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자기조립물질을 이용한 그라핀 나노구조체의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015113977
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자기조립물질을 이용한 그라핀 나노구조체의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기판상에 그라핀 박막 또는 그라핀 옥사이드 박막을 형성한 후, 자기조립물의 자기조립 나노구조를 마스크로 이용하여 상기 그라핀 박막 또는 그라핀 옥사이드 박막을 식각하여 그라핀 나노구조체를 제조하는 것을 특징으로 하는, 자기조립물질을 이용한 리소그라피에 의한 그라핀 나노구조체의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 그라핀 구조의 나노미터 수준 조절을 통해 밴드갭(Band Gap)의 열림 정도를 조절할 수 있고, 이는 그라핀의 전기적 성질은 자유롭게 조절할 수 있게 하며, 이를 통해 탄소 소재의 디바이스 제조에 있어 효율적인 방법을 제시할 수 있다. 또한, 본 발명에서 제시하는 방법은 병렬적 제조가 가능한 방법으로, 블록공중합체 등을 포함하는 자기 조립 물질을 이용하기 때문에 대량 생산이 용이한 효과가 있다.
Int. CL B82B 1/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01)
출원번호/일자 1020100001720 (2010.01.08)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1630390-0000 (2016.06.08)
공개번호/일자 10-2011-0081519 (2011.07.14) 문서열기
공고번호/일자 (20160616) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.11.21)
심사청구항수 37

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상욱 대한민국 대전광역시 유성구
2 김주영 대한민국 대전광역시 유성구
3 최성율 대한민국 대전광역시 유성구
4 김지은 대한민국 대전광역시 유성구
5 정성준 대한민국 울산광역시 남구
6 한태희 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이처영 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0012501-26
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2014.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-1127260-53
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.08.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.10.13 수리 (Accepted) 9-1-2015-0066557-18
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0725390-08
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-1202997-11
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.12.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-1203001-41
12 등록결정서
Decision to grant		 2016.04.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0296352-66
13 [일부 청구항 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment)		 2016.06.08 수리 (Accepted) 2-1-2016-0359739-75
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음의 단계를 포함하는, 자기조립물질을 이용한 그라핀 나노구조체의 제조방법:(a) 기판상에 그라핀 박막을 형성하는 단계;(b) 상기 그라핀 박막상에 자기조립물질 박막을 형성하는 단계;(c) 상기 자기조립물질 박막을 열처리 또는 용매 어닐링(Solvent Annealing)하여 자기조립 나노구조를 형성하는 단계; 및(d) 상기 (c) 단계에서 형성된 자기조립 나노구조를 마스크로 이용하여 상기 그라핀 박막을 식각함으로써, 그라핀 나노구조체를 제조하는 단계,용매 어닐링(Solvent Annealing)은 자기조립물질을 녹이는 대기 용매의 종류와 습도에 따라 자기 조립 나노구조의 모양이 결정됨
2 2
청구항 2은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
3 3
제1항에 있어서, 상기 자기조립물질은 블록공중합체, 펩타이드(Peptide), 바이러스(Virus) 또는 단백질(Protein)을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 블록공중합체는 폴리스틸렌(Polystyrene)과 폴리스틸렌 이외의 고분자가 공유결합한 형태의 블록공중합체인 것을 특징으로 하는 방법
5 5
청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
6 6
제4항에 있어서, 상기 블록공중합체의 폴리스틸렌:폴리스틸렌 이 외의 고분자의 조성비가 0
7 7
제4항에 있어서, 상기 블록공중합체의 폴리스틸렌:폴리스틸렌 이 외의 고분자의 조성비가 0
8 8
제4항에 있어서, 상기 블록공중합체의 폴리스틸렌:폴리스틸렌 이 외의 고분자의 조성비가 0
9 9
제4항에 있어서, 상기 블록공중합체의 폴리스틸렌:폴리스틸렌 이 외의 고분자의 조성비가 0
10 10
청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
11 11
제1항에 있어서, 상기 열처리는 200~300℃에서 40~60시간 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
12 12
삭제
13 13
청구항 13은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
14 14
제1항에 있어서, 상기 (d) 단계의 식각 이후에 자기조립 나노구조를 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
15 15
다음의 단계를 포함하는, 자기조립물질을 이용한 그라핀 나노구조체의 제조방법:(a) 기판상에 그라핀 옥사이드 박막을 형성하는 단계;(b) 상기 그라핀 옥사이드 박막 상에 중성층을 형성하는 단계;(c) 상기 중성층상에 자기조립물질 박막을 형성하는 단계;(d) 상기 자기조립물질 박막을 열처리 또는 용매 어닐링하여 자기조립 나노구조를 형성하는 단계;(e) 상기 (d) 단계에서 형성된 자기조립 나노구조를 마스크로 이용하여 상기 그라핀 옥사이드 박막을 식각함으로써, 그라핀 옥사이드 나노구조체를 제조하는 단계; 및(f) 상기 그라핀 옥사이드 나노구조체를 환원시켜 그라핀 나노구조체를 제조하는 단계
16 16
제15항에 있어서, 상기 (a) 단계의 그라핀 옥사이드 박막은 스핀코팅, 스프레이 및 여과로 구성된 군에서 선택되는 화학적 방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 방법
17 17
제15항에 있어서, 상기 중성층은 유기단분자층 박막 또는 식각을 이용하여 형성된 중성층인 것을 특징으로 하는 방법
18 18
제17항에 있어서, 상기 유기단분자층은 자기 조립 단분자층(Self-assembled Monolayer: SAM), 폴리머 브러쉬(Polymer Brush) 및 MAT(Cross-linked randomcopolymer mat)로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
19 19
제18항에 있어서, 상기 자기 조립 단분자층은 펜틸트리클로로실란(Phenethyltrichlorosilane: PETCS), 페닐트리클로로실란(Phenyltrichlorosilane: PTCS), 벤질트리클로로실란(Benzyltrichlorosilane:BZTCS), 톨릴트리클로로실란(Tolyltrichlorosilane:TTCS),2-[(트리메톡시실일)에틸]-2-피리딘(2-[(trimethoxysilyl)ethyl]-2-pyridine: PYRTMS)), 4-바이페닐일트리메톡시실란(4-biphenylyltrimethoxysilane:BPTMS), 옥타데실트리클로로실란(Octadecyltrichlorosilane:OTS), 1-나프틸트리메톡시실란(1-Naphthyltrimehtoxysilane: NAPTMS), 1-[(트리메톡시실일)메틸]나프탈렌(1-[(trimethoxysilyl)methyl]naphthalene: MNATMS) 및 (9-메틸안트라세닐)트리메톡시실란 (9-methylanthracenyl)trimethoxysilane: MANTMS)으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
20 20
제18항에 있어서, 상기 폴리머 브러쉬는 PS-random-PMMA인 것을 특징으로 하는 방법
21 21
제18항에 있어서, 상기 MAT(Cross-linked randomcopolymer mat)는 BCB-functionalized polystyrene-r-poly(methylmethacrylate) copolymer [P(S-r-BCB-r-MMA)]인 것을 특징으로 하는 방법
22 22
제15항에 있어서, 상기 자기조립물질은 블록공중합체, 펩타이드(Peptide), 바이러스(Virus) 또는 단백질(Protein)을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
23 23
제22항에 있어서, 상기 블록공중합체는 폴리스틸렌(Polystyrene)과 폴리스틸렌 이외의 고분자가 공유결합한 형태의 블록공중합체인 것을 특징으로 하는 방법
24 24
청구항 24은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
25 25
제23항에 있어서, 상기 블록공중합체의 폴리스틸렌:폴리스틸렌 이 외의 고분자의 조성비는 0
26 26
제23항에 있어서, 상기 블록공중합체의 폴리스틸렌:폴리스틸렌 이 외의 고분자의 조성비는 0
27 27
제23항에 있어서, 상기 블록공중합체의 폴리스틸렌:폴리스틸렌 이 외의 고분자의 조성비는 0
28 28
제23항에 있어서, 상기 블록공중합체의 폴리스틸렌:폴리스틸렌 이 외의 고분자의 조성비는 0
29 29
청구항 29은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
30 30
제15항에 있어서, 상기 열처리는 200~300℃에서 40~60시간 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
31 31
제15항에 있어서, 상기 용매 어닐링(Solvent Annealing)은 자기조립물질을 녹이는 대기 용매의 종류와 습도에 따라 자기 조립 나노구조의 모양이 결정되는 것을 특징으로 하는 방법
32 32
청구항 32은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
33 33
청구항 33은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
34 34
제15항에 있어서, 상기 (d) 단계의 식각 이후에 자기조립 나노구조를 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
35 35
청구항 35은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
36 36
청구항 36은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
37 37
청구항 37은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
38 38
청구항 38은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.