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기재를 준비하는 준비단계, 그리고상기 기재에, 증착압력을 300 mTorr 이상, 500 mTorr 미만으로 하는 플라즈마 증착을 이용하여 나노클러스터들이 서로 연결되어 네트워크를 형성한 나노 다공성 물질을 제조하는 제조단계를 포함하는, 나노 다공성 물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 증착은 - 500 V 내지 - 1000 V의 전압의 범위로 이루어지는 것인, 나노 다공성 물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 증착은, 유입가스로 탄화수소계 기체를 포함하여 적용하는 것인, 나노 다공성 물질의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 탄화수소계 기체는 아세틸렌(C2H2), 메탄(CH4), 벤젠(C6H6), 헥사메틸디실록산(C6H18OSi2) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 나노 다공성 물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노 다공성 물질은, 상기 물질의 표면 및 내부에 기공을 포함하는 것인, 나노 다공성 물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노 다공성 물질은 상기 물질의 내부에 포함되는 기공의 지름이 10 내지 70 nm이고, 상기 물질에 포함되는 나노클러스터들의 직경이 10 내지 50 nm인 것인, 나노 다공성 물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노 다공성 물질은 그 두께가 0
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제3항에 있어서,상기 유입가스는 사불화탄소(CF4), 아르곤(Ar), 질소(N2), 실레인(SiH4) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 기능성가스를 더 포함하는 것인, 나노 다공성 물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기재는, 세라믹, 금속, 플라스틱을 포함하는 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 나노 다공성 물질의 제조방법
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나노클러스터들이 서로 연결되어 네트워크를 형성한 것인, 나노 다공성 물질로서, 상기 물질의 내부에 포함되는 기공의 지름이 10 내지 70 nm이고, 상기 물질을 구성하는 나노클러스터들의 직경이 10 내지 50 nm인 것인, 나노 다공성 물질
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제10항에 있어서,상기 나노 다공성 물질은, 상기 물질의 표면 및 내부에 기공을 포함하는 것인, 나노 다공성 물질
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삭제
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제10항에 있어서,상기 나노 다공성 물질은 그 두께가 0
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제1항에 따른 나노 다공성 물질의 제조방법을 포함하는 필터의 제조방법
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제1항에 따른 나노 다공성 물질의 제조방법을 포함하는 초소수성 표면의 제조방법
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