맞춤기술찾기

이전대상기술

절연체 나노 도트를 포함하는 상변화 메모리 소자 및 그제조 방법

  • 기술번호 : KST2015081064
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 절연체 나노 도트 구조를 이용하여 상변화 재료층과 전극층과의 접촉 면적을 줄이는 상변화 메모리 소자 및 그 제조 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 상변화 메모리 소자는 제1 전극층과, 상기 제1 전극층 위에 형성된 발열성 금속 전극층과, 상기 발열성 금속 전극층의 일부인 제1 영역 내에서 상기 발열성 접촉 영역과 접촉하고 있는 상변화 재료층과, 상기 상변화 재료층중 상기 발열성 금속 전극층과 접하는 측의 반대측에 접해 있는 제2 전극층을 포함한다. 상기 제1 영역 내에서 상기 발열성 금속 전극층과 상기 상변화 재료층과의 사이에는 이들의 접촉 면적을 감소시키기 위한 복수의 절연체 나노 도트가 형성되어 있다. 절연체 나노 도트, 상변화 재료층, 접촉 면적
Int. CL H01L 27/115 (2011.01) B82Y 10/00 (2011.01)
CPC H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01)
출원번호/일자 1020050107617 (2005.11.10)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0687755-0000 (2007.02.21)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070227) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.11.10)
심사청구항수 14

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 윤성민 대한민국 대전 서구
2 최규정 대한민국 대전 유성구
3 이남열 대한민국 대전 유성구
4 류상욱 대한민국 대전 유성구
5 박영삼 대한민국 대전 서구
6 이승윤 대한민국 대전 유성구
7 유병곤 대한민국 대전 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.11.10 수리 (Accepted) 1-1-2005-0647629-14
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.08.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.09.14 수리 (Accepted) 9-1-2006-0056700-51
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.11.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0700664-72
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2007.01.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0046097-18
6 의견서
Written Opinion
2007.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2007-0046096-73
7 등록결정서
Decision to grant
2007.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0062575-53
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1 전극층과, 상기 제1 전극층 위에 형성된 발열성 금속 전극층과, 상기 발열성 금속 전극층 위에 형성되고 상기 발열성 금속 전극층의 일부인 제1 영역을 노출시키는 개구가 형성되어 있는 절연막 패턴과, 상기 제1 영역중 일부 영역에서 상기 발열성 금속 전극층과 상기 상변화 재료층과의 전기적 접촉을 막기 위하여 상기 발열성 금속 전극층의 표면에 형성되어 있는 복수의 절연체 나노 도트와, 상기 개구 내에서 상기 복수의 절연체 나노 도트 및 상기 발열성 금속 전극층 위에 형성되어 있고, 상기 제1 영역중 상기 복수의 절연체 나노 도트 사이로 노출되는 접촉 영역에서만 상기 발열성 금속 전극층과 전기적으로 접촉 가능한 상변화 재료층과, 상기 상변화 재료층중 상기 발열성 금속 전극층과 접하는 측의 반대측에 접해 있는 제2 전극층을 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 발열성 금속 전극층과 상기 상변화 재료층은 상기 복수의 절연체 나노 도트중 상호 인접한 절연체 나노 도트들에 의해 둘러싸이는 부분에서 상호 접촉되는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
4 4
제1항에 있어서, 상기 절연체 나노 도트는 금속 산화물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
5 5
제1항에 있어서, 상기 절연체 나노 도트는 실리콘 질화물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
6 6
제1항에 있어서, 상기 복수의 절연체 나노 도트는 각각 반구 형태를 가지는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
7 7
제6항에 있어서, 상기 복수의 절연체 나노 도트는 각각 10 nm 이하의 반경 사이즈를 가지는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
8 8
제1항에 있어서, 상기 상변화 재료층은 칼코게나이드 계열의 금속 원소의 합금으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자
9 9
상면에 제1 전극층이 형성된 기판을 준비하는 단계와, 상기 제1 전극층 위에 발열성 금속 전극층을 형성하는 단계와, 상기 발열성 금속 전극층 위에 상기 발열성 금속 전극층의 일부인 제1 영역을 노출시키는 개구가 형성된 절연막 패턴을 형성하는 단계와, 상기 개구 내에서 상기 발열성 금속 전극층 위에 복수의 절연체 나노 도트를 형성하되, 상기 복수의 절연체 나노 도트중 상호 인접한 절연체 나노 도트들 사이의 접촉 영역에서 상기 발열성 금속 전극층을 노출시키도록 상기 복수의 절연체 나노 도트를 형성하는 단계와, 상기 접촉 영역에서만 상기 발열성 금속 전극층과 전기적 접촉이 가능하도록 상기 복수의 절연체 나노 도트 및 상기 발열성 금속 전극층 위에 상변화 재료층을 형성하는 단계와, 상기 상변화 재료층의 상면에 접하는 제2 전극층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조 방법
10 10
제9항에 있어서, 복수의 절연체 나노 도트를 형성하는 단계는 상기 제1 영역에서 상기 발열성 금속 전극층 위에 금속층을 형성하는 단계와, 질소(N2) 분위기에서의 열처리에 의해 상기 금속층으로부터 복수의 금속 나노 도트를 형성하는 단계와, 산소(O2) 분위기에서의 열처리에 의해 상기 복수의 금속 나노 도트로부터 상기 복수의 절연체 나노 도트를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조 방법
11 11
제10항에 있어서, 상기 질소(N2) 분위기에서의 열처리 및 산소(O2) 분위기에서의 열처리는 각각 상기 금속층의 구성 물질의 녹는점 보다 낮은 온도에서 행해지는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조 방법
12 12
제9항에 있어서, 복수의 절연체 나노 도트를 형성하는 단계는 원자층 증착법을 이용하여 상기 제1 영역에서 상기 발열성 금속 전극층 위에 나노 도트 형태의 금속 산화막을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조 방법
13 13
제9항에 있어서, 상기 복수의 절연체 나노 도트를 형성하는 단계는 상기 제1 영역에서 상기 발열성 금속 전극층 위에 복수의 실리콘 나노 도트를 형성하는 단계와, 상기 복수의 실리콘 나노 도트를 질화시켜 복수의 실리콘 질화물 나노 도트를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조 방법
14 14
제13항에 있어서, 상기 복수의 실리콘 나노 도트를 질화시키기 위하여 질소 라디칼을 이용하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조 방법
15 15
제9항에 있어서, 상기 복수의 절연체 나노 도트를 형성하는 단계는 화학적 기상 증착법을 이용하여 나노 도트 형태의 실리콘 질화막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화 메모리 소자의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.