맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

나노 실린더형 템플레이트 및 나노 점 어레이 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015131454
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노 실린더형 템플레이트 및 나노 점 어레이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 (a) 스티렌-메타크릴산메틸(PS-b-PMMA) 블록 공중합체 및 상기 블록 공중합체에 대해 미리 설정된 부피퍼센트를 갖는 PEO 코팅된 금 나노 입자 용액을 기판에 스핀 코팅하여 박막 시료를 제공하는 단계; (b) 외부 챔버는 미리 설정된 습도 조건을 형성하고, 상기 외부 챔버 내부에 위치한 내부 챔버는 포화 벤젠 증기 조건을 형성하여 용매 어닐링한 후, 상기 내부 챔버를 제거함으로써 상기 박막 시료 상에서 벤젠 용매의 증발이 일어나도록 하여 상기 기판 상의 실린더형 PMMA 도메인을 수직 배향하는 단계; 및 (c) 상기 수직 배향된 PMMA 도메인을 선택적으로 제거하여 다공성 나노 템플레이트를 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따르면 친수성 나노 입자의 도입에 의해 블록 공중합체를 이용한 나노 패턴이 손쉽게 형성될 수 있도록 한다. 블록 공중합체, PEO, 나노 입자, 금, 실린더형, 패턴, 템플레이트
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01)
출원번호/일자 1020080007445 (2008.01.24)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1033806-0000 (2011.05.02)
공개번호/일자 10-2009-0081532 (2009.07.29) 문서열기
공고번호/일자 (20110513) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.24)
심사청구항수 12

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박성찬 대한민국 서울 동대문구
2 방준하 대한민국 서울 성북구
3 하정숙 대한민국 서울 노원구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 최관락 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 ** (역삼동) 동림빌딩 *층(아이피즈국제특허법률사무소)
2 민영준 대한민국 서울특별시 강남구 남부순환로 ****, *층(도곡동, 차우빌딩)(맥스국제특허법률사무소)
3 송인호 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 ** (역삼동) 동림빌딩 *층(아이피즈국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.01.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0059653-33
2 보정요구서
Request for Amendment		 2008.02.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0017464-20
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2008.02.14 수리 (Accepted) 1-1-2008-0110755-23
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.03.05 수리 (Accepted) 4-1-2008-5034712-96
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.06.09 수리 (Accepted) 4-1-2009-5111177-32
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0496026-91
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2010.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2010-0063063-14
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0125461-15
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.02.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0125467-88
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2010.07.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0315798-88
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.09.07 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2010-0581466-16
13 등록결정서
Decision to grant		 2011.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0058626-72
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 스티렌-메타크릴산메틸(PS-b-PMMA) 블록 공중합체 및 상기 블록 공중합체에 대해 미리 설정된 부피퍼센트를 갖는 PEO 코팅된 금 나노 입자 용액을 기판에 스핀 코팅하여 박막 시료를 제공하는 단계; (b) 외부 챔버는 미리 설정된 습도 조건을 형성하고, 상기 외부 챔버 내부에 위치한 내부 챔버는 포화 벤젠 증기 조건을 형성하여 용매 어닐링한 후, 상기 내부 챔버를 제거함으로써 상기 박막 시료 상에서 벤젠 용매의 증발이 일어나도록 하여 상기 기판 상의 실린더형 PMMA 도메인을 수직 배향하는 단계; 및 (c) 상기 수직 배향된 PMMA 도메인을 선택적으로 제거하여 다공성 나노 템플레이트를 형성하는 단계를 포함하는 나노 실린더형 템플레이트 제조 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 PEO 코팅된 금 나노 입자는 상기 PS-b-PMMA 블록 공중합체 대비 1
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 습도 조건은 상대 습도 70 내지 90% 범위 내인 나노 실린더형 템플레이트 제조 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 PEO 코팅된 금 나노 입자는 친수성 특성을 갖는 나노 실린더형 템플레이트 제조 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 용매 어닐링 중에 응축되는 수증기는 상기 PMMA 도메인 내 친수성 PEO 코팅된 금 나노 입자와 상호 작용을 하는 나노 실린더형 템플레이트 제조 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 (c) 단계는, UV를 조사하여 상기 PMMA 도메인을 제거하는 단계; 및 상기 기판을 아세트산 및 물을 이용하여 세척하는 단계를 포함하되, 상기 PEO 코팅된 금 나노 입자는 상기 물에 의해 용해되어 제거되는 나노 실린더형 템플레이트 제조 방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 부피 퍼센트는 상기 수직 배향된 PMMA 도메인의 기공 사이즈를 균일하게 하는 범위 내에서 결정되는 나노 실린더형 템플레이트 제조 방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 템플레이트는 육방밀집구조의 기공을 갖는 나노 실린더형 템플레이트 제조 방법
10 10
(a) 스티렌-메타크릴산메틸(PS-b-PMMA) 블록 공중합체 및 상기 블록 공중합체에 대해 미리 설정된 부피퍼센트를 갖는 PEO 코팅된 금 나노 입자 용액을 기판에 스핀 코팅하여 고분자 박막 시료를 제공하는 단계; (b) 외부 챔버는 미리 설정된 습도 조건을 형성하고, 상기 외부 챔버 내부에 위치한 내부 챔버는 포화 벤젠 증기 조건을 형성하여 용매 어닐링한 후, 상기 내부 챔버를 제거함으로써 상기 박막 시료 표면 상에서 벤젠 용매의 증발이 일어나도록 하여 상기 기판 상의 실린더형 PMMA 도메인을 수직 배향하는 단계; 및 (c) 상기 기판을 산소 플라즈마 분위기 하에서 반응성 이온 식각하여 상기 기판 상의 고분자를 제거하는 단계를 포함하는 나노 점 어레이 제조 방법
11 11
제10항에 있어서, 상기 (c) 단계 후 상기 기판을 진공 어닐링 하는 단계를 더 포함하는 나노 점 어레이 제조 방법
12 12
나노 패턴을 제조하는 방법으로서, 스티렌-메타크릴산메틸(PS-b-PMMA) 블록 공중합체 및 친수성 PEO 코팅된 금 나노 입자를 이용하여 기판 상에 PMMA 도메인을 수직 배향하는 단계를 포함하되, 상기 수직 배향 단계는 외부 챔버가 미리 설정된 습도 조건 하에 있도록 하고, 상기 외부 챔버 내부에 위치한 내부 챔버가 포화 벤젠 증기 조건 하에 있도록 하면서 용매 어닐링한 후, 상기 내부 챔버를 제거함으로써 박막 시료 표면상에서 벤젠 용매의 증발이 일어나도록 하는 과정을 통해 수행되며, 상기 수직 배향된 PMMA 도메인은 나노 실린더형 템플레이트 및 나노 점 어레이 중 적어도 하나에 적용되는 나노 패턴 제조 방법
13 13
제12항에 있어서, 상기 친수성 PEO 코팅된 금 나노 입자는 상기 PMMA 도메인의 기공이 균일하도록 상기 블록 공중합체에 대해 미리 설정된 범위 내의 부피 퍼센트를 갖는 나노 패턴 제조 방법
14 14
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.