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기판, 상기 기판 상에 형성된 레지스트 층, 및 상기 레지스트 층 상에 형성된 포커싱 층을 포함하는 적층 구조물을 형성하는 제1 단계;상기 적층 구조물의 포커싱 층 상에 임의의 특정 방향에 대하여 일정한 산란각도로 분산된 빛을 조사하여, 상기 레지스트 층에 기공을 형성하는 제2 단계; 및상기 기공이 형성된 레지스트 층 상에 증착 물질을 증착하여, 상기 기판 상에 이방성 나노 구조체를 형성하는 제3 단계를 포함하고,상기 제2 단계에서 상기 레지스트 층과 상기 포커싱 층 사이의 계면에서 상기 기공의 모양은 이방성 구조를 가지고,상기 분산된 빛의 산란각도를 조절하여 상기 나노 구조체의 이방성을 조절하는 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 포커싱 층은 빛을 포커싱하는 비드의 배열인 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 비드의 배열은 자기 조립의 방법으로 형성되는 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 포커싱 층은 빛을 포커싱하는 비드를 포함하는 필름인 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 포커싱 층은 빛을 포커싱하는 렌즈의 배열인 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 렌즈의 배열은 렌즈 어레이부 및 그 하부의 플레이트부를 포함하는 구조인 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제2항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비드 또는 렌즈의 형상을 물리적, 화학적, 열적 처리에 의하여 변형시킴으로써 상기 나노 구조체의 이방성을 조절하는 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 임의의 특정 방향에 대하여 일정한 각도로 분산된 빛은 디퓨져(diffuser)에 의하여 형성된 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 이방성 구조는 타원형 구조 또는 막대 구조를 포함하는 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 증착 물질은 금속, 반도체 또는 절연성 물질인 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 레지스트 층은, 상기 기판 상에 형성된 언더컷 형성층, 및 상기 언더컷 형성층 상에 형성된 레지스트 재료층을 포함하고,상기 제2 단계는, 상기 레지스트 재료층에 관통 기공을 형성하는 단계 및 상기 관통 기공 하부의 언더컷 형성층에 언더컷 구조를 형성하는 단계를 포함하는 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 레지스트 층은 포커싱 층을 통과한 빛에너지의 열에 의해 상전이를 일으키는 물질을 포함하는 나노 구조체 어레이의 제조방법
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제1항 내지 제6항, 제8항 내지 제12항 중 어느 한 항의 제조방법에 의해 제조된 나노 구조체 어레이를 포함하는 소자
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제7항의 제조방법에 의해 제조된 나노 구조체 어레이를 포함하는 소자
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