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(a) 표면에 마이크로-나노 패턴이 형성된 마스터 몰드를 고분자 시트(Polymer Sheet) 상부에 위치시키는 단계;(b)핫 엠보싱(Hot-embossing) 방법으로 상기 마스터 몰드에 형성된 마이크로-나노 패턴을 상기 고분자 시트 표면에 전사하는 단계; 및(c)상기 마스터 몰드와 상기 고분자 시트를 분리하는 단계를 포함하며,상기 (b)단계는 (b1)상기 마스터 몰드와 고분자 시트를 접촉시키고, 상기 고분자 시트의 유리전이온도(Tg)보다 높은 온도로 가열하는 단계;(b2)압력을 가하여 상기 마스터 몰드 표면에 형성된 마이크로-나노 패턴을 상기 고분자 시트 표면에 전사하는 단계; 및(b3)온도를 상기 고분자 시트의 유리전이온도(Tg)보다 낮은 온도로 낮추고, 상기 마스터 몰드와 고분자 시트를 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로-나노 패턴 형성방법
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(a)기판 위에 용융 상태의 레진을 도포하는 단계;(b)표면에 마이크로-나노 패턴이 형성된 마스터 몰드를 상기 기판 상부에 위치시키는 단계;(c)압력을 가하여 상기 마스터 몰드를 상기 기판에 압착시켜, 상기 마스터 몰드 표면에 형성된 마이크로-나노 패턴 내부에 상기 레진을 충진시키는 단계;(d)상기 레진을 경화시켜, 상기 기판 표면에 마이크로-나노 패턴을 형성하는 단계; 및(e)상기 마스터 몰드와 상기 기판을 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로-나노 패턴 형성방법
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 마스터 몰드에 형성된 마이크로-나노 패턴은 N-faced N-type GaN 기판을 KOH 수용액에서 습식 식각하여 형성된 것을 특징으로 하는 마이크로-나노 패턴 형성방법
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 마이크로-나노 패턴은 광결정 패턴인 것을 특징으로 하는 마이크로-나노 패턴 형성방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자 시트는 PC(polycarbonatee), PMMA(polymethylmethacrylate), PVC(poly vinyl chloride) 또는 PE(polyethylene)인 것을 특징으로 하는 마이크로-나노 패턴 형성방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자 시트는 도광판, 확산필름 또는 프리즘 시트인 것을 특징으로 하는 마이크로-나노 패턴 형성방법
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청구항 2에 있어서, 상기 기판은 도광판, 확산필름 또는 프리즘 시트인 것을 특징으로 하는 마이크로-나노 패턴 형성방법
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청구항 1에 있어서,상기 (b2)단계의 압력은 1atm 내지 20atm인 것을 특징으로 하는 마이크로-나노 패턴 형성방법
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청구항 2에 있어서,상기 (c)단계의 압력은 1 내지 20atm인 것을 특징으로 하는 마이크로-나노 패턴 형성방법
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10
청구항 1 또는 2의 패턴 형성방법에 따라 형성된 마이크로-나노 패턴이 표면에 형성되어 있는 광학 소자
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청구항 10에 있어서, 상기 광학 소자는 도광판, 확산필름 또는 프리즘 시트인 것을 특징으로 하는 광학 소자
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