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복수개의 나노 에미터들 및 캐소드를 포함하는 전자빔 발생부;상기 전자빔 발생부에서 방출된 전자빔을 집속시키는 제1 집속 전극;상기 제1 집속 전극에서 집속된 상기 전자빔을 편향시키는 편향기;상기 편향기에서 편향된 상기 전자빔의 진행을 제한하는 제한 전극; 및상기 전자빔이 조사되어 엑스선을 방출하는 아노드를 포함하고,상기 제한 전극은 상기 전자빔이 통과할 수 있는 제한 개구를 포함하는 엑스선 영상 장치
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제 1 항에 있어서,상기 나노 에미터들에 전계를 가하는 게이트 전극을 더 포함하는 엑스선 영상 장치
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제 1 항에 있어서,상기 아노드에서 방출되는 엑스선을 이용하여 엑스선 영상을 획득하는 영상 획득부를 더 포함하는 엑스선 영상 장치
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제 1 항에 있어서,상기 편향기는 상기 전자빔이 지나는 전자빔 경로를 사이에 두고 서로 이격되는 전극들, 및상기 전극들에 전압을 인가하는 전압원을 포함하는 엑스선 영상 장치
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제 1 항에 있어서,상기 편향기는 상기 전자빔이 지나는 전자빔 경로를 사이에 두고 서로 이격되는 코일들, 및상기 코일들에 전류를 제공하는 전류원을 포함하는 엑스선 영상 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제한 개구를 통과한 전자빔을 집속시키는 제2 집속 전극을 더 포함하는 엑스선 영상 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제한 전극은 상기 제한 전극에 흐르는 전류를 측정하는 전류계를 더 포함하는 엑스선 영상 장치
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전자빔 발생부에서 복수개의 전자빔들을 방출하는 전자빔 방출 단계;제한 전극을 이용하여 상기 전자빔 발생부에서 방출된 전자빔들의 진행을 제한하는 전자빔 제한 단계; 및상기 전자빔들 중 적어도 일부를 아노드에 조사하는 아노드 조사 단계를 포함하고,상기 제한 전극은 상기 전자빔들이 통과할 수 있는 제한 개구를 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 8 항에 있어서,상기 전자빔 제한 단계는,상기 전자빔 발생부에서 방출된 전자빔들 중 하나의 전자빔이 상기 제한 개구를 통과하는 것을 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 8 항에 있어서,상기 전자빔 제한 단계는,제1 집속 전극을 이용하여 상기 전자빔 발생부에서 방출된 전자빔들을 집속하는 것을 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 10 항에 있어서,상기 전자빔 제한 단계는,편향기를 이용하여 상기 제1 집속 전극에서 집속된 전자빔들을 편향시키는 것을 더 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 11 항에 있어서,상기 전자빔 제한 단계는,상기 제한 전극에 흐르는 전류를 측정하여 상기 제한 전극의 전류 강도맵을 획득하는 것을 더 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 12 항에 있어서,상기 전자빔들을 집속하는 것은,상기 전류 강도맵이 선명한지 판단하는 것, 및 상기 제1 집속 전극을 제어하여 상기 전자빔들의 집속을 조절하는 것을 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 13 항에 있어서,상기 전자빔들의 집속을 조절하는 것은,상기 제한 개구의 하면과 동일한 레벨에서 상기 전자빔들의 평면적 면적이 최소가 되도록 상기 전자빔들의 집속을 조절하는 것을 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 12 항에 있어서,상기 제1 집속 전극에서 집속된 전자빔들을 편향시키는 것은,상기 전류 강도맵에서 가장 어두운 스팟에 대응되도록 상기 편향기를 제어하는 것을 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 15 항에 있어서,상기 편향기를 제어하는 것은,상기 편향기의 전압원의 전압의 크기를 최적화하는 것을 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 15 항에 있어서,상기 편향기를 제어하는 것은,상기 편향기의 전류원의 전류의 크기를 최적화하는 것을 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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제 9 항에 있어서,상기 아노드 조사 단계는,제2 집속 전극을 이용하여 상기 하나의 전자빔을 집속하는 것을 포함하는 엑스선 영상 장치의 구동 방법
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