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구리나노선의 제조방법, 이에 의해 제조된 구리나노선, 잉크 조성물 및 투명전도막의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015122619
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 구리나노선의 제조방법, 이에 의해 제조된 구리나노선, 잉크 조성물 및 투명전도막의 제조방법이 제공된다. 본 발명에 따른 구리나노선의 제조방법은 증류수에 염화제이구리, 환원제 및 구리 캡핑제를 첨가하여 혼합 용액을 제조하는 단계; 상기 혼합 용액을 상압 또는 고압 반응기에 넣고 80℃ 내지 120℃ 에서 6시간 내지 24시간 반응시켜 구리나노선이 형성된 반응용액을 제조하는 단계; 및 상기 반응용액을 냉각 및 정제하여 구리나노선을 얻는 단계를 포함한다. 염화제이구리 및 증류수를 사용하므로 제조공정이 간단하고 저렴한 제조비용으로 구리나노선을 제조할 수 있고, 이에 의해 효율이 향상된 투명전도막을 제조할 수 있다.
Int. CL C09D 11/52 (2014.01) B82B 3/00 (2006.01) H01B 5/14 (2006.01) B22F 9/24 (2006.01)
CPC B22F 9/24(2013.01) B22F 9/24(2013.01) B22F 9/24(2013.01) B22F 9/24(2013.01) B22F 9/24(2013.01) B22F 9/24(2013.01) B22F 9/24(2013.01) B22F 9/24(2013.01)
출원번호/일자 1020130141315 (2013.11.20)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1516953-0000 (2015.04.27)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150504) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.11.20)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오영제 대한민국 서울특별시 영등포구
2 왕병용 대한민국 서울특별시 양천구
3 올렉시 오히엔코 우크라이나 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.11.20 수리 (Accepted) 1-1-2013-1055667-75
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.09.03 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.10.14 수리 (Accepted) 9-1-2014-0082294-35
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.12.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0881967-11
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.02.17 수리 (Accepted) 1-1-2015-0167269-01
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.03.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0280492-49
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-0280482-93
9 등록결정서
Decision to grant
2015.04.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0273718-55
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번호 청구항
1 1
(a) 증류수에 염화제이구리, 프룩토오스, 포타슘 브로마이드 및 헥사데실아민을 첨가하여 혼합 용액을 제조하는 단계; (b) 상기 혼합 용액을 상압 또는 고압 반응기에 넣고 100℃ 내지 125℃ 에서 6시간 내지 24시간 반응시켜 구리나노선이 형성된 반응용액을 제조하는 단계; 및(c) 상기 반응용액을 냉각 및 정제하여 구리나노선을 얻는 단계를 포함하는 구리나노선의 제조방법으로서;상기 혼합 용액 전체 중량을 기준으로 상기 염화제이구리의 함량은 0
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 (a)단계의 혼합 용액이 계면 활성제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 구리나노선의 제조방법
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제 2 항에 있어서, 상기 계면활성제는 에톡실레이트, 알콕실레이트, 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드, 이들의 공중합체 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 구리나노선 제조방법
6 6
제 2 항에 있어서, 상기 계면활성제는 설포네이트, 설페이트, 디설포네이트 염, 설포숙시네이트, 포스페이트 에스테르 및 플루오르 계면활성제 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 구리나노선 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 고압 반응기의 압력범위가 1bar 내지 20bar인 것을 특징으로 하는 구리나노선 제조방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 (c)단계는(a)′상기 나노 구리선을 용매에 분산시켜 혼합 용액을 제조하는 단계;(b)′상기 혼합 용액의 상청액을 분리하여 증류수로 재희석하는 단계;및(c)′상기 (a)′,(b)′를 반복하여 정제하는 단계를 포함하고,상기 용매는 증류수, 메탄올, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 2-펜타논 및 3-펜타논 중에서 선택된 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 구리나노선 제조방법
9 9
제 1 항, 제 2 항, 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따라 제조된 구리나노선
10 10
제 9 항에서 있어서, 상기 구리 나노선의 직경은 30㎚ 내지 60㎚이고 길이는 30㎛ 내지 50㎛이며 종횡비는 500 내지 2,000인 것을 특징으로 하는 구리나노선
11 11
제 1 항, 제 2 항, 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따라 제조된 구리나노선, 용매, 계면활성제를 포함하는 잉크 조성물
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 용매는 증류수, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 3가 부탄올, 3가 아밀 알콜, 메틸글리콜, 부톡시 에탄올, 메톡시프로판올, 메톡시프로폭시프로판올, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜의 수용성 올리고머, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜의 수용성 올리고머, 글리세롤, 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 프로필렌글리콜 디메틸에테르, 글리세롤 에테르, 아세톤, 메틸에틸케톤, 디옥산 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 잉크 조성물
13 13
제 11 항에 있어서, 상기 계면활성제는 에톡실레이트, 알콕실레이트, 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드, 이들의 공중합체 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 잉크 조성물
14 14
제 11 항에 있어서, 상기 계면활성제는 설포네이트, 설페이트, 디설포네이트 염, 설포숙시네이트, 포스페이트 에스테르 및 플루오르 계면활성제 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 잉크 조성물
15 15
제 11 항에 있어서, 상기 잉크 조성물은 잉크 조성물 100 중량부를 기준으로 구리나노선이 0
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(a)″제 11 항의 잉크 조성물을 기판에 코팅하여 투명전도막을 형성하는 단계; 및(b)″상기 투명전도막을 열소성 또는 광소성하는 단계를 포함하는 투명전도막의 제조방법
17 17
제 16 항에 있어서, 상기 (a)″단계의 코팅 공정은 스핀 코팅, 딥 코팅, 스프레이 코팅, 롤투롤 코팅, 그라비아 공정, 슬롯다이(slot die) 공정, 잉크젯 공정, 스크린 공정, 그라비아 공정, 플렉소그래피(flexography) 공정, 옵셋 공정, 그라비아 옵셋 공정, 리버스 그라비아 옵셋 공정, 임플린트 공정 및 바 코팅 방법 중에서 선택된 어느 하나의 방법인 것을 특징으로 하는 투명전도막의 제조방법
18 18
제 16항에 있어서, 상기 광소성은 백색광 단펄스를 이용하고, 상기 백색광 단펄스는 1ms 내지 10ms의 펄스 지속 시간, 1ms 내지 50 ms의 펄스 휴지 시간, 1개 내지 100개의 펄스 수 및 1J/㎠ 내지 80J/㎠의 펄스 에너지를 이용하는 것을 특징으로 하는 투명전도막의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국과학기술연구원 첨단융합기술개발 차세대 비실리콘계 태양전지용 투명 전도막 신소재 및 합성기술 개발