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계면활성제막이 표면에 고착된 탄소나노튜브의 제조방법 및 그의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015112577
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 수중에서 탄소나노튜브와 계면활성제를 혼합하고, 초음파 처리한 다음, 기폭제를 처리하여 탄소나노튜브의 표면에 흡착된 계면활성제를 중합시켜 계면활성제막을 고착시키는 공정을 포함하는 계면활성제막이 표면에 고착된 탄소나노튜브의 제조방법 및 전기 방법으로 제조된 계면활성제막이 표면에 고착된 탄소나노튜브에 관한 것이다. 본 발명의 계면활성제막이 표면에 고착된 탄소나노튜브는 외부 환경변화에도 안정적인 분산상태를 유지할 뿐만 아니라 완전히 건조시킨 후에 다시 수중에 넣어도 안정적으로 분산될 수 있으므로, 탄소나노튜브를 이용한 각종 제품의 개발에 널리 활용될 수 있을 것이다.탄소나노튜브, 계면활성제, 기폭제
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) C01B 31/02 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC C01B 32/174(2013.01) C01B 32/174(2013.01) C01B 32/174(2013.01) C01B 32/174(2013.01) C01B 32/174(2013.01) C01B 32/174(2013.01)
출원번호/일자 1020060108601 (2006.11.03)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0874219-0000 (2008.12.09)
공개번호/일자 10-2008-0040527 (2008.05.08) 문서열기
공고번호/일자 (20081215) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.11.03)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최성민 대한민국 대전광역시 유성구
2 도창우 대한민국 대전광역시 유성구
3 김태환 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이한영 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로**길 ** (서초동, 아트스페이스 ***빌딩 *층)(리앤리국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.11.03 수리 (Accepted) 1-1-2006-0808472-65
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.06.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.07.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0040870-19
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0526847-27
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.11.14 수리 (Accepted) 1-1-2007-0818331-50
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2007-0943422-16
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0071960-27
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.01.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0071944-07
9 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2008.05.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0287591-84
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0544513-04
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.08.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0611953-29
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.08.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2008-0611880-95
13 등록결정서
Decision to grant
2008.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0606398-17
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
1 1
(ⅰ) 탄소나노튜브와 계면활성제인 세틸트리메틸암모늄 4-비닐벤조에이트(cetyltrimethyl ammounium 4-vinylbenzoate, CTVB)를 1:2 내지 2:5(w/w)로 혼합하고, 산소를 제거하는 공정;(ⅱ) 전기에서 수득한 혼합물과 산소가 없는 물을 0
2 2
제 1항에 있어서,탄소나노튜브는 단일벽 탄소나노튜브(single wall carbon nanotube, SWNT)인 것을 특징으로 하는계면활성제막이 표면에 고착된 탄소나노튜브의 제조방법
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제 1항에 있어서,(ⅲ) 공정에서 중합시킨 다음, 반응물을 100,000g 내지 150,000g에서 3 내지 5시간 동안 원심분리하고, 상층액을 수득하여 건조시키는 공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는계면활성제막이 표면에 고착된 탄소나노튜브의 제조방법
6 6
제 1항의 방법으로 제조되어, 표면에 세틸트리메틸암모늄 4-비닐벤조에이트(cetyltrimethyl ammounium 4-vinylbenzoate, CTVB)으로 구성된 계면활성제막이 고착된 탄소나노튜브
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP04961323 JP 일본 FAMILY
2 JP20115073 JP 일본 FAMILY
3 US20080176071 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 JP2008115073 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JP4961323 JP 일본 DOCDBFAMILY
3 US2008176071 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.