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(a) 증류수에 염화제이구리, 프룩토오스, 포타슘 브로마이드 및 헥사데실아민을 첨가하여 혼합 용액을 제조하는 단계; (b) 상기 혼합 용액을 상압 또는 고압 반응기에 넣고 100℃ 내지 125℃ 에서 6시간 내지 24시간 반응시켜 구리나노선이 형성된 반응용액을 제조하는 단계; 및(c) 상기 반응용액을 냉각 및 정제하여 구리나노선을 얻는 단계를 포함하는 구리나노선의 제조방법으로서;상기 혼합 용액 전체 중량을 기준으로 상기 염화제이구리의 함량은 0
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제 1 항에 있어서, 상기 (a)단계의 혼합 용액이 계면 활성제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 구리나노선의 제조방법
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제 2 항에 있어서, 상기 계면활성제는 에톡실레이트, 알콕실레이트, 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드, 이들의 공중합체 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 구리나노선 제조방법
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제 2 항에 있어서, 상기 계면활성제는 설포네이트, 설페이트, 디설포네이트 염, 설포숙시네이트, 포스페이트 에스테르 및 플루오르 계면활성제 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 구리나노선 제조방법
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7
제 1 항에 있어서, 상기 고압 반응기의 압력범위가 1bar 내지 20bar인 것을 특징으로 하는 구리나노선 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 (c)단계는(a)′상기 나노 구리선을 용매에 분산시켜 혼합 용액을 제조하는 단계;(b)′상기 혼합 용액의 상청액을 분리하여 증류수로 재희석하는 단계;및(c)′상기 (a)′,(b)′를 반복하여 정제하는 단계를 포함하고,상기 용매는 증류수, 메탄올, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 2-펜타논 및 3-펜타논 중에서 선택된 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 구리나노선 제조방법
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제 1 항, 제 2 항, 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따라 제조된 구리나노선
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제 9 항에서 있어서, 상기 구리 나노선의 직경은 30㎚ 내지 60㎚이고 길이는 30㎛ 내지 50㎛이며 종횡비는 500 내지 2,000인 것을 특징으로 하는 구리나노선
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제 1 항, 제 2 항, 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따라 제조된 구리나노선, 용매, 계면활성제를 포함하는 잉크 조성물
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제 11 항에 있어서, 상기 용매는 증류수, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 3가 부탄올, 3가 아밀 알콜, 메틸글리콜, 부톡시 에탄올, 메톡시프로판올, 메톡시프로폭시프로판올, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜의 수용성 올리고머, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜의 수용성 올리고머, 글리세롤, 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 프로필렌글리콜 디메틸에테르, 글리세롤 에테르, 아세톤, 메틸에틸케톤, 디옥산 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 잉크 조성물
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제 11 항에 있어서, 상기 계면활성제는 에톡실레이트, 알콕실레이트, 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드, 이들의 공중합체 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 잉크 조성물
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제 11 항에 있어서, 상기 계면활성제는 설포네이트, 설페이트, 디설포네이트 염, 설포숙시네이트, 포스페이트 에스테르 및 플루오르 계면활성제 및 이들의 조합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 잉크 조성물
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제 11 항에 있어서, 상기 잉크 조성물은 잉크 조성물 100 중량부를 기준으로 구리나노선이 0
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(a)″제 11 항의 잉크 조성물을 기판에 코팅하여 투명전도막을 형성하는 단계; 및(b)″상기 투명전도막을 열소성 또는 광소성하는 단계를 포함하는 투명전도막의 제조방법
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제 16 항에 있어서, 상기 (a)″단계의 코팅 공정은 스핀 코팅, 딥 코팅, 스프레이 코팅, 롤투롤 코팅, 그라비아 공정, 슬롯다이(slot die) 공정, 잉크젯 공정, 스크린 공정, 그라비아 공정, 플렉소그래피(flexography) 공정, 옵셋 공정, 그라비아 옵셋 공정, 리버스 그라비아 옵셋 공정, 임플린트 공정 및 바 코팅 방법 중에서 선택된 어느 하나의 방법인 것을 특징으로 하는 투명전도막의 제조방법
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제 16항에 있어서, 상기 광소성은 백색광 단펄스를 이용하고, 상기 백색광 단펄스는 1ms 내지 10ms의 펄스 지속 시간, 1ms 내지 50 ms의 펄스 휴지 시간, 1개 내지 100개의 펄스 수 및 1J/㎠ 내지 80J/㎠의 펄스 에너지를 이용하는 것을 특징으로 하는 투명전도막의 제조방법
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