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용매 및 탄소나노튜브들을 포함하는 분산용액을 준비하는 제1단계; 상기 분산용액을 이용하여 기재상에 액적(droplet)을 형성하는 제2단계; 두 개의 전극을 이용하여 전기장을 인가함으로써, 상기 액적 내에서 탄소나노튜브들을 다발의 형태(rope-type)로 배열시키는 제3단계; 그리고,상기 액적에 포함되어 있는 분산용액의 용매를 증발시켜 다발 형태의 탄소나노튜브들을 포함하는 미세배선을 형성하는 제4단계;를 포함하고,상기 미세배선은 상기 두 개의 전극의 형태에 따라 배선의 형태 및 선폭이 제어되는 것이고,상기 미세배선의 높이 대 선폭의 비율은 0
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제1항에 있어서, 상기 제3단계에서 전기장은 0
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제1항에 있어서, 상기 탄소나노튜브들은 다중벽 탄소나노튜브, 단일벽 탄소나토튜브, 코팅된 다중벽 탄소나노튜브, 코팅된 단일벽 탄소나노튜브 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 미세배선의 형성방법
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제3항에 있어서,상기 코팅된 다중벽 탄소나노튜브 또는 코팅된 단일벽 탄소나노튜브는 전도성 고분자 재료, 전도성 금속 재료 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 전도성 재료로 다중벽 탄소나노튜브 또는 단일벽 탄소나노튜브가 코팅된 것인, 미세배선의 형성방법
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제4항에 있어서,상기 전도성 고분자 재료는 폴리아닐린(polyaniline), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리티오펜(polythiophene), 폴리아세틸렌(polyacethylene), 폴리설퍼니트라이드(poly sulfur nitride) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것이고, 상기 전도성 금속 재료는 금, 은, 구리, 철, 알루미늄, 텅스텐 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 미세배선의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 용매는, 탈이온수, 에탄올, 메탄올, 실리콘오일, 벤젠, 벤젠화합물에 기능기가 결합된 화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나이며, 상기 기능기는 할로겐기, 아민기, 에테르기, 알코올기, 알데하이드기, 카르복실기, 알킬기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 미세배선의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 분산용액은 상기 탄소나노튜브들을 0
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제1항에 있어서,상기 제2단계에서 액적은 잉크젯 프린팅, 잉크 프롯터(plotter), 주사기 및 모세관을 이용하여 형성되는 것인, 미세배선의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 기재는 유리, 실리콘웨이퍼, 폴리이미드, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리스티렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리에테르설폰, 폴리노보넨, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 아릴라이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 재료로 이루어진 표면을 포함하는 것, 미세배선의 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 두 개의 전극은 막대형 전극, 바늘형 전극 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 것인, 미세배선의 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 제4단계에서 용매의 증발은, 자연증발, 열을 이용한 증발, 진공 증발 및 이들의 조합에 의하여 이루어지는 것인, 미세배선의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 미세배선은 상기 기재와 수평으로 형성되는 것인, 미세배선의 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 미세배선은 선폭이 100 ㎛ 이하인 것인, 미세배선의 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 제3단계의 전기장의 인가 및 탄소나노튜브들의 다발 형태로의 배열은 5초 이내에 이루어지는 것인, 미세배선의 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 기재는 유연기판(flexible substrate)인 것인, 미세배선의 형성방법
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기재; 및상기 기재 상에 위치하며, 전기장에 의하여 배열된 다발 형태의 탄소나노튜브들을 포함하는 미세배선;을 포함하고,상기 미세배선의 높이 대 선폭의 비율은 0
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제16항에 있어서, 상기 미세배선은 선폭이 100 ㎛ 이하이고, 길이 방향이 기재와 수평인 것인, 미세배선기판
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제16항에 있어서, 상기 탄소나노튜브는, 다중벽 탄소나노튜브, 단일벽 탄소나토튜브, 코팅된 다중벽 탄소나노튜브, 코팅된 단일벽 탄소나노튜브 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것이고, 상기 코팅된 다중벽 탄소나노튜브 또는 코팅된 단일벽 탄소나노튜브는 전도성 고분자 재료, 전도성 금속 재료 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 전도성 재료로 다중벽 탄소나노튜브 또는 단일벽 탄소나노튜브가 코팅된 것인, 미세배선기판
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제16항에 있어서, 상기 기재는 유연기판(flexible substrate)인 것인, 미세배선기판
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