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기판 위에 제1 블록 공중합체를 포함하는 제1 박막을 형성하는 단계,상기 제1 박막 위에 가이드 패턴을 형성하는 단계,상기 가이드 패턴 사이에 제2 블록 공중합체를 포함하는 제2 박막을 형성하는 단계 그리고상기 제2 박막을 경화시키는 단계를 포함하고,상기 제1 블록 공중합체는 실린더형이고 복수의 제1 실린더 블록을 형성하고, 상기 제2 블록 공중합체는 판상형(lamella)이며,상기 제1 실린더 블록은 상기 기판 표면과 수직한 방향으로 연장되는 나노 구조체의 제조 방법
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제1항에서,상기 제2 박막을 경화시키는 단계 이후에 상기 제2 박막은 제1 희생 블록 및 제2 희생 블록을 포함하는 희생 구조체로 변환되는 나노 구조체의 제조 방법
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제2항에서,상기 가이드 패턴은 포토 레지스트로 형성하는 나노 구조체의 제조 방법
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제3항에서,상기 제1 블록 공중합체는 가교 결합 물질을 포함하는 나노 구조체의 제조 방법
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제4항에서,상기 가교 결합 물질은 케텐(ketene), 아지드(Azide) 또는 벤조사이클로부텐(BCB) 중 하나를 포함하는 나노 구조체의 제조 방법
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제4항에서,상기 제2 블록 공중합체는 PS-b-PMMA(polystyrene-block-polymethylmethacrylate), PS-b-PEO(polystyrene-block-polyethyleneoxide), PS-b-PVP(polystyrene-block-poly-2-vinylpyridine), PS-b-PDMS(polystyrene-block-polydimethylsiloxane), PS-b-PFS(polystyrene-block-polyferrocenyldimethylsilane), 또는 PS-b-PI(polystyrene-block-polyisoprene)인 나노 구조체의 제조 방법
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제4항에서,상기 제1 박막을 자외선 처리 또는 열처리하는 단계를 더 포함하는 나노 구조체의 제조 방법
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제1항에서,상기 기판과 상기 제1 박막 사이에 중간층을 형성하는 단계를 더 포함하는 나노 구조체의 제조 방법
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제1항에서,상기 실린더형의 제1 블록 공중합체는 헥사고널 타입의 단위체를 형성하는 나노 구조체의 제조 방법
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모패턴층이 형성된 기판 위에 제1 블록 공중합체를 포함하는 제1 박막을 형성하는 단계,상기 제1 박막 위에 가이드 패턴을 형성하는 단계,상기 가이드 패턴 사이에 제2 블록 공중합체를 포함하는 제2 박막을 형성하는 단계,상기 제2 박막을 경화시켜 제1 희생 블록 및 제2 희생 블록을 포함하는 희생 구조체를 형성하는 단계,상기 희생 구조체로부터 상기 제1 희생 블록을 제거하는 단계 그리고상기 제2 희생 블록을 마스크로 하여 상기 제1 박막 및 상기 모패턴층을 패터닝하는 단계를 포함하고,상기 제1 블록 공중합체는 실린더형이고 복수의 제1 실린더 블록을 형성하고, 상기 제2 블록 공중합체는 판상형(lamella)이며,상기 제1 실린더 블록은 상기 기판 표면과 수직한 방향으로 연장되는 패턴 형성 방법
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제10항에서,상기 가이드 패턴은 포토 레지스트로 형성하는 패턴 형성 방법
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제11항에서,상기 가이드 패턴은 제1 방향을 따라 길게 뻗은 포토 레지스트 패턴부를 포함하고, 상기 포토 레지스트 패턴부는 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 반복적으로 배열되도록 형성하는 패턴 형성 방법
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제12항에서,상기 제1 블록 공중합체는 가교 결합 물질을 포함하는 패턴 형성 방법
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제13항에서,상기 가교 결합 물질은 케텐(ketene), 아지드(Azide) 또는 벤조사이클로부텐(BCB) 중 하나를 포함하는 패턴 형성 방법
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제13항에서,상기 제2 블록 공중합체는 PS-b-PMMA(polystyrene-block-polymethylmethacrylate), PS-b-PEO(polystyrene-block-polyethyleneoxide), PS-b-PVP(polystyrene-block-poly-2-vinylpyridine), PS-b-PDMS(polystyrene-block-polydimethylsiloxane), PS-b-PFS(polystyrene-block-polyferrocenyldimethylsilane), 또는 PS-b-PI(polystyrene-block-polyisoprene)인 패턴 형성 방법
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제13항에서,상기 제1 박막을 자외선 처리 또는 열처리하는 단계를 더 포함하는 패턴 형성 방법
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제10항에서,상기 모패턴층과 상기 제1 박막 사이에 중간층을 형성하는 단계를 더 포함하는 패턴 형성 방법
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제10항에서,상기 모패턴층은 선격자 형태로 패터닝되는 패턴 형성 방법
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제18항에서,상기 모패턴층은 반사성 금속을 포함하는 패턴 형성 방법
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제10항에서,상기 실린더형의 제1 블록 공중합체는 헥사고널 타입의 단위체를 형성하는 패턴 형성 방법
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