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인가하는 자기장의 세기가 증가할수록 유효 스프링 상수(keff)가 증가하는,스프링 상수 가변형 자기 스프링
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제1항에 있어서,상기 인가하는 자기장의 세기와 상기 유효 스프링 상수의 증가는 선형(linear) 관계인, 스프링 상수 가변형 자기 스프링
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제1항에 있어서,상기 스프링 상수 가변형 자기 스프링은 코일 스프링 형상을 가지는, 스프링 상수 가변형 자기 스프링
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제1항에 있어서,상기 스프링 상수 가변형 자기 스프링은 탄성 매트릭스에 복수의 자성 나노 입자가 일 방향으로 정렬된 상태로 경화된 것인, 스프링 상수 가변형 자기 스프링
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제4항에 있어서,복수의 상기 자성 나노 입자는 자기 체인(magnetic chain)을 형성한 상태로 경화된 탄성 매트릭스에 고정된 것인, 스프링 상수 가변형 자기 스프링
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제4항에 있어서,상기 스프링 상수 가변형 자기 스프링은,(a) 탄성 매트릭스에 복수의 자성 나노 입자를 혼합한 복합체를 준비하는 단계;(b) 상기 복합체를 몰드에 주입하는 단계;(c) 상기 몰드의 일 방향으로 자기장을 인가하면서 상기 탄성 매트릭스를 경화하는 단계를 통해 제조되는, 스프링 상수 가변형 자기 스프링
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제5항에 있어서,상기 (c) 단계에서 자기장의 인가 방향과 평행한 방향으로 상기 탄성 매트릭스 내의 상기 복수의 자성 나노 입자가 자기 체인(magnectic chain)을 형성하고,상기 탄성 매트릭스의 경화가 완료되면 상기 자기 체인의 형태가 고정되는, 스프링 상수 가변형 자기 스프링
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제4항에 있어서,상기 자성 나노 입자는 평균 직경이 50nm 내지 100nm인 Magnetite(Fe3O4) 나노 입자인, 스프링 상수 가변형 자기 스프링
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제4항에 있어서,상기 탄성 매트릭스는 실리콘 폴리머 재질을 포함하는, 스프링 상수 가변형 자기 스프링
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제1항에 있어서,상기 스프링 상수 가변형 자기 스프링의 유효 스프링 상수(keff)는,이며,k0는 자기장이 인가되지 않는 상태에서 스프링 자체 복원력에 의한 스프링 상수, N은 자성 나노 입자의 수, m은 자화(magnetization), μ0는 투자율(permeability), H는 자기장(magnetic field), n은 코일 감김수, D는 코일 지름(coil diameter)인, 스프링 상수 가변형 자기 스프링
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