10 nm인 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
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